pH响应抗污改性材料及改性的隐形矫正材料和制备方法

摘要

本发明公开了pH响应抗污改性材料及改性的隐形矫正材料和制备方法，将CBMA溶解在水中得到水溶液中；将DMAEMA溶于三乙二醇中得到三乙二醇溶液；将水溶液和三乙二醇溶液混合，形成混合溶液；向混合溶液中加入光引发剂I‑2959，得到混合物溶液Ⅰ；向异丙醇和丙酮的混合溶液中加入光引发剂BP得到混合物溶液Ⅱ；将隐形矫正材料放入混合物溶液Ⅱ中短时间浸泡；将混合物溶液Ⅰ滴到的隐形矫正材料上，放置于紫外光下照射；将得到的材料放入去离子水中浸泡，即得到改性的隐形矫正材料。本发明在矫正材料表面原位构建涂层，使得矫正材料与水形成水合层，体现出很好的抗污性能，当pH下降涂层会呈现正电性，吸附细菌，维持菌落平衡。

权利要求

1.pH响应抗污改性材料，其特征在于，由以下原料制成：3‑[[2‑(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基铵]丙酸酯CBMA、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯DMAEMA、光引发剂、三乙二醇和水；其中CBMA与DMAEMA的用量为1.14 g/1.4 μL，或1.15 g/1.4 μL，或1.16 g/1.4 μL，或1.14 g/

1.5 μL，或1.16 g/1.6 μL。

2.根据权利要求1所述的pH响应抗污改性材料，其特征在于，所述光引发剂为2‑羟基‑

2‑甲基‑1‑[4‑(2‑羟基乙氧基)苯基]‑1‑丙酮I‑2959和二苯甲酮BP。

3.根据权利要求1或2所述的pH响应抗污改性材料的应用，其特征在于，作为隐形矫正材料的改性涂层。

4.改性的隐形矫正材料，其特征在于，隐形矫正材料表面有改性涂层，所述的改性涂层为权利要求1或2所述的pH响应抗污改性材料。

5.根据权利要求4所述的改性的隐形矫正材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将CBMA单体溶解在水中得到水溶液中；将DMAEMA单体溶于三乙二醇中得到三乙二醇溶液；

S2、将所述水溶液和三乙二醇溶液混合，充分搅拌，形成混合溶液；

S3、向混合溶液中加入光引发剂I‑2959，得到混合物溶液Ⅰ；

S4、向异丙醇和丙酮的混合溶液中加入光引发剂BP得到混合物溶液Ⅱ；

S5、将隐形矫正材料放入混合物溶液Ⅱ中短时间浸泡；

S6、将混合物溶液Ⅰ滴到浸泡过的隐形矫正材料上，放置于紫外光下照射；

S7、将得到的材料放入去离子水中浸泡，即得到改性的隐形矫正材料。

6.一种改性的隐形矫正牙套，其特征在于，隐形矫正牙套表面有改性涂层，所述的改性涂层为权利要求1或2所述的pH响应抗污改性材料。

7.根据权利要求6所述的一种改性的隐形矫正牙套的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将CBMA单体溶解在水中得到水溶液中；将DMAEMA单体溶于三乙二醇中得到三乙二醇溶液；

S2、将所述水溶液和三乙二醇溶液混合，充分搅拌，形成混合溶液；

S3、向混合溶液中加入光引发剂I‑2959，得到混合物溶液Ⅰ；

S4、向异丙醇和丙酮的混合溶液中加入光引发剂BP得到混合物溶液Ⅱ；

S5、将隐形矫正牙套放入混合物溶液Ⅱ中短时间浸泡；

S6、将混合物溶液Ⅰ滴到浸泡过的隐形矫正材料上，放置于紫外光下照射；

S7、将得到的材料放入去离子水中浸泡，即得到改性的隐形矫正牙套。

说明书

pH响应抗污改性材料及改性的隐形矫正材料和制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及口腔高分子材料领域，具体涉及pH响应抗污改性材料及改性的隐形矫正材料和制备方法。

背景技术

[0002] 牙齿畸形是指儿童在生长发育过程中由先天的遗传因素或后天的环境因素造成的牙齿、颔骨、颅面的畸形，也是口腔常见的三大疾病之一。面对口腔畸形的治疗，一般可分为两大类：一类是以金属弓丝为代表的传统正畸手段；另一类是以透明牙套为代表的隐形矫正手段。随着人民生活水平的不断提高，人们对美的要求也越来越高，患者也更多的会选择隐形矫正。因此近几年，隐形矫正行业发展迅猛。

[0003] 然而，通过对隐形矫正所需佩戴的牙套研究发现，牙套内侧有一圈圈螺纹状的结构，用扫描电镜进一步放大观察，在牙套的材料的咬合处，留有大约20μm宽的缝隙。这种螺纹状结构以及缝隙就会为细菌初期的定植及繁殖提供了场所。患者在正畸治疗过程中，每天需佩戴牙套20小时以上，只有吃饭和清洗牙套时才可以取下。因此，如果没有对牙套及时清洗或清洗不彻底，就会在牙套上滋生细菌，并进一步危害牙齿健康。

[0004] 综上所述，现在所使用的隐形矫正的牙套在设计时忽略了人为因素可能导致的细菌残留并可能进一步损害牙齿健康的问题。因此，对于隐形矫正材料抗污改性的制备，如何使改性材料具有一种抗污的特性，从普通牙套材料表面转变为抗污的表面，尽可能减小人为因素对牙齿健康的影响。

发明内容

[0005] 本发明的目的在于提供pH响应抗污改性材料及改性的隐形矫正材料和制备方法，以解决现有技术中牙套的材料的咬合处存在的缝隙易导致细菌定植和繁殖的问题，正常环境下提高隐形矫正牙套的抗污能力，减少隐形矫正牙套上的细菌残留，并在细菌过多、pH下降时，具有一定的捕获细菌的功能，有利于维持牙齿上细菌菌落平衡，保护牙齿健康。

[0006] 本发明通过下述技术方案实现：

[0007] pH响应抗污改性材料，由以下原料制成：3‑[[2‑(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基铵]丙酸酯CBMA、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯DMAEMA、光引发剂、三乙二醇和水。

[0008] 所述的pH响应抗污改性材料，所述光引发剂为2‑羟基‑2‑甲基‑1‑[4‑(2‑羟基乙氧基)苯基]‑1‑丙酮I‑2959和二苯甲酮BP。

[0009] 所述的pH响应抗污改性材料的应用，作为隐形矫正材料的改性涂层。

[0010] 本发明还提供改性的隐形矫正材料，隐形矫正材料表面有改性涂层，所述的改性涂层为所述的pH响应抗污改性材料。

[0011] 所述的改性的隐形矫正材料的制备方法，包括以下步骤：

[0012] S1、将CBMA单体溶解在水中得到水溶液中；将DMAEMA单体溶于三乙二醇中得到三乙二醇溶液；

[0013] S2、将所述水溶液和三乙二醇溶液混合，充分搅拌，形成混合溶液；

[0014] S3、向混合溶液中加入光引发剂I‑2959，得到混合物溶液Ⅰ；

[0015] S4、向异丙醇和丙酮的混合溶液中加入光引发剂BP得到混合物溶液Ⅱ；

[0016] S5、将隐形矫正材料放入混合物溶液Ⅱ中短时间浸泡；

[0017] S6、将混合物溶液Ⅰ滴到浸泡过的隐形矫正材料上，放置于紫外光下照射；

[0018] S7、将得到的材料放入去离子水中浸泡，即得到改性的隐形矫正材料。

[0019] 隐形矫正材料可以为隐形矫正牙套。

[0020] 本发明提供一种改性的隐形矫正牙套，隐形矫正牙套表面有改性涂层，所述的改性涂层为所述的pH响应抗污改性材料。

[0021] 所述的一种改性的隐形矫正牙套的制备方法，包括以下步骤：

[0022] S1、将CBMA单体溶解在水中得到水溶液中；将DMAEMA单体溶于三乙二醇中得到三乙二醇溶液；

[0023] S2、将所述水溶液和三乙二醇溶液混合，充分搅拌，形成混合溶液；

[0024] S3、向混合溶液中加入光引发剂I‑2959，得到混合物溶液Ⅰ；

[0025] S4、向异丙醇和丙酮的混合溶液中加入光引发剂BP得到混合物溶液Ⅱ；

[0026] S5、将隐形矫正牙套放入混合物溶液Ⅱ中短时间浸泡；

[0027] S6、将混合物溶液Ⅰ滴到浸泡过的隐形矫正材料上，放置于紫外光下照射；

[0028] S7、将得到的材料放入去离子水中浸泡，即得到改性的隐形矫正牙套。

[0029] 进一步地，改性的隐形矫正牙套的制备方法，包括以下步骤：

[0030] (1)将1.14～1.16g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0031] (2)将1.4～1.6μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0032] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂2‑羟基‑2‑甲基‑1‑[4‑(2‑羟基乙氧基)苯基]‑1‑丙酮(I‑2959)5～10mg；

[0033] (4)将400～600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0034] (5)将隐形矫正材料浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3～5分钟；

[0035] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应30～60分钟。

[0036] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0037] 3‑[[2‑(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基铵]丙酸酯单体是一种在中性条件下总电荷为0、电中性的两性离子，且带正电和负电的原子位置不同，在酸性条件下，羧酸根会电离，整个分子呈正电性。

[0038] 甲基丙烯酸二甲氨基乙酯是带正电荷的分子，其可以调节在隐形矫正材料上形成的CBMA涂层的电荷。通过将隐形矫正材料浸泡在含有油溶性引发剂的异丙醇/丙酮混合溶剂中，将油溶性引发剂固定在隐形矫正材料表面，再涂覆CBMA/DMAEMA混合溶液后，紫外引发聚合，将涂层固定到隐形矫正材料表面。

[0039] 通过pH响应抗污改性材料作为涂层改性后，涂层的厚度能够覆盖隐形矫正牙套咬合处的缝隙，从而大幅缩小了细菌初期定植的场所；同时，CBMA在中性条件下的抗污性能使得水凝胶涂层具备优异的抗污效果，进一步减少隐形矫正牙套上的细菌残留。面对由于清洁不及时、不彻底导致的细菌繁殖及对牙齿造成的危害时，pH响应抗污改性材料可以使牙套具有抗细菌抗蛋白粘附的效果，且牙套在水中更容易清洁，保护牙齿健康；当细菌繁殖过多时，细菌代谢产生的酸会使环境pH下降，此时涂层会呈现正电性，吸附细菌，有利于维持菌落平衡。此外，pH响应抗污改性材料涂层不会对隐形材料本身的力学性能、透光性等性能产生影响，确保了牙齿矫正的矫正效果。

[0040] 由此可见，pH响应抗污改性材料，在CBMA单体与DMAEMA聚合后，在牙套表面原位构建胶涂层，使得牙套在佩戴时能够与水形成水合层，在正常口腔环境内体现出很好的抗污性能，进一步减少隐形矫正牙套上的细菌残留，使牙套具有抗细菌抗蛋白粘附的效果，且牙套在水中更容易清洁；同时，当细菌繁殖过多时，细菌代谢产生的酸会使环境pH下降，此时涂层会呈现正电性，吸附细菌，有利于维持菌落平衡。

[0041] 本发明通过将pH响应抗污改性材料涂覆于牙套表面，能够涂覆牙套咬合处由于制造工艺而存在的大约20μm宽的缝隙。并且，pH响应抗污改性材料涂层不仅自身具备优异的抗污性能，在牙套佩戴时，当细菌繁殖过多时，细菌代谢产生的酸会使环境pH下降，此时涂层会呈现正电性，吸附细菌，有利于维持菌落平衡。

[0042] 本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

[0043] (1)形成的抗污涂层能覆盖隐形矫正牙套咬合处的缝隙，而这种缝隙是由于生产工艺产生的，难以彻底消除。这也就消除了细菌初期定植的场所。

[0044] (2)用此种方式形成的抗污涂层，不会对隐形矫正材料本身的力学性能、透光性等性能产生影响，保证了牙齿矫正的矫正效果。

[0045] (3)此涂层所用单体在中性pH条件下具有抗污的作用，阻止细菌黏附和生物膜的生长。在酸性pH条件下具有吸附细菌的作用，并具有一定的杀菌效果，保持口腔健康。

[0046] (4)此涂层的制备条件温和，工艺较简单，操作方便，成本低，且可以在任意形状的表面上形成，可塑性强。

[0047] (5)本发明的水凝胶涂层涂覆于牙套的咬合处，能够涂覆牙套上由于螺纹状结构所产生的约20μm宽的缝隙，减少了细菌的滋生。

附图说明

[0048] 此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中：

[0049] 图1为本发明具体实施例10中所得pH响应的隐形矫正材料的表面Zeta电位图；

[0050] 图2为本发明具体实施例10中所得pH响应的隐形矫正材料的水下接触角图；

[0051] 图3为本发明抗污效果检测实验中抗变异链球菌粘附效果及酸性条件下对细菌吸附的实验数据，其中，Uncoating为未涂覆有抗污改性涂层的膜片，Coating为涂覆有本发明的pH响应的隐形矫正材料；

[0052] 图4为本发明具体实施例10中所得pH响应的隐形矫正材料的透光性测试图；

[0053] 图5为本发明具体实施例10中pH响应的隐形矫正材料的拉伸测试数据图；

[0054] 图6为本发明具体实施例10中pH响应的隐形矫正材料的拉伸强度统计图；

[0055] 图7为本发明具体实施例10中pH响应的隐形矫正材料的弹性模量统计图。

具体实施方式

[0056] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。

[0057] 本发明所有原料，对其来源没有特别限制，在市场上购买的或按照本领域技术人员熟知的常规方法即可制备。

[0058] 本发明所有原料，对其纯度没有特别限制，本发明优选采用分析纯或水凝胶制备领域常规的纯度要求。

[0059] 本发明所有原料，其牌号和简称均属于本领域常规牌号和简称，每个牌号和简称在其相关用途的领域内均是清楚明确的，本领域技术人员根据牌号、简称以及相应的用途，能够从市售中购买得到或者通过常规方法制备得到。

[0060] 实施例1至实施例10描述了pH响应的隐形矫正材料制备方法，所述抗污水凝胶的原料包括3‑[[2‑(甲基丙烯酰氧)乙基]二甲基铵]丙酸酯(CBMA)、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯(DMAEMA)、光引发剂、三乙二醇和水。

[0061] 实施例1

[0062] (1)将1.14g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0063] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0064] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0065] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0066] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0067] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0068] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0069] 实施例2

[0070] (1)将1.15g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0071] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0072] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0073] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0074] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0075] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0076] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0077] 实施例3

[0078] (1)将1.16g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0079] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0080] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0081] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0082] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0083] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0084] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0085] 实施例4

[0086] (1)将1.16g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0087] (2)将1.6μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0088] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0089] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0090] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0091] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0092] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0093] 实施例5

[0094] (1)将1.15g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0095] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0096] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0097] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0098] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0099] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应30分钟。

[0100] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0101] 实施例6

[0102] (1)将1.15g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0103] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0104] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0105] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0106] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中5分钟；

[0107] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0108] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0109] 实施例7

[0110] (1)将1.15g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0111] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0112] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 5mg；

[0113] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0114] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0115] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0116] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0117] 实施例8

[0118] (1)将1.15g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0119] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0120] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0121] (4)将400mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0122] (5)将牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0123] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0124] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0125] 实施例9

[0126] (1)将1.15g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0127] (2)将1.4μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0128] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 5mg；

[0129] (4)将400mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0130] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0131] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0132] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0133] 实施例10

[0134] (1)将1.14g CBMA加入0.5ml去离子水溶液中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0135] (2)将1.5μl的DMAEMA加入0.5ml的三乙二醇中，充分搅拌，形成均匀的混合溶液；

[0136] (3)室温下，将步骤(2)形成的均匀混合液迅速转移至步骤(1)的溶液中，加入引发剂I‑2959 10mg；

[0137] (4)将600mg的二苯甲酮加入30ml的异丙醇/丙酮＝9:1的混合溶剂中；

[0138] (5)将隐形矫正牙套浸入步骤(4)所得的混合溶剂中3分钟；

[0139] (6)将步骤(3)得到的混合溶液涂覆到步骤(5)所得的隐形矫正材料上，并在紫外照射下反应60分钟。

[0140] (7)将步骤(6)所得的材料浸泡在去离子水中24小时。

[0141] 实施例10中所得pH响应的隐形矫正材料的表面Zeta电位图、水下接触角图分别如图1和图2所示。

[0142] 图3为实施例10中所得材料抗污效果检测实验中抗变异链球菌粘附效果及酸性条件下对细菌吸附的实验数据，其中，Uncoating为未涂覆有抗污改性涂层的膜片，Coating为涂覆有本发明的pH响应的隐形矫正材料；

[0143] 所得pH响应的隐形矫正材料的透光性测试图、拉伸测试数据图、拉伸强度统计图、弹性模量统计图分别如图4到图7所示。

[0144] 以上所述的具体实施方式，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施方式而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。