一种用于热熔胶制备的调压装置及调压方法转让专利
申请号 : CN202111502459.8
文献号 : CN113893780B
文献日 : 2022-03-11
发明人 : 张亮 , 茹正伟 , 周乐 , 严序明
申请人 : 常州威斯敦粘合材料有限责任公司
摘要 :
权利要求 :
1.一种用于热熔胶制备的调压装置,其特征在于,包括:壳本体和设置于壳本体内腔中的活塞调压组件;
所述活塞调压组件将内腔分割为不联通的上腔室和下腔室;且所述上腔室开设有与隔离套内腔相通的通压孔,所述下腔室开设有与反应釜内腔相通的引压孔;其中
所述活塞调压组件适于在上、下腔室产生压力差时在内腔内移动,调节隔离套内腔中的压力与反应釜内腔中的压力,直至二者压力达到平衡;
所述活塞调压组件包括:外周设置有螺纹的活塞杆和分别设置于活塞杆两端的活塞;
以及
设置于两活塞之间且与壳本体内壁相连的带有螺纹孔的隔板;其中所述活塞杆的两端通过相应轴承分别与活塞相连;
当上、下腔室产生压力差时,活塞通过活塞杆在螺纹孔内转动以降低活塞移动速度;
所述活塞调压组件还包括:
补偿电机,设置于壳本体外侧,通过一对齿轮副与所述活塞杆啮合;
压力传感器组件,用于检测所述压力差;以及控制模块,与压力传感器组件电性相连以获得压力差,且根据压力差控制补偿电机启停及转向,对活塞移动速度进行补偿;
所述压力传感器组件包括:设置于所述上腔室中的第一压力传感器和设置于所述下腔室中的第二压力传感器;
所述第一压力传感器用于记录所述上腔室中的压力值P1;
所述第二压力传感器用于记录所述下腔室中的压力值P2;其中当P1>1.1P2时,控制模块驱动补偿电机工作,从而加快活塞杆下移;
当P2>1.1P1时,控制模块驱动补偿电机工作,从而加快活塞杆上移。
2.一种用于热熔胶制备的调压方法,其特征在于,包括:步骤S1,判定上、下腔室中压力差范围,以触发被动或主动调节;
步骤S2,当P1>1.1P2时,以及当P2>1.1P1时,启动主动调节模式,直至被动调节隔离套内腔与反应釜内腔中的压力达到平衡;
所述上、下腔室由位于壳本体内腔中活塞调压组件进行分割;
所述活塞调压组件包括:外周设置有螺纹的活塞杆和分别设置于活塞杆两端的活塞;
以及
设置于两活塞之间且与壳本体内壁相连的带有螺纹孔的隔板;其中所述活塞杆的两端通过相应轴承分别与活塞相连;
被动调节模式时,活塞受压通过活塞杆在螺纹孔内转动以降低活塞移动速度;
所述活塞调压组件还包括:
补偿电机,设置于壳本体外侧,通过一对齿轮副与所述活塞杆啮合;
主动调节模式时,控制模块控制补偿电机带动活塞杆转动,以对活塞移动速度进行补偿;以及
在压力差满足P1≤1.1P2或当P2≤1.1P1后,控制模块关闭电机,即启动被动调节模式。
说明书 :
一种用于热熔胶制备的调压装置及调压方法
技术领域
背景技术
包装业。
破碎,反应物内渗至隔离套内腔中。
密封腔的压力与磁力反应釜内的压力保持增压值固定不变。
发明内容
开设有与反应釜内腔相通的引压孔;其中所述活塞调压组件适于在上、下腔室产生压力差
时于内腔中上下移动,从而改变上腔室与下腔室的空气体积,进而调节隔离套内腔中的压
力与反应釜内腔中的压力,直至二者压力达到新平衡。
应釜内腔中压力骤增或骤减时,加快隔离套内腔中压力的增加或减小,保证了隔离套内腔
压力与反应釜内腔压力不会产生较大压差,提高反应设备的安全性。
所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前
提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
33、第二压力传感器34。
具体实施方式
全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提
下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
可以稳定二者压力的调压装置。
分割为不联通的上腔室A和下腔室B;且所述上腔室A开设有与隔离套内腔相通的通压孔11,
所述下腔室B开设有与反应釜内腔相通的引压孔12;其中所述活塞调压组件2适于在上、下
腔室产生压力差时,于壳本体1内腔中上下移动,从而改变上腔室A与下腔室B的空气体积,
进而调节隔离套内腔中的压力与反应釜内腔中的压力,直至二者压力达到新平衡。
所用反应釜的隔离套内腔所联通,所述下腔室B与热熔胶制备所用反应釜的反应内腔所联
通,当反应釜内腔中压力上升时,压力经引压孔12导入壳本体1内腔的下腔室B中,此时压力
推动活塞调压组件2上移,压缩上腔室A空气体积,进而增大隔离套内腔中的压力,反之,活
塞调压组件2下移,减小隔离套内腔中的压力。
本体1内壁相连的带有螺纹孔231的隔板23;其中所述活塞杆22的两端通过相应轴承24分别
与活塞21相连; 当上、下腔室产生压力差时,活塞21通过活塞杆22在螺纹孔231内转动以降
低活塞21移动速度。
螺纹孔231中沿螺纹旋转移动,由于活塞杆22与螺纹孔231之间的螺纹接触属于硬性接触,
且移动相同距离的情况下,旋转上升的时间要远大于弹簧或其他呈直线方式上升所需的时
间,因此,当反应釜内腔中压力波动变化时,活塞调压组件2可避免因压力波动而造成不断
的上升或下移,进而避免隔离套内腔中压力产生频繁波动。
力差;以及控制模块,与压力传感器组件电性相连以获得压力差,且根据压力差控制补偿电
机31启停及转向,在压力差超过阈值范围时,对活塞21移动速度进行补偿。
系列处理器,具体的,所述压力传感器组件包括:设置于所述上腔室A中的第一压力传感器
33和设置于所述下腔室B中的第二压力传感器34;所述第一压力传感器33用于记录所述上
腔室A中的压力值P1;所述第二压力传感器34用于记录所述下腔室B中的压力值P2;其中所
述阈值范围的下限为|P1‑P2|*90%,上限为|P1‑P2|*110%。
模式,仅依靠压力差推动活塞杆22与隔板23之间的螺纹配合而缓慢移动活塞调压组件2,从
而平衡较小的压力差;并且,当上腔室A与下腔室B之间的压力差不在阈值范围内时,则代表
此时隔离套内腔中压力与反应釜内腔中压力产生了较大的差值,此时控制模块控制补偿电
机31进行工作,辅助调节活塞杆22移动,进而加快两腔室中的压力尽快达到新的平衡。
者压力,从而有效避免了因隔离套内压力下降较慢导致的胀裂;当P2>1.1P1时,此时,隔离
套内腔中的压力远小于反应釜内腔中的压力,此时,控制模块驱动补偿电机31工作,从而加
快活塞杆22上移时间,尽快调节二者压力,从而有效避免了因隔离套内压力上升较慢导致
的反应物内吸。
及设置于两活塞21之间且与壳本体1内壁相连的带有螺纹孔231的隔板23;其中所述活塞杆
22的两端通过相应轴承24分别与活塞21相连; 被动调节模式时,活塞21受压通过活塞杆22
在螺纹孔231内转动以降低活塞21移动速度。
转动,以对活塞21移动速度进行补偿;以及在压力差进入阈值范围后,控制模块关闭电机,
即启动被动调节模式。
反应釜内腔的压力与隔离套内腔的压力进行引导,从而保证了在隔离套内腔与反应釜内腔
产生压力差时进行调节,从而避免了因压差导致的隔离套内腔损坏;同时,活塞调压组件2
中的活塞杆22与隔板23呈螺纹配合,可有效避免传统弹簧配合因弹簧弹力波动和响应速度
快而导致的两腔压力波动频繁,进而有效保护了隔离套内腔中的机械密封,提高搅拌设备
的使用寿命;并且,压力传感器与补偿电机31以及活塞调压组件2之间的彼此依赖,可在两
腔压差较大时快速稳压,从而避免了隔离套的胀裂或反应物内吸,上述结构的合理设置,有
效的解决了传统的调压装置以及调压方法造成的隔离套损坏问题。
便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、
以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、
“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。