一种磁悬浮式光刻机掩模台

摘要

本发明涉及光刻机设备技术领域，公开了一种磁悬浮式光刻机掩模台，其包括基座、微动台、掩模版，基座上表面设有驱动机构和磁悬浮导轨，磁悬浮导轨为长条状，两条磁悬浮导轨互相平行，每条磁悬浮导轨朝向另一磁悬浮导轨一侧设有导轨凹槽；微动台设有安装位，微动台上表面设有四个上电磁铁，上电磁铁以矩形分布，四个上电磁铁位于矩形四个边角位置，微动台下表面设有四个下电磁铁，下电磁铁与上电磁铁的位置一一对应，微动台悬浮于两条磁悬浮导轨之间，上电磁铁和下电磁铁位于导轨凹槽内，驱动机构驱动微动台做多自由度精密运动；掩模版安装于安装位；控制电路，其用于控制每个上电磁铁和每个下电磁铁的磁力大小，实现了微动台多自由度位姿调整。

权利要求

1.一种磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于，包括：

基座，所述基座上表面固设有驱动机构和一对磁悬浮导轨，所述磁悬浮导轨为长条状，且两条磁悬浮导轨互相平行，每条磁悬浮导轨朝向另一磁悬浮导轨的一侧设有导轨凹槽；

微动台，所述微动台上设有安装位，所述微动台的上表面设有四个上电磁铁，所述上电磁铁以矩形分布，所述微动台的下表面设有四个下电磁铁，所述下电磁铁位于所述上电磁铁正下方且与所述上电磁铁的位置一一对应，所述微动台通过四个所述上电磁铁和四个所述下电磁铁悬浮于两条磁悬浮导轨之间，且所述上电磁铁和所述下电磁铁都位于所述导轨凹槽内，所述驱动机构驱动微动台运动；

掩模版，所述掩模版安装于所述安装位；以及

控制电路，所述控制电路用于控制每个上电磁铁和每个下电磁铁的磁力大小，改变上电磁铁和下电磁铁之间的差动磁悬浮力，用于控制微动台沿Z、Rx、Ry三个自由度位姿调整。

2.根据权利要求1所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述驱动机构包括运动控制装置，所述运动控制装置包括第一直线电机，第二直线电机和第三直线电机，所述第三直线电机位于所述第一直线电机和所述第二直线电机之间，所述第一直线电机和所述第二直线电机驱动所述微动台沿y轴运动，所述第三直线电机驱动所述微动台沿x轴运动。

3.根据权利要求2所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述第一直线电机的行程、所述第二直线电机的行程和所述第三直线电机的行程为正负1－3mm。

4.根据权利要求2所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述驱动机构还包括宏动直线电机和宏动台，所述宏动直线电机的定子固定于基座上，所述宏动直线电机的动子与宏动台相固定，运动控制装置固定于宏动台，所述宏动直线电机驱动所述宏动台沿y轴运动。

5.根据权利要求4所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述宏动直线电机的行程为正负5－10mm。

6.根据权利要求1所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述安装位上设有用于吸附掩模版的真空吸盘，所述微动台内设有通气管道，所述通气管道与所述真空吸盘连通，所述通气管道内的气压为负0.04‑0.08MPa。

7.根据权利要求6所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述真空吸盘包括凸块和通气孔，所述凸块位于所述微动台上表面，所述凸块上凹设有凹槽，所述通气孔位于所述凹槽底面，所述通气孔与所述通气管道相连通。

8.根据权利要求7所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述通气孔的直径为1‑

3mm，所述凸块为长条状，所述凸块长50‑54mm，宽4‑6mm，高12‑17mm。

9.根据权利要求6所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述真空吸盘为四个，四个真空吸盘呈矩形分布，且每个真空吸盘位于掩模版的边角处。

10.根据权利要求9所述的磁悬浮式光刻机掩模台，其特征在于：所述通气管道包括四条第一气路、两条第二气路和一条第三气路，每条第一气路与一个真空吸盘相连通，其中两条第一气路通过一条第二气路相连通，另外两条第一气路通过另一条第二气路相连通，两条第二气路通过所述第三气路相连通，所述微动台上设有抽气口，其中一条第一气路与所述抽气口相连通。

说明书

一种磁悬浮式光刻机掩模台

技术领域

[0001] 本发明涉及光刻机设备技术领域，特别是涉及一种磁悬浮式光刻机掩模台。

背景技术

[0002] 光刻机的掩模台分系统是光刻机的关键子系统，具有快速步进、精密定位、精确逐场调平调焦和同步扫描的功能。其定位精度及其与工件台的同步精度决定了光刻机的套刻精度，并最终决定了光刻机所能实现的光刻特征线宽。

[0003] 掩模台系统主要包括宏动台和微动台，宏动台完成大行程直线运动，微动台完成高精度微运动与定位。为保证光刻机光刻质量和产片效率，掩模台系统需具备大行程高速、高加速运动功能。传统的滑动导轨、精密滚珠丝杆配合精密运动电机组成的支撑与运动驱动方式，存在机械磨损、粉尘碎末、油污污染等问题，长时间高速高加速度运动会导致精度变差，影响掩模台的运动与定位精度。

[0004] 专利CN101900952“一种采用磁悬浮技术的光刻机掩模台”提出了一种采用磁悬浮技术的光刻机掩模台，主要包括精密导轨、基座、悬浮体等。该掩模台两侧悬浮体采用C型连接件，通过竖直方向4对电磁铁和水平方向2对电磁铁实现掩模台悬浮在导轨上方，通过直线电机动子直接固定在悬浮体上，采用直线电机直接驱动悬浮体实现悬浮体精密直线定位运动。

[0005] 虽然该方案可以实现掩模台大行程直线运动，然而该方案对掩模台直线运动方向自由度以外的其他5个自由度做了限制，使得该方案的微动台不能实现多自由度位姿调整。

发明内容

[0006] 本发明要解决的技术问题是：如何实现微动台多自由度位姿调整。

[0007] 为了解决上述技术问题，本发明提供了一种磁悬浮式光刻机掩模台，其包括基座、微动台、掩模版，以及控制电路；所述基座上表面固设有驱动机构和一对磁悬浮导轨，所述磁悬浮导轨为长条状，且两条磁悬浮导轨互相平行，每条磁悬浮导轨朝向另一磁悬浮导轨的一侧设有导轨凹槽；所述微动台上设有安装位，所述微动台的上表面设有四个上电磁铁，所述上电磁铁以矩形分布，所述微动台的下表面设有四个下电磁铁，所述下电磁铁位于所述上电磁铁正下方且与所述上电磁铁一一对应，所述微动台悬浮于两条磁悬浮导轨之间，且所述上电磁铁和所述下电磁铁都位于所述导轨凹槽内，所述驱动机构驱动微动台运动，使微动台可以做多自由度精密运动；所述掩模版安装于所述安装位；所述控制电路用于控制每个上电磁铁和每个下电磁铁的磁力大小，改变上电磁铁和下电磁铁的差动磁悬浮力。

[0008] 进一步地，所述驱动机构包括运动控制装置，所述运动控制装置包括第一直线电机，第二直线电机和第三直线电机，所述第三直线电机位于所述第一直线电机和所述第二直线电机之间，所述第一直线电机和所述第二直线电机驱动所述微动台沿y轴运动，所述第三直线电机驱动所述微动台沿x轴运动。

[0009] 进一步地，所述第一直线电机的行程、所述第二直线电机的行程和所述第三直线电机的行程为正负1－3mm。

[0010] 进一步地，所述驱动机构还包括宏动直线电机和宏动台，所述宏动直线电机的定子固定于基座上，所述宏动直线电机的动子与宏动台相固定，运动控制装置固定于宏动台，所述宏动直线电机驱动所述宏动台沿y轴运动。

[0011] 进一步地，所述宏动直线电机的行程为正负5－10mm。

[0012] 进一步地，所述安装位上设有用于吸附掩模版的真空吸盘，所述微动台内设有通气管道，所述通气管道与所述真空吸盘连通。

[0013] 进一步地，所述真空吸盘包括凸块和通气孔，所述凸块位于所述微动台上表面，所述凸块上凹设有凹槽，所述通气孔位于所述凹槽底面，所述通气孔与所述通气管道相连通，所述通气管道内的气压为负0.04‑0.08MPa。

[0014] 进一步地，所述通气孔的直径为1‑3mm，所述凸块为长条状，所述凸块长50‑54mm，宽4‑6mm，高12‑17mm。

[0015] 进一步地，所述真空吸盘为四个，四个真空吸盘呈矩形分布，且每个真空吸盘位于掩模版的边角处。

[0016] 进一步地，所述通气管道包括四条第一气路、两条第二气路和一条第三气路，每条第一气路与一个真空吸盘相连通，其中两条第一气路通过一条第二气路相连通，另外两条第一气路通过另一条第二气路相连通，两条第二气路通过所述第三气路相连通，所述微动台上设有抽气口，其中一条第一气路与所述抽气口相连通。

[0017] 设四个上电磁铁以顺时针方向排列分别为第一上电磁铁、第二上电磁铁、第三上电磁铁、第四上电磁铁，其中第一上电磁铁与第四上电磁铁在同一条y轴方向上，四个下电磁铁为第一下电磁铁、第二下电磁铁、第三下电磁铁、第四下电磁铁，所述第一下电磁铁位于第一上电磁铁正下方，第二下电磁铁位于第二上电磁铁正下方，第三下电磁铁位于第三上电磁铁正下方，第四下电磁铁位于第四上电磁铁正下方。

[0018] 其中，所述控制电路调整微动台的Z向自由度方法为：令所有上电磁铁的磁力相同，令所有下电磁铁的磁力相同，通过改变所有上电磁铁和所有下电磁铁的磁力，从而改变微动台的Z向位置，当微动台到达指定Z向自由度位置后，重新调整所有上电磁铁和所有下电磁铁的磁力，使微动台在该位置定位悬浮，从而实现微动台的Z向自由度的位置调整。

[0019] 其中，所述控制电路调整微动台的Rx向自由度方法为：令第一上电磁铁、第二上电磁铁、第一下电磁铁、第二下电磁铁的磁力相同，令第三上电磁铁、第四上电磁铁、第三下电磁铁、第四下电磁铁的磁力相同，通过改变第一上电磁铁和第三上电磁铁的磁力，使得微动台绕x轴微旋转，进而改变微动台的Rx自由度位置，当微动台到达指定Rx向自由度位置后，重新调整所有上电磁铁和所有下电磁铁的磁力，使微动台在该位置定位悬浮，从而实现微调微动台的Rx向自由度位姿。

[0020] 其中，所述控制电路调整微动台的Ry向自由度方法为：令第一上电磁铁、第四上电磁铁、第一下电磁铁、第四下电磁铁的磁力相同，令第二上电磁铁、第三上电磁铁、第二下电磁铁、第三下电磁铁的磁力相同，通过改变第一上电磁铁和第二上电磁铁的磁力，使得微动台绕y轴微旋转，进而改变微动台的Ry自由度位置，当微动台到达指定Ry向自由度位置后，重新调整所有上电磁铁和所有下电磁铁的磁力，使微动台在该位置定位悬浮，从而实现微调微动台的Ry向自由度位姿。

[0021] 本发明实施例一种磁悬浮式光刻机掩模台与现有技术相比，其有益效果在于：通过在微动台上设置四个上电磁铁和四个下电磁铁，改变上电磁铁和下电磁铁的磁力，可以调整微动台Z、Rx、Ry三个自由度位姿，实现微动台多自由度位姿调整的功能。

附图说明

[0022] 图1是本发明一种实施例的结构示意图；

[0023] 图2是微动台和基座的结合图；

[0024] 图3是图2的俯视图；

[0025] 图4是微动台的结构示意图；

[0026] 图5是图4的仰视图；

[0027] 图6是真空吸盘的剖视图；

[0028] 图7是通气管道的结构示意图。

[0029] 图中，1、基座；11、驱动机构；111、第一直线电机；112、第二直线电机；113、第三直线电机；114、宏动直线电机；115、宏动台；12、磁悬浮导轨；121、导轨凹槽；2、微动台；21、安装位；22、真空吸盘；221、凸块；222、通气孔；223、凹槽；23、上电磁铁；231、第一上电磁铁；232、第二上电磁铁；233、第三上电磁铁；234、第四上电磁铁；24、下电磁铁；241、第一下电磁铁；242、第二下电磁铁；243、第三下电磁铁；244、第四下电磁铁；25、通气管道；251、第一气路；252、第二气路；253、第三气路；26、抽气口；3、掩模版。

具体实施方式

[0030] 下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

[0031] 在本发明的描述中，应当理解的是，本发明中采用术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

[0032] 如图1所示，本发明实施例优选实施例的一种磁悬浮式光刻机掩模台，其包括基座1、微动台2、掩模版3、控制电路，所述微动台2可以在所述基座1上同时进行大距离的宏运动和小距离的微运动，所述掩模版3随所述微动台2运动而运动。

[0033] 如图1－5所示，所述基座1上表面固设有驱动机构11和一对磁悬浮导轨12，所述磁悬浮导轨12为长条状，且两条磁悬浮导轨12互相平行，每条磁悬浮导轨12朝向另一磁悬浮导轨12的一侧设有导轨凹槽121，所述磁悬浮导轨12为横截面为C字型的不锈钢导轨。所述微动台2上设有用于透过激光的方孔，所述微动台2上还设有安装位21，所述安装位21在所述方孔上，所述安装位21用于安装所述掩模版3。所述微动台2大致为长方体状，所述微动台2的上表面设有四个上电磁铁23，所述上电磁铁23以矩形分布，四个上电磁铁23位于矩形四个边角位置，且所述上电磁铁23位于所述微动台2的边角，所述微动台2的下表面设有四个下电磁铁24，所述下电磁铁24位于所述上电磁铁23正下方且与所述上电磁铁23的位置一一对应，所述下电磁铁24同样位于所述微动台2的边角。

[0034] 如图2－5所示，所述微动台2悬浮于两条磁悬浮导轨12之间，且所述上电磁铁23和所述下电磁铁24都位于所述导轨凹槽121内，所述磁悬浮导轨12为微动台2提供z轴方向磁悬浮支撑和微动台2沿y轴方向的运动导向功能。其中，位于微动台2同个边角的上电磁铁23和下电磁铁24采用差动磁悬浮方式，实现微动台2的支撑与悬浮。悬浮原理为：设上电磁铁23产生方向向上的磁悬浮吸力为F1，下电磁铁24产生方向向下的磁悬浮吸力F2，∣F1∣＞∣F2∣，且F1与F2方向相反，并且满足如下的力平衡关系：4×(F1+F2)+G＝0

[0035] 其中，G为微动台2的总重力。

[0036] 由于微动台2悬浮于磁悬浮导轨12上，使得微动台2在磁悬浮导轨12上做高速、高加速度运动时具有极低摩擦系数，没有爬行，还具有良好的刚度和较大的承载力。

[0037] 如图1－5所示，所述驱动机构11与所述微动台2相连接，所述驱动机构11可以驱动所述微动台2做y轴方向大距离的宏运动和小距离的微运动，或者做x轴方向小距离的微运动，且不会影响微动台2的z向悬浮。由于所述微动台2磁悬浮于磁悬浮导轨12上，上电磁铁23和下电磁铁24只在z轴方向起到磁悬浮支撑作用，因此微动台2垂直向Z、Rx、Ry自由度未限制。所述掩模版3安装于所述安装位21。所述控制电路用于控制每个上电磁铁23的线圈电流和每个下电磁铁24的线圈电流，从而控制每个上电磁铁23和每个下电磁铁24的磁力大小。所述控制电路通过微调上电磁铁23和下电磁铁24的差动磁悬浮力，可以实现微动台2垂直向Z、Rx、Ry自由度的位姿调整。所述控制电路可以安装在微动台2上或基座1上。

[0038] 如图4－5所示，本发明的工作过程为：设四个上电磁铁23以顺时针方向排列分别为第一上电磁铁231、第二上电磁铁232、第三上电磁铁233、第四上电磁铁234，其中第一上电磁铁231与第四上电磁铁234在同一条y轴方向上，四个下电磁铁24为第一下电磁铁241、第二下电磁铁242、第三下电磁铁243、第四下电磁铁244，所述第一下电磁铁241位于第一上电磁铁231正下方，第二下电磁铁242位于第二上电磁铁232正下方，第三下电磁铁243位于第三上电磁铁233正下方，第四下电磁铁244位于第四上电磁铁234正下方。

[0039] 其中，所述控制电路调整微动台2的Z向自由度方法为：令所有上电磁铁23的磁力相同，令所有下电磁铁24的磁力相同，通过改变所有上电磁铁23和所有下电磁铁24的磁力，从而改变微动台2的Z向位置，当微动台2到达指定Z向自由度位置后，重新调整所有上电磁铁23和所有下电磁铁24的磁力，使微动台2在该位置定位悬浮，从而实现微动台2的Z向自由度位置的调整。

[0040] 其中，所述控制电路调整微动台2的Rx向自由度方法为：令第一上电磁铁231、第二上电磁铁232、第一下电磁铁241、第二下电磁铁242的磁力相同，令第三上电磁铁233、第四上电磁铁234、第三下电磁铁243、第四下电磁铁244的磁力相同，通过改变第一上电磁铁231和第三上电磁铁233的磁力，使得微动台2绕x轴微旋转，进而改变微动台2的Rx自由度位置，当微动台2到达指定Rx向自由度位置后，重新调整所有上电磁铁23和所有下电磁铁24的磁力，使微动台2在该位置定位悬浮，从而实现微调微动台2的Rx向自由度位姿。

[0041] 其中，所述控制电路调整微动台2的Ry向自由度方法为：令第一上电磁铁231、第四上电磁铁234、第一下电磁铁241、第四下电磁铁244的磁力相同，令第二上电磁铁232、第三上电磁铁233、第二下电磁铁242、第三下电磁铁243的磁力相同，通过改变第一上电磁铁231和第二上电磁铁232的磁力，使得微动台2绕y轴微旋转，进而改变微动台2的Ry自由度位置，当微动台2到达指定Ry向自由度位置后，重新调整所有上电磁铁23和所有下电磁铁24的磁力，使微动台2在该位置定位悬浮，从而实现微调微动台2的Ry向自由度位姿。

[0042] 综上，本发明实施例提供一种磁悬浮式光刻机掩模台，其通过在微动台2上设置四个上电磁铁23和四个下电磁铁24，改变上电磁铁23和下电磁铁24的磁力，使微动台2可以在Z、Rx、Ry三个自由度位姿调整，实现微动台2多自由度位姿调整的功能。

[0043] 如图1－3所示，所述驱动机构11包括运动控制装置，所述运动控制装置包括第一直线电机111，第二直线电机112和第三直线电机113，第一直线电机111的动子、第二直线电机112的动子和第三直线电机113的动子都与所述微动台2相固定，所述第三直线电机113位于所述第一直线电机111和所述第二直线电机112之间，所述第一直线电机111和所述第二直线电机112驱动所述微动台2沿y轴运动，所述第三直线电机113驱动所述微动台2沿x轴运动。当微动台2需要绕z轴旋转时，可以通过改变第一直线电机111的行程和第二直线电机112的行程，并使第一直线电机111的行程和第二直线电机112的运动方向不同，导致微动台
2左右两侧的运动位置及距离不同，进而实现微动台2绕z轴旋转。所述第一直线电机111的行程、所述第二直线电机112的行程和所述第三直线电机113的行程为正负1－3mm，在本实施例中，所述第二直线电机112的行程和所述第三直线电机113的行程采用的是正负2mm，该行程可以满足微动台2进行轻微旋转，且不会导致第一直线电机111的动子与定子发生碰撞，不会导致第二直线电机112的动子与定子发生碰撞。所述第一直线电机111，第二直线电机112和第三直线电机113可以为微动台2提供水平向X、Y方向的微运动，配合上电磁铁23和下电磁铁24的磁力调整，可以为微动台2提供水平向X、Y、Rz三个自由度纳米级精密运动控制功能，实现微动台2的多自由度位姿精密调整。其中，所述第一直线电机111，第二直线电机112和第三直线电机113可以为音圈电机。

[0044] 如图1－3所示，所述驱动机构11还包括宏动直线电机114和宏动台115，所述宏动直线电机114的定子固定在基座1上，所述宏动直线电机114的动子与宏动台115相固定，所述第一直线电机111的定子，第二直线电机112的定子和第三直线电机113的定子固定于所述宏动台115上，所述宏动直线电机114可以驱动所述宏动台115沿y轴做大行程高速高加速的运动，微动台2通过运动控制装置随宏动台115做y轴方向的大尺寸宏运动。所述宏动直线电机114的行程为正负5－10mm，在本实施例中，所述宏动直线电机114的行程为正负6mm，该行程可以满足微动台2进行大行程的运动，其中，所述宏动直线电机114为无铁芯直线电机。本发明采用宏动直线电机114和运动控制装置两级运动驱动方式，在实现微动台2做大行程高速、高加速度的精密运动功能外，还具有微动台2多自由度微调的功能，本发明的磁悬浮式光刻机掩模台适合在万级或十万级洁净室内使用，可应用于微动台2多自由度位姿调整领域中。

[0045] 如图1－6所示，所述安装位21上设有用于吸附掩模版3的真空吸盘22，所述微动台2内设有通气管道25，所述通气管道25与所述真空吸盘22连通，所述通气管道25可以外接抽气泵，当在所述真空吸盘22上放置掩模版3后，可以通过所述抽气泵将通气管道25和真空吸盘22内的气体抽成负气压，利用真空空气负压将掩模版3吸附在所述真空吸盘22上，所述通气管道内的气压为负0.04‑0.08MPa，该气压为表气压。所述真空吸盘22包括凸块221和通气孔222，所述凸块221位于所述微动台2上表面，所述凸块221上凹设有凹槽223，所述通气孔
222位于所述凹槽223底面，所述通气孔222与所述通气管道25相连通，将所述掩模版3放置在凸块221上之后，利用抽气泵抽气，通过凹槽223内通气孔222和通气管道25的空气负气压环境，凹槽223即可牢牢吸附固定掩模版3。所述凸块221可以抬高所述掩模版3，避免掩模版
3与所述微动台2发生刮擦，且凹槽223可以增加真空负气压环境与掩模版3的接触面积，确保凸块221更牢固地吸附固定掩模版3。所述通气孔的直径为1‑3mm，所述凸块为长条状，所述凸块长50‑54mm，宽4‑6mm，高12‑17mm。在本实施例中，所述通气孔222的直径为1mm，所述凸块221为长条状，所述凸块221长52mm，宽5mm，高15mm，该尺寸的凸块221不会占用微动台2过多的空间，且能有效地支撑所述掩模版3，且不会因真空吸盘22与掩模版3接触面积过小而导致压力变大从而使掩模版3发生变形。

[0046] 如图1－3所示，所述真空吸盘22为四个，四个真空吸盘22呈矩形分布，四个真空吸盘22的顶端的水平高度相同，且每个真空吸盘22位于掩模版3的边角处，通过利用真空吸盘22对所述掩模版3的边角进行固定，确保掩模版3可以牢牢固定在真空吸盘22上，真空吸盘
22采用真空压力预紧方式对掩模版3进行承载、定位预紧和保护，具有实现掩模版3在真空吸盘22上固定与定位的功能，保证掩模版3可随微动台2做高速高加速度运动。由于掩模版3的材质为微晶玻璃，属于易破碎属性的材料，鉴于掩模版3较薄的厚度，决定了掩模版3十分脆弱，在固定和夹紧过程中不能承受过大的接触外力。本发明通过设置在掩模版3四个边角处的真空吸盘2和真空压力预紧方式完成了对掩模版3的定位与夹紧。所述真空吸盘22在确保掩模版3稳定随微动台2做高速、高加速度运动的同时，还因使用非机械连接的真空压力预紧方式安装掩模版3，避免传统机械夹紧常用的螺丝或压紧板夹紧的安装方式会对掩模版3边缘施加过大的预紧应力，从而造成掩模版3损坏的问题，且确保掩模版3不会因为微动台2的高速、高加速度运动而发生位置偏移、抖动和断裂变形。

[0047] 如图6－7所示，所述通气管道25包括四条第一气路251、两条第二气路252和一条第三气路253，每条第一气路251与一个真空吸盘22相连通，所述第一气路251沿y轴延伸，其中两条第一气路251通过一条第二气路252相连通，另外两条第一气路251通过另一条第二气路252相连通，所述第二气路252沿x轴延伸，两条第二气路252通过所述第三气路253相连通，所述第三气路253沿y轴延伸，所述微动台2上设有抽气口26，其中一条第一气路251与所述抽气口26相连通，如此设计，可以保证整个通气管道25的空气负压保持相同，真空吸盘22的空气负压也与通气管道25相同，只需要使用一个抽气泵连接所述抽气口26即可让四个真空吸盘22同时吸住掩模版3。

[0048] 以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。