抛光液注入装置及抛光系统

摘要

本发明涉及一种抛光液注入装置及抛光系统。该抛光液注入装置包括固定机构及注入机构；固定机构用于将注入机构固定于抛光装置的抛光面上且不随抛光面一同转动；注入机构沿抛光面的转动方向依次包括刮水部、喷水部及布水部，喷水部用于喷出抛光液，布水部用于将喷水部喷出的抛光液均匀分布在抛光面上，刮水部用于刮除抛光面上经抛光产生的废液。该抛光液注入装置既可以保证材料去除率的均匀性，也可以避免抛光液的浪费。

权利要求

1.一种抛光液注入装置，其特征在于，包括固定机构（100）及注入机构（200）；

所述固定机构（100）用于将所述注入机构（200）固定于抛光装置（20）的抛光面（20a）上且不随所述抛光面（20a）一同转动；

所述注入机构（200）沿所述抛光面（20a）的转动方向依次包括刮水部（210）、喷水部（220）及布水部（230），所述喷水部（220）与抛光面（20a）接触面上设置有分散腔（223），所述分散腔（223）用于接触式定量、均匀预涂布抛光液，所述布水部（230）沿所述注入机构（200）的宽度方向设置有多排间隔分布的布水凸起（231），所述布水部（230）用于将所述喷水部（220）喷出的抛光液局部再混合后，均匀分布在所述抛光面（20a）上，所述刮水部（210）设置有刮扫条（211），所述刮扫条（211）由所述刮水部（210）的第一侧（210a）延伸至所述刮水部（210）的第二侧（210b），其中所述刮水部（210）的第一侧（210a）是指面向废液流动方向的一侧，所述刮水部（210）的第一侧（210a）与第二侧（210b）相邻，所述刮水部（210）用于刮除所述抛光面（20a）上经抛光产生的废液。

2.根据权利要求1所述的抛光液注入装置，其特征在于，所述喷水部（220）设置有相通的注水口（221）与喷水缝（222），所述注水口（221）用于与外接管线（A）连通，所述喷水缝（222）的长度方向与所述注入机构（200）的长度方向一致，所述喷水缝（222）的宽度小于或等于1mm；

所述分散腔（223）与所述喷水缝（222）相通，所述分散腔（223）的宽度大于所述喷水缝（222）的宽度，其中所述喷水缝（222）与所述分散腔（223）沿所述抛光液的喷出方向依次分布。

3.根据权利要求1所述的抛光液注入装置，其特征在于，相邻两排所述布水凸起（231）相互交错分布。

4.根据权利要求1所述的抛光液注入装置，其特征在于，所述刮水部（210）设置有多排间隔分布的刮扫条（211）。

5.根据权利要求4所述的抛光液注入装置，其特征在于，每排所述刮扫条（211）的迎角α由所述刮水部（210）的第一侧（210a）至所述刮水部（210）的第二侧（210b）的方向逐渐减小，所述迎角α大于90°且小于180°，其中所述迎角α是指所述废液的流动方向与所述刮扫条（211）的切线方向之间的夹角。

6.根据权利要求1‑5任一项所述的抛光液注入装置，其特征在于，所述固定机构（100）具有两种模式，当处于第一种模式时，所述固定机构（100）用于将所述注入机构（200）与所述抛光面（20a）贴合，当处于第二种模式时，所述固定机构（100）用于将所述注入机构（200）从所述抛光面（20a）上抬起。

7.根据权利要求6所述的抛光液注入装置，其特征在于，所述固定机构（100）包括：固定底座（110）、支架（120）及连接杆（130）；

所述支架（120）设置于所述固定底座（110）上，所述支架（120）上设置有转轴（121），所述连接杆（130）与所述转轴（121）及所述注入机构（200）连接，当所述固定机构（100）处于所述第一种模式时，所述连接杆（130）位于第一位置，当所述固定机构（100）处于所述第二种模式时，所述连接杆（130）由所述第一位置转动至第二位置。

8.根据权利要求7所述的抛光液注入装置，其特征在于，所述支架（120）在所述第一位置、所述第二位置处分别设置有限位孔（120a）；

所述转轴（121）上套装有限位部（122），所述限位部（122）能够固定于任一所述限位孔（120a），所述连接杆（130）与所述限位部（122）连接。

9.根据权利要求7所述的抛光液注入装置，其特征在于，所述注入机构（200）的沿自身长度的两端设置有安装接头（240）；

所述连接杆（130）沿自身长度方向间隔设置有两个连接接头（140），所述连接接头（140）通过螺纹件（300）与对应的所述安装接头（240）相连，其中所述螺纹件（300）上套装有弹性件（400）以调节所述螺纹件（300）对所述连接接头（140）与所述安装接头（240）的紧固力度。

10.一种抛光系统，其特征在于，包括抛光装置（20）及权利要求1‑9任一项所述的抛光液注入装置（10）；

所述抛光装置（20）具有抛光面（20a），所述抛光液注入装置（10）的固定机构（100）用于将所述抛光液注入装置（10）的注入机构（200）固定于所述抛光面（20a）上且不随所述抛光面（20a）一同转动。

说明书

抛光液注入装置及抛光系统

技术领域

[0001] 本发明涉及化学机械平整化技术领域，特别是涉及一种抛光液注入装置及抛光系统。

背景技术

[0002] 化学机械平整化(CMP)技术是半导体器件制备的关键工艺流程之一，在器件表面多次执行平整化处理可以提供光刻和刻蚀等工艺窗口，进而提高器件堆叠互联密度。目前，
通常利用抛光装置对器件进行平整化处理，其中在抛光过程中需要向抛光装置的抛光面上
注入抛光液。

[0003] 现有技术通常采用抛光液点状注入装置向抛光装置的抛光面上注入抛光液，具体为，抛光液通过蠕动泵的驱动以连续或脉冲流形式流经输运管路，最终由位于抛光面上方
的圆形喷口流出并注入至抛光面上，形成小面积液面。该抛光液液面位于晶圆载具运动轨
迹的前方，并随着抛光面的转动逐步分散开来，直到与晶圆载具前缘边沿接触并流入晶圆
与抛光面之间的缝隙。

[0004] 然而上述抛光液注入方式存在如下技术问题：

[0005] (1)抛光液输运管末端的圆形喷口会导致抛光液流出时液体量空间分布较为集中，进而在抛光垫上形成较小、较厚的液面，该液面在接触到晶圆载具前缘边沿时会形成弓
形波，导致流入晶圆与抛光面之间的抛光液量分布不均匀，从而引起材料去除率不均匀效
应；

[0006] (2)较厚的抛光液液面，在伴随抛光面转动时，会有相当一部分由于离心现象而甩出到抛光面以外，造成耗材的极大浪费；

[0007] (3)点状抛光液注入方式，由于其缺乏对于抛光面液面状态与组分的控制手段，使得抛光液的有效组分浓度以及目标材料的去除率会受到抛光液脉冲驱动频率和抛光垫清
洗状态的调制。

发明内容

[0008] 基于此，有必要针对上述问题，提供一种抛光液注入装置及抛光系统。

[0009] 一种抛光液注入装置，包括固定机构及注入机构；

[0010] 所述固定机构用于将所述注入机构固定于抛光装置的抛光面上且不随所述抛光面一同转动；

[0011] 所述注入机构沿所述抛光面的转动方向依次包括：刮水部、喷水部及布水部，所述喷水部用于喷出抛光液，所述布水部用于将所述喷水部喷出的抛光液均匀分布在所述抛光
面上，所述刮水部用于刮除所述抛光面上经抛光产生的废液。

[0012] 在其中一个实施例中，所述喷水部设置有相通的注水口与喷水缝，所述注水口用于与外接管线连通，所述喷水缝的长度方向与所述注入机构的长度方向一致，所述喷水缝
的宽度小于或等于1mm；

[0013] 所述喷水部还设置有分散腔，所述分散腔与所述喷水缝相通，所述分散腔的宽度大于所述喷水缝的宽度，其中所述喷水缝与所述分散腔沿所述抛光液的喷出方向依次分
布。

[0014] 在其中一个实施例中，所述布水部沿所述注入机构的宽度方向设置有多排间隔分布的布水凸起，相邻两排所述布水凸起相互交错分布。

[0015] 在其中一个实施例中，所述刮水部设置有多排间隔分布的刮扫条，相邻两排刮扫条的间隙构成排水沟道，每排所述刮扫条由所述刮水部的第一侧延伸至所述刮水部的第二
侧，其中所述刮水部的第一侧是指面向所述废液流动方向的一侧，所述刮水部的第一侧与
第二侧相邻。

[0016] 在其中一个实施例中，每排所述刮扫条的迎角α由所述刮水部的第一侧至所述刮水部的第二侧的方向逐渐减小，所述迎角α大于90°且小于180°，其中所述迎角α是指所述废
液的流动方向与所述刮扫条的切线方向之间的夹角。

[0017] 在其中一个实施例中，所述固定机构具有两种模式，当处于第一种模式时，所述固定机构用于将所述注入机构与所述抛光面贴合，当处于第二种模式时，所述固定机构用于
将所述注入机构从所述抛光面上抬起。

[0018] 在其中一个实施例中，所述固定机构包括：固定底座、支架及连接杆；

[0019] 所述支架设置于所述固定底座上，所述支架上设置有转轴，所述连接杆与所述转轴及所述注入机构连接，当所述固定机构处于所述第一种模式时，所述连接杆位于第一位
置，当所述固定机构处于所述第二种模式时，所述连接杆由所述第一位置转动至第二位置。

[0020] 在其中一个实施例中，所述支架在所述第一位置、所述第二位置处分别设置有限位孔；

[0021] 所述转轴上套装有限位部，所述限位部能够固定于任一所述限位孔，所述连接杆与所述限位部连接。

[0022] 在其中一个实施例中，所述注入机构的沿自身长度的两端设置有安装接头；

[0023] 所述连接杆沿自身长度方向间隔设置有两个连接接头，所述连接接头通过螺纹件与对应的所述安装接头相连，其中所述螺纹件上套装有弹性件以调节所述螺纹件对所述连
接接头与所述安装接头的紧固力度。

[0024] 一种抛光系统，包括抛光装置及上述任一项所述的抛光液注入装置；

[0025] 所述抛光装置具有抛光面，所述抛光液注入装置的固定机构用于将所述抛光液注入装置的注入机构固定于所述抛光面上且不随所述抛光面一同转动。

[0026] 上述抛光液注入装置及抛光系统，布水部可以将喷水部喷出的抛光液均匀分布在抛光面上，从而可以便于获得较薄且厚度分布均匀的抛光液液面，可减小载具前缘处因抛
光液弓形波效应引起的材料去除率差异，提高化学机械平整化工艺的均匀性指标，同时也
可以避免在抛光面转动的过程中抛光液由于离心现象而甩出抛光面的外部，从而可防止抛
光液的极大浪费；另外，刮水部可以快速刮除抛光面上经抛光产生的废液，可以避免废液再
次随同抛光液一同达到载具前缘，保证了抛光液在抛光过程中始终保持浓度均匀，保证了
目标材料的去除率，还能进一步减小化学机械平整化工艺副产物造成的污染几率，且本申
请的抛光液注入装置未通过蠕动泵的驱动来以点状的方式注入抛光液，可以避免蠕动泵驱
动频率不稳定而导致抛光液注入速率发生波动从而造成抛光液浓度不均匀的问题，即本申
请的抛光液注入装置使得抛光液的有效组分浓度及目标材料的去除率不会受到蠕动泵的
驱动频率和抛光面清洗状态等因素的干扰，可获得稳定可控的工艺过程。

附图说明

[0027] 图1、图2为本发明一实施例提供的抛光液注入装置从不同视角上看的工作示意图；

[0028] 图3为本发明一实施例提供的注入结构的仰视图；

[0029] 图4为本发明一实施例提供的注入结构在图3的B‑B处的剖视图；

[0030] 图5为本发明一实施例提供的连接杆的结构示意图。

[0031] 其中，附图中的标号说明如下：

[0032] 10、抛光液注入装置；100、固定机构；110、固定底座；120、支架；120a、限位孔；121、转轴；122、限位部；130、连接杆；140、连接接头；140a、凹槽；141、第一通孔；200、注入机构；
210、刮水部；211、挂扫条；210a、第一侧；210b、第二侧；220、喷水部；221、注水口；222、喷水
缝；223、分散腔；230、布水部；231、布水凸起；240、安装接头；300、螺纹件；400、弹性件；20、
抛光装置；20a、抛光面；20b、抛光盘；20c、抛光垫；20d、载具；A、外接管线；B、器件。

具体实施方式

[0033] 为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发
明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不
违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

[0034] 在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必
须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

[0035] 此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三
个等，除非另有明确具体的限定。

[0036] 在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连
接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内
部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员
而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

[0037] 在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在
第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示
第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第
一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

[0038] 需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以
是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平
的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施
方式。

[0039] 本发明一实施例提供了一种抛光液注入装置10，如图1及图2所示，该抛光液注入装置10包括固定机构100及注入机构200；固定机构100用于将注入机构200固定于抛光装置
20的抛光面20a上且不随所述抛光面20a一同转动；如图3及图4所示，注入机构200沿抛光面
20a的转动方向依次包括：刮水部210、喷水部220及布水部230，喷水部220用于喷出抛光液，
布水部230用于将喷水部220喷出的抛光液均匀分布在抛光面20a上，刮水部210用于刮除抛
光面20a上经抛光产生的废液。

[0040] 作为一种示例，如图1及图2所示，抛光装置20包括可转动的抛光盘20b以及相对于抛光盘20b自转的载具20d，抛光盘20b上设置有抛光垫20c，载具20d用于承载器件B并带着
器件B一同转动。在抛光盘20b和载具20d同时转动时，抛光垫20c与器件B紧密相贴合，以达
到对器件B抛光的目的。其中，抛光垫20c的远离抛光盘20b的表面为上文中所指的抛光面
20a。需要说明的是，本文中的废液是指器件B表面剥离物、抛光液颗粒等。

[0041] 如上所述的抛光液注入装置10，布水部230可以将喷水部220喷出的抛光液均匀分布在抛光面20a上，从而可以便于获得较薄且厚度分布均匀的抛光液液面，可减小载具20d
前缘处因抛光液弓形波效应引起的材料去除率差异，提高化学机械平整化工艺的均匀性指
标，同时也可以避免在抛光面20a转动的过程中抛光液由于离心现象而甩出抛光面20a的外
部，从而可防止抛光液的极大浪费；另外，刮水部210可以快速刮除抛光面20a上经抛光产生
的废液，可以避免废液再次随同抛光液一同达到载具20d前缘，保证了抛光液在抛光过程中
始终保持浓度均匀，保证了目标材料的去除率，还能进一步减小化学机械平整化工艺副产
物造成的污染几率，且本申请的抛光液注入装置10未通过蠕动泵的驱动来以点状的方式注
入抛光液，可以避免蠕动泵驱动频率不稳定而导致抛光液注入速率发生波动从而造成抛光
液浓度不均匀的问题，即本申请的抛光液注入装置10使得抛光液的有效组分浓度及目标材
料的去除率不会受到蠕动泵的驱动频率和抛光面20a清洗状态等因素的干扰，可获得稳定
可控的工艺过程。

[0042] 如图3及图4所示，在本发明的一些实施例中，喷水部220设置有相通的注水口221与喷水缝222，注水口221用于与外接管线A连通，喷水缝222的长度方向与注入机构200的长
度方向一致，喷水缝222的宽度小于或等于1mm，例如0.1mm、0.2mm、0.3mm、0.4mm、0.5mm、
0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1.0mm等。通过在喷水部220上设置狭长结构的喷水缝222，一来
可以快速喷出抛光液，二来可以在保持相同材料去除效果的同时可以显著减小抛光液的注
入效率，从而可以有效避免昂贵抛光液耗材的浪费。需要说明的是，外接管线A可用来走抛
光液。

[0043] 可选地，喷水缝222的长度为待抛光器件B外径的1.5倍～2倍，例如1.5倍、1.6倍、1.7倍、1.8倍、1.9倍、2倍等。如此设置，可以保证抛光液能够覆盖待抛光器件B的整个靠近
抛光面20a的表面。

[0044] 进一步地，在本发明的一些实施例中，如图4所示，喷水部220还设置有分散腔223，分散腔223与喷水缝222相通，分散腔223的宽度大于喷水缝222的宽度，其中喷水缝222与分
散腔223沿抛光液的喷出方向依次分布。分散腔223，可以使喷水缝222喷出的抛光液快速流
向布水部230。其中，分散腔223可以为矩形腔，也可以为弧形腔等。需要说明的是，当分散腔
223不是矩形腔时，上文中的“分散腔223的宽度”指的是分散腔223的最大宽度。

[0045] 具体地，分散腔223为弧形腔，且分散腔223的最大宽度为3mm～5mm(例如3mm、3.5mm、4mm、4.5mm、5mm等)，分散腔223的最大高度为1mm～2mm(例如1mm、1.2mm、1.4mm、
1.6mm、1.8mm、2mm等)。如此设置可以对流入至抛光面20a上的抛光液的形状及分布进行有
效调控，从而便于布水部230对该抛光液进行厚度均匀化处理。应用时，可以根据抛光面20a
的硬度、粗糙度等参数，来对分散腔223的最大宽度及最大高度进行具体限定。需要说明的
是，分散腔223的最大宽度是指分散腔223在出水腔口处的宽度，最大高度是指分散腔223的
出水腔口与分散腔223腔壁最高点之间的距离。

[0046] 如图3及图4所示，在本发明的一些实施例中，布水部230沿注入机构200的宽度方向设置有多排间隔分布的布水凸起231，相邻两排布水凸起231相互交错分布。交错分布的
布水凸起231可以对抛光液进行有效均匀分布。

[0047] 其中，布水凸起231可以设置2排、3排、4排或者更多排，每排布水凸起231的数目可以设置为10个～30个或者更多，可具体为20个。应用时，可以根据抛光面20a的大小、抛光液
的注入速率以及器件B所需的材料去除率等参数，来具体限定布水凸起231的排数以及每排
布水凸起231的数目。

[0048] 另外，布水凸起231可以为圆柱凸起、多棱柱凸起，或者布水凸起231的远离布水部230的表面为向外凸出的弧形状表面的结构。鉴于后者与抛光面20a的接触为点接触，利于
布水，可优先考虑将布水凸起231的远离布水部230的表面设置为向外凸出的弧形状表面。
具体地，布水凸起231为圆丘状凸起，布水凸起231的直径R为2mm～8mm(例如2mm、3mm、4mm、
5mm、6mm、7mm、8mm等)，高度为1mm～3mm(例如1mm、1.5mm、2mm、2.5mm、3mm等)。如此设置可以
增加布水凸起231对抛光液的扰动效果，利于布水凸起231布水。

[0049] 如图3及图4所示，在本发明的一些实施例中，刮水部210设置有多排间隔分布的刮扫条211，每排刮扫条211由刮水部210的第一侧210a延伸至刮水部210的第二侧210b，其中
刮水部210的第一侧210a是指面向废液流动方向的一侧，刮水部210的第一侧210a与第二侧
210b相邻。需要说明的是，相邻两排刮扫条211的间隙及最外侧的排刮扫条211与刮水部210
的第一侧210a、第二侧210b所围设的区域构成排水沟道。废液在刮扫条211的作用下可快速
流经排水沟道向抛光面20a的边沿流动并迅速脱离抛光面20a的工作区域。需要说明的是，
最外侧的排刮扫条211是指在刮水部210的第一侧210a延长方向上长度最短的排刮扫条
211。

[0050] 关于刮扫条211排数的设置，可以设为2排、3排、4排、5排或者更多排。应用时，可以根据抛光面20a的大小、抛光液的注入速率以及器件B所需的材料去除率等参数，来具体限
定刮扫条211的排数。

[0051] 具体地，如图3所示，每排述刮扫条211的迎角α由刮水部210的第一侧210a至刮水部210的第二侧210b的方向逐渐减小，迎角α大于90°且小于180°，其中迎角α是指废液的流
动方向与刮扫条211的切线方向之间的夹角。如此设置每排述刮扫条211的迎角α，可以使得
刮扫条211有效刮除废液。

[0052] 在本发明的一些实施例中，固定机构100具有两种模式，当处于第一种模式时，固定机构100用于将注入机构200与抛光面20a贴合，当处于第二种模式时，固定机构100用于
将注入机构200从抛光面20a上抬起。应用时，可以根据实际情况来调整固定结构的模式。

[0053] 进一步地，在本发明的一些实施例中，如图1及图2所示，固定机构100包括：固定底座110、支架120及连接杆130；支架120设置于固定底座110上，支架120上设置有转轴121，连
接杆130与转轴121及所述注入机构200连接，当固定机构100处于第一种模式时，连接杆130
位于第一位置，当固定机构100处于第二种模式时，连接杆130由第一位置转动至第二位置。
通过转动转轴121，便可调节固定机构100的模式。

[0054] 可选地，当固定机构100处于第二种模式时，第二位置为竖直向上的位置。

[0055] 具体地，在本发明的一些实施例中，如图1所示，支架120在第一位置、第二位置处分别设置有限位孔120a；转轴121上套装有限位部122，限位部122能够固定于任一限位孔
120a，连接杆130与限位部122连接。通过限位部122与限位孔120a的配合，可以将连接杆130
牢固地固定于第一位置或第二位置，从而保证抛光液注入装置10能够正常进行注液作业以
及防止抛光液注入装置10在非注液作业时从固定机构100上掉落。可选地，限位部122可以
为矩形管，可采用螺钉等螺纹件固定于对应的限位孔120a。

[0056] 具体地，如图1及图2所示，注入机构200的沿自身长度的两端设置有安装接头240；连接杆130沿自身长度方向间隔设置有两个连接接头140，连接接头140通过螺纹件300与对
应的安装接头240相连。如此设置，可以保证固定机构100与注入机构200连接牢固程度。

[0057] 可选地，如图5所示，连接接头140上具有凹槽140a，该凹槽140a具有两个槽口，一个槽口面向抛光面20a分布，另一个槽口面对另一个连接接头140分布，且凹槽140a的槽底
设置有第一通孔141，安装接头240上设置有第二通孔。装配时，将注入机构200的每个安装
接头240插入于对应连接接头140的凹槽140a内，并使第一通孔141与第二通孔相对应，然后
将螺纹件300的螺杆穿过第一通孔141与第二通孔再拧上螺母即可。

[0058] 进一步地，如图1所示，螺纹件300上套装有弹性件400，弹性件400用于调节螺纹件300的紧固力度。可以理解的是，弹性件400限位于螺纹件300的螺头与凹槽140a的槽底之
间。通过在螺纹件300上套装弹性件400，可以按需调节注入机构200相对抛光面20a施加的
下压力并且自主保持其与抛光垫20c面的贴服状态。可选地，弹性件400可以为弹簧。

[0059] 如下以抛光盘20b做逆时针转动为例，就抛光液注入装置10的工作过程给予描述。其中，固定机构100处于第一种模式，注入机构200以适当压力紧贴抛光面20a，注入机构200
的中轴线与抛光面20a的径向方向重合。化学机械平整化工艺开始后，首先需要建立抛光面
20a的初始状态，此刻随着抛光面20a的转动，抛光液以恒定速率从狭长结构的喷水缝222射
出后，覆盖到分散腔223的出水腔口所覆盖面积的范围内，接着抛光液经过布水部230的布
水凸起231处理，在抛光面20a形成厚度均一的抛光液液面，并最终与载具20d前缘边沿接
触，达成材料去除效果；在化学机械平整化工艺持续进行时，由器件B的衬底表面平整化所
产生的剥离物和使用过的抛光液颗粒在抛光盘20b旋转带动下再次与刮水部210的刮扫条
相遇，此时包含有剥离物和抛光液颗粒的废液会在刮扫条作用下，快速向抛光面20a边沿流
动并迅速脱离抛光面20a的工作区域，保障了抛光面20a工作区域内抛光液组分的稳定性，
并且极大减少了剥离物和使用过的抛光液对于新鲜衬底表面的污染几率；化学机械平整化
工艺的预设材料去除效果达成后，抛光液停止供应，抛光面20a使用去离子水喷射清除工艺
过程产生的残余物，包括器件B衬底表面剥离物，抛光液颗粒等。此时，去离子水裹挟残余物
在抛光垫20c转动下，与刮扫条的前缘相遇。刮扫条以及其间的沟道通过与液体的相互作
用，可以在较短时间清除抛光面20a上的废液。

[0060] 本发明另一实施例提供了一种抛光系统，如图1及图2所示，该抛光装置20包括抛光装置20及上述任一项所述的抛光液注入装置10；抛光装置20具有抛光面20a，抛光液注入
装置10的固定机构100用于将抛光液注入装置10的注入机构200固定于抛光面20a上且不随
所述抛光面20a一同转动。

[0061] 作为一种示例，如图1及图2所示，抛光装置20包括可转动的抛光盘20b以及相对于抛光盘20b自转的载具20d，抛光盘20b上设置有抛光垫20c，载具20d用于承载器件B并带着
器件B一同转动。在抛光盘20b和载具20d同时转动时，抛光垫20c与器件B紧密相贴合，以达
到对器件B抛光的目的。其中，抛光垫20c的远离抛光盘20b的表面为上文中所指的抛光面
20a。需要说明的是，本文中的废液是指器件B表面剥离物、抛光液颗粒等。

[0062] 如上所述的抛光系统，抛光液注入装置10的布水部230可以将喷水部220喷出的抛光液均匀分布在抛光面20a上，从而可以便于获得较薄且厚度分布均匀的抛光液液面，可减
小载具20d前缘处因抛光液弓形波效应引起的材料去除率差异，提高化学机械平整化工艺
的均匀性指标，同时也可以避免在抛光面20a转动的过程中抛光液由于离心现象而甩出抛
光面20a的外部，从而可防止抛光液的极大浪费；另外，刮水部210可以快速刮除抛光面20a
上经抛光产生的废液，可以避免废液再次随同抛光液一同达到载具20d前缘，保证了抛光液
在抛光过程中始终保持浓度均匀，保证了目标材料的去除率，还能进一步减小化学机械平
整化工艺副产物造成的污染几率，且本申请的抛光液注入装置10未通过蠕动泵的驱动来以
点状的方式注入抛光液，可以避免蠕动泵驱动频率不稳定而导致抛光液注入速率发生波动
从而造成抛光液浓度不均匀的问题，即本申请的抛光液注入装置10使得抛光液的有效组分
浓度及目标材料的去除率不会受到蠕动泵的驱动频率和抛光面20a清洗状态等因素的干
扰，可获得稳定可控的工艺过程。

[0063] 在本发明的一些实施例中，注入机构200的中轴线与抛光面20a的径向相重合。如此设置，使得抛光液沿抛光面20a的径向分布很均匀，且也使得废液收集地更完整。

[0064] 以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存
在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

[0065] 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来
说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护
范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。