本发明公开了一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，涉及超声波清洗设备技术领域，包括外箱、超声波清洗内箱、减震机构、水循环机构、左固定机构和右活动机构，所述外箱内设有上腔和下腔，所述减震机构安装在上腔内，所述水循环机构安装在下腔内且与超声波清洗内箱相连通，所述超声波清洗内箱内设有定位杆和传动杆，所述超声波清洗内箱的内底部设有联动机构，所述联动机构与左固定机构和右活动机构传动连接，所述超声波清洗内箱内还设有控制电机，所述外箱的顶部设有转动门，该转动门内设有烘干风机。本发明能够满足不同大小的陶瓷基板放置定位步骤，便于后续其清洗作业，实用性较强，并且实现清洗水的循环，减少资源的浪费，提高了清洗效果。
1.一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，其特征在于：包括外箱（1）、超声波清洗内箱（2）、减震机构（3）、水循环机构（4）、左固定机构（5）和右活动机构（6），所述外箱（1）内设有上腔（7）和下腔（8），所述超声波清洗内箱（2）通过减震机构（3）设置在上腔（7）内，所述减震机构（3）安装在上腔（7）内，所述水循环机构（4）安装在下腔（8）内且与超声波清洗内箱（2）相连通，所述超声波清洗内箱（2）内设有呈水平设置的定位杆（9）和传动杆（10），所述左固定机构（5）固定在定位杆（9）和传动杆（10）上，所述右活动机构（6）滑动设置在定位杆（9）和传动杆（10）上，所述超声波清洗内箱（2）的内底部设有联动机构（11），所述联动机构（11）与左固定机构（5）和右活动机构（6）传动连接，所述超声波清洗内箱（2）内还设有能够调节左固定机构（5）和右活动机构（6）间距的控制电机（12），所述外箱（1）的顶部设有转动门（13），该转动门（13）内设有烘干风机（14），所述左固定机构（5）包括左固定框（51）、左底板（52）和左内调组件（53），所述左固定框（51）安装在定位杆（9）和传动杆（10）上，所述左内调组件（53）通过螺栓安装在左固定框（51）内，并且左内调组件（53）与联动机构（11）传动连接，所述左底板（52）安装在左固定框（51）的底部，所述右活动机构（6）包括右固定框（61）、右底板（62）、调节架（63）和右内调组件（64），所述右固定框（61）滑动设置在定位杆（9）和传动杆（10）上，并且右固定框（61）的两侧壁与超声波清洗内箱（2）的两内壁滑动，所述右内调组件（64）通过螺栓安装在右固定框（61）内，所述右内调组件（64）与联动机构（11）传动连接，所述调节架（63）安装在右内调组件（64）的背侧上，所述右底板（62）安装在右固定框（61）的底部，所述左内调组件（53）包括左内框（531）、左连接叉板（532）、左联动块（533）、若干左移动插板（534）和若干左固定插板（535），所述左内框（531）通过螺栓安装在左固定框（51）内，若干所述左移动插板（534）等间距固定在左连接叉板（532）的一端上，所述左连接叉板（532）的另一端与左联动块（533）相连接，所述左联动块（533）与超声波清洗内箱（2）的内侧滑动且与联动机构（11）传动连接，若干所述左固定插板（535）等间距固定在左内框（531）的一侧上，并且每个左固定插板（535）和每个左移动插板（534）之间形成供陶瓷基板一端插装的左插口。
2.根据权利要求1所述的一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，其特征在于：所述右内调组件（64）包括右内框（641）、右连接叉板（642）、右联动块（643）、若干右移动插板（644）和若干右固定插板（645），所述右内框（641）通过螺栓安装在右固定框（61）内，若干所述右移动插板（644）等间距固定在右连接叉板（642）的一端上，所述右连接叉板（642）的另一端与调节架（63）相连接，所述右联动块（643）与超声波清洗内箱（2）的内侧滑动且与联动机构（11）传动连接，若干所述右固定插板（645）等间距固定在右内框（641）的一侧上，并且每个右固定插板（645）和每个右移动插板（644）之间形成供陶瓷基板一端插装的右插口，所述调节架（63）位于右内框（641）的背侧和右联动块（643）之间。
3.根据权利要求1所述的一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，其特征在于：所述控制电机（12）安装在超声波清洗内箱（2）的外侧壁上且控制电机（12）的输出端与传动杆（10）的一端相连接，所述传动杆（10）的外壁上设有外螺纹（15），所述右固定框（61）上设有与外螺纹（15）传动的内螺纹。
4.根据权利要求2所述的一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，其特征在于：所述联动机构（11）包括驱动电机（111）、转动轴（112）、转动齿轮（113）和转动齿辊（114），所述驱动电机（111）安装在超声波清洗内箱（2）的外侧壁上且控制电机（12）的输出端与转动杆的一端相连接，所述左固定框（51）和右固定框（61）的底部中心均滑动安装在转动轴（112）上，所述转动齿轮（113）和转动齿辊（114）分别固定在转动轴（112）的两端上，并且转动齿轮（113）与左联动块（533）的底部相啮合，转动齿辊（114）与右联动块（643）的底部相啮合，所述转动齿辊（114）的长度大于调节架（63）的宽度。
5.根据权利要求1所述的一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，其特征在于：所述水循环机构（4）包括排水泵（41）、进水泵（42）、滤芯（43）和两个隔板（44），两个所述隔板（44）间隔安装在下腔（8）内，所述排水泵（41）和进水泵（42）通过连接管与超声波清洗内箱（2）相连通，两个所述隔板（44）形成蓄水腔，所述外箱（1）的外侧壁上设有与蓄水腔相连通的排水管口（45），所述滤芯（43）滑动插装在蓄水腔内。
6.根据权利要求1所述的一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，其特征在于：所述减震机构（3）包括底支撑架（31）和若干底弹簧座（32），所述超声波清洗内箱（2）设置在底支撑架（31）上，所述底支撑架（31）上和外箱（1）的内侧壁均设有侧弹簧组（33）。
一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置
技术领域
[0001] 本发明涉及超声波清洗设备技术领域，尤其是涉及一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置。
背景技术
[0002] 超声波清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的，目前所用的超声波清洗机中，空化作用和直进流作用应用得更多。超声波清洗机主要由超声波清洗槽和超声波发生器两部分构成，超声波清洗槽用坚固弹性好、耐腐蚀的优质不锈钢制成，底部安装有超声波换能器振子；超声波发生器产生高频高压，通过电缆联结线传导给换能器，换能器与振动板一起产生高频共振，从而使清洗槽中的溶剂受超声波作用对污垢进行洗净。
[0003] 现有超声波清洗装置中的清洗架大多为简单的不锈钢丝网框架，内部没有专门的插槽结构设计。少数经过改进的清洗装置，有插槽结构，但是不能灵活调节，只能适用限定尺寸规格的陶瓷基板。这使得其在生产使用过程中没有通用性，针对不同尺寸规格的基板，需制作多种清洗装置，其实用性较低，并且清洗槽内的液体无法循环流通，容易造成清洗槽内被清洗的物品清洗不干净。
发明内容
[0004] 本发明的目的在于提供一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，以解决现有技术中生产使用过程中，针对不同尺寸规格的基板，需制作多种清洗装置，其实用性较低以及清洗槽内的液体无法循环流通的技术问题。
[0005] 本发明提供一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，包括外箱、超声波清洗内箱、减震机构、水循环机构、左固定机构和右活动机构，所述外箱内设有上腔和下腔，所述超声波清洗内箱通过减震机构设置在上腔内，所述减震机构安装在上腔内，所述水循环机构安装在下腔内且与超声波清洗内箱相连通，所述超声波清洗内箱内设有呈水平设置的定位杆和传动杆，所述左固定机构固定在定位杆和传动杆上，所述右活动机构滑动设置在定位杆和传动杆上，所述超声波清洗内箱的内底部设有联动机构，所述联动机构与左固定机构和右活动机构传动连接，所述超声波清洗内箱内还设有能够调节左固定机构和右活动机构间距的控制电机，所述外箱的顶部设有转动门，该转动门内设有烘干风机。
[0006] 进一步的，所述左固定机构包括左固定框、左底板和左内调组件，所述左固定框安装在定位杆和传动杆上，所述左内调组件通过螺栓安装在左固定框内，并且左内调组件与联动机构传动连接，所述左底板安装在左固定框的底部。
[0007] 进一步的，所述右活动机构包括右固定框、右底板、调节架和右内调组件，所述右固定框滑动设置在定位杆和传动杆上，并且右固定框的两侧壁与超声波清洗内箱的两内壁滑动，所述右内调组件通过螺栓安装在右固定框内，所述右内调组件与联动机构传动连接，所述调节架安装在右内调组件的背侧上，所述右底板安装在右固定框的底部。
[0008] 进一步的，所述左内调组件包括左内框、左连接叉板、左联动块、若干左移动插板和若干左固定插板，所述左内框通过螺栓安装在左固定框内，若干所述左移动插板等间距固定在左连接叉板的一端上，所述左连接叉板的另一端与左联动块相连接，所述左联动块与超声波清洗内箱的内侧滑动且与联动机构传动连接，若干所述左固定插板等间距固定在左内框的一侧上，并且每个左固定插板和每个左移动插板之间形成供陶瓷基板一端插装的左插口。
[0009] 进一步的，所述右内调组件包括右内框、右连接叉板、右联动块、若干右移动插板和若干右固定插板，所述右内框通过螺栓安装在右固定框内，若干所述右移动插板等间距固定在右连接叉板的一端上，所述右连接叉板的另一端与调节架相连接，所述右联动块与超声波清洗内箱的内侧滑动且与联动机构传动连接，若干所述右固定插板等间距固定在右内框的一侧上，并且每个右固定插板和每个右移动插板之间形成供陶瓷基板一端插装的右插口，所述调节架位于右内框的背侧和右联动块之间。
[0010] 进一步的，所述控制电机安装在超声波清洗内箱的外侧壁上且控制电机的输出端与传动杆的一端相连接，所述传动杆的外壁上设有外螺纹，所述右固定框上设有与外螺纹传动的内螺纹。
[0011] 进一步的，所述联动机构包括驱动电机、转动轴、转动齿轮和转动齿辊，所述驱动电机安装在超声波清洗内箱的外侧壁上且控制电机的输出端与转动杆的一端相连接，所述左固定框和右固定框的底部中心均滑动安装在转动轴上，所述转动齿轮和转动齿辊分别固定在转动轴的两端上，并且转动齿轮与左联动块的底部相啮合，转动齿辊与右联动块的底部相啮合，所述转动齿辊的长度大于调节架的宽度。
[0012] 进一步的，所述水循环机构包括排水泵、进水泵、滤芯和两个隔板，两个所述隔板间隔安装在下腔内，所述排水泵和进水泵通过连接管与超声波清洗内箱相连通，两个所述隔板形成蓄水腔，所述外箱的外侧壁上设有与蓄水腔相连通的排水管口，所述滤芯滑动插装在蓄水腔内。
[0013] 进一步的，所述减震机构包括底支撑架和若干底弹簧座，所述超声波清洗内箱设置在底支撑架上，所述底支撑架上和外箱的内侧壁均设有侧弹簧组。
[0014] 与现有技术相比较，本发明的有益效果在于：
[0015] 1.本发明通过左固定叉板和左移动叉板之间形成的左插口以及右固定插板和右移动插板之间形成的右插口能够将陶瓷基板放置定位，当对不同尺寸的陶瓷基板进行清洗时，利用控制电机带动与其输出端相连接的传动杆转动，利用传动杆外螺纹与右固定框上设计的内螺纹传动配合，在右固定框与超声波清洗内箱滑动作用下，使右固定框在定位杆上移动，实现可根据陶瓷基板的长度方向实时调节右固定框和左固定框之间的间距；其次，利用驱动电机驱动与其输出端相连接的转动轴转动，带动转动轴上的转动齿轮和转动齿辊转动，从而使与转动齿轮和转动齿辊分别啮合的左联动块和右联动块移动，其中，与左联动块相连接的左连接叉板以及若干左移动插板在左内框的长度方向上移动，从而能够调节左移动插板和左固定插板之间的间距，实时根据陶瓷基板的厚度大小调节左插口的大小，与此同时，同理，与右联动块相连接的右连接叉板以及若干右移动插板在右内框的长度方向上移动，从而能够调节右移动插板和右固定插板之间的间距，实时根据陶瓷基板的厚度大小调节右插口的大小，既而满足不同大小的陶瓷基板放置定位步骤，便于后续其清洗作业，实用性较强。
[0016] 2.当完成陶瓷基板的清洗后，通过排水泵将超声波清洗内箱内的水在连接管的作用下抽至蓄水腔内，利用蓄水腔内的滤芯对水进行过滤除杂，其中，通过进水泵将已经过过滤除杂后的水在连接管的作用下抽至超声波清洗内箱内，既而实现清洗水的循环，减少资源的浪费，且提高了清洗效果。
[0017] 3.通过在超声波清洗内箱四周侧壁分别设置的若干底弹簧座和侧弹簧组，能够减少整体在工作时产生的震动噪音，通过转动门上设置的烘干风机能够对清洗后的陶瓷基板进行烘干步骤，其次，利用滤芯的滑动插装在蓄水腔内，能够便于滤芯的快速拆装更换，进一步提高了整体性能。
[0018] 本发明的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本发明的实践中得到教导。本发明的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
附图说明
[0019] 图1为本发明的第一角度立体结构示意图；
[0020] 图2为本发明的第二角度立体结构示意图；
[0021] 图3为本发明的俯视图；
[0022] 图4为本发明图3中沿A‑A线的剖视图；
[0023] 图5为本发明的局部立体剖视图；
[0024] 图6为本发明图5的正视图；
[0025] 图7为本发明的局部立体结构示意图一；
[0026] 图8为本发明的局部立体结构示意图二。
[0027] 附图标记：
[0028] 外箱1，超声波清洗内箱2，减震机构3，底支撑架31，底弹簧座32，侧弹簧组33，水循环机构4，排水泵41，进水泵42，滤芯43，隔板44，排水管口45，左固定机构5，左固定框51，左底板52，左内调组件53，左内框531，左连接叉板532，左联动块533，左移动插板534，左固定插板535，右活动机构6，右固定框61，右底板62，调节架63，右内调组件64，右内框641，右连接叉板642，右联动块643，右移动插板644，右固定插板645，上腔7，下腔8，定位杆9，传动杆10，联动机构11，驱动电机111，转动轴112，转动齿轮113，转动齿辊114，控制电机12，转动门
13，烘干风机14，外螺纹15。
具体实施方式
[0029] 下面通过具体实施方式进一步详细说明：下面结合图1至图8所示，本发明实施例提供了一种CVD用陶瓷基板超声清洗装置，包括外箱1、超声波清洗内箱2、减震机构3、水循环机构4、左固定机构5和右活动机构6，所述外箱1内设有上腔7和下腔8，所述超声波清洗内箱2通过减震机构3设置在上腔7内，所述减震机构3安装在上腔7内，所述水循环机构4安装在下腔8内且与超声波清洗内箱2相连通，所述超声波清洗内箱2内设有呈水平设置的定位杆9和传动杆10，所述左固定机构5固定在定位杆9和传动杆10上，所述右活动机构6滑动设置在定位杆9和传动杆10上，所述超声波清洗内箱2的内底部设有联动机构11，所述联动机构11与左固定机构5和右活动机构6传动连接，所述超声波清洗内箱2内还设有能够调节左固定机构5和右活动机构6间距的控制电机12，所述外箱1的顶部设有转动门13，该转动门13内设有烘干风机14。
[0030] 具体地，所述左固定机构5包括左固定框51、左底板52和左内调组件53，所述左固定框51安装在定位杆9和传动杆10上，所述左内调组件53通过螺栓安装在左固定框51内，并且左内调组件53与联动机构11传动连接，所述左底板52安装在左固定框51的底部，通过联动机构11带动左内调组件53在左固定框51内移动，能够满足不同厚度大小的陶瓷基板定位。
[0031] 具体地，所述右活动机构6包括右固定框61、右底板62、调节架63和右内调组件64，所述右固定框61滑动设置在定位杆9和传动杆10上，并且右固定框61的两侧壁与超声波清洗内箱2的两内壁滑动，所述右内调组件64通过螺栓安装在右固定框61内，所述右内调组件64与联动机构11传动连接，所述调节架63安装在右内调组件64的背侧上，所述右底板62安装在右固定框61的底部，通过联动机构11带动右内调组件64在右固定框61内移动，能够满足不同厚度大小的陶瓷基板定位，其次，控制电机12驱动传动杆10带动右固定框61在定位杆9的长度方向上移动，从而能够根据陶瓷基板的尺寸进行调节右固定框61和左固定框51之间的间距。
[0032] 具体地，所述左内调组件53包括左内框531、左连接叉板532、左联动块533、若干左移动插板534和若干左固定插板535，所述左内框531通过螺栓安装在左固定框51内，若干所述左移动插板534等间距固定在左连接叉板532的一端上，所述左连接叉板532的另一端与左联动块533相连接，所述左联动块533与超声波清洗内箱2的内侧滑动且与联动机构11传动连接，若干所述左固定插板535等间距固定在左内框531的一侧上，并且每个左固定插板535和每个左移动插板534之间形成供陶瓷基板一端插装的左插口，利用联动机构11驱动与其传动连接的左联动块533移动，从而与左联动块533相连接的左连接叉板532和若干左移动插板534同步在左内框531内移动，故实现调节左移动插板534和左固定插板535之间的右插口大小，满足不同厚度的陶瓷基板放置定位步骤。
[0033] 具体地，所述右内调组件64包括右内框641、右连接叉板642、右联动块643、若干右移动插板644和若干右固定插板645，所述右内框641通过螺栓安装在右固定框61内，若干所述右移动插板644等间距固定在右连接叉板642的一端上，所述右连接叉板642的另一端与调节架63相连接，所述右联动块643与超声波清洗内箱2的内侧滑动且与联动机构11传动连接，若干所述右固定插板645等间距固定在右内框641的一侧上，并且每个右固定插板645和每个右移动插板644之间形成供陶瓷基板一端插装的右插口，所述调节架63位于右内框641的背侧和右联动块643之间，利用联动机构11驱动与其传动连接的右联动块643移动，从而与右联动块643相连接的右连接叉板642和若干右移动插板644同步在右内框641内移动，故实现调节右移动插板644和右固定插板645之间的右插口大小，满足不同厚度的陶瓷基板放置定位步骤。
[0034] 具体地，所述控制电机12安装在超声波清洗内箱2的外侧壁上且控制电机12的输出端与传动杆10的一端相连接，所述传动杆10的外壁上设有外螺纹15，所述右固定框61上设有与外螺纹15传动的内螺纹，当对不同尺寸的陶瓷基板进行清洗时，利用控制电机12带动与其输出端相连接的传动杆10转动，利用传动杆10外螺纹15与右固定框61上设计的内螺纹传动配合，在右固定框61与超声波清洗内箱2滑动作用下，使右固定框61在定位杆9上移动，实现可根据陶瓷基板的长度方向实时调节右固定框61和左固定框51之间的间距。
[0035] 具体地，所述联动机构11包括驱动电机111、转动轴112、转动齿轮113和转动齿辊114，所述驱动电机111安装在超声波清洗内箱2的外侧壁上且控制电机12的输出端与转动杆的一端相连接，所述左固定框51和右固定框61的底部中心均滑动安装在转动轴112上，所述转动齿轮113和转动齿辊114分别固定在转动轴112的两端上，并且转动齿轮113与左联动块533的底部相啮合，转动齿辊114与右联动块643的底部相啮合，所述转动齿辊114的长度大于调节架63的宽度，利用驱动电机111驱动与其输出端相连接的转动轴112转动，带动转动轴112上的转动齿轮113和转动齿辊114转动，从而使与转动齿轮113和转动齿辊114分别啮合的左联动块533和右联动块643移动，其中，与左联动块533相连接的左连接叉板532以及若干左移动插板534在左内框531的长度方向上移动，从而能够调节左移动插板534和左固定插板535之间的间距，实时根据陶瓷基板的厚度大小调节左插口的大小，与此同时，同理，与右联动块643相连接的右连接叉板642以及若干右移动插板644在右内框641的长度方向上移动，从而能够调节右移动插板644和右固定插板645之间的间距，实时根据陶瓷基板的厚度大小调节右插口的大小，既而满足不同厚度的陶瓷基板放置定位步骤，便于后续其清洗作业。
[0036] 具体地，所述水循环机构4包括排水泵41、进水泵42、滤芯43和两个隔板44，两个所述隔板44间隔安装在下腔8内，所述排水泵41和进水泵42通过连接管与超声波清洗内箱2相连通，两个所述隔板44形成蓄水腔，所述外箱1的外侧壁上设有与蓄水腔相连通的排水管口45，所述滤芯43滑动插装在蓄水腔内，当完成陶瓷基板的清洗后，通过排水泵41将超声波清洗内箱2内的水在连接管的作用下抽至蓄水腔内，利用蓄水腔内的滤芯43对水进行过滤除杂，其中，通过进水泵42将已经过过滤除杂后的水在连接管的作用下抽至超声波清洗内箱2内，既而实现清洗水的循环，减少资源的浪费，且提高了清洗效果，其中，利用滤芯43的滑动插装在蓄水腔内，能够便于滤芯43的快速拆装更换，进一步提高了整体性能。
[0037] 具体地，所述减震机构3包括底支撑架31和若干底弹簧座32，所述超声波清洗内箱2设置在底支撑架31上，所述底支撑架31上和外箱1的内侧壁均设有侧弹簧组33，通过在超声波清洗内箱2四周侧壁分别设置的若干底弹簧座32和侧弹簧组33，能够减少整体在工作时产生的震动噪音。
[0038] 本发明的工作原理：本发明通过左固定叉板和左移动叉板之间形成的左插口以及右固定插板645和右移动插板644之间形成的右插口能够将陶瓷基板放置定位，当对不同尺寸的陶瓷基板进行清洗时，利用控制电机12带动与其输出端相连接的传动杆10转动，利用传动杆10外螺纹15与右固定框61上设计的内螺纹传动配合，在右固定框61与超声波清洗内箱2滑动作用下，使右固定框61在定位杆9上移动，实现可根据陶瓷基板的长度方向实时调节右固定框61和左固定框51之间的间距；其次，利用驱动电机111驱动与其输出端相连接的转动轴112转动，带动转动轴112上的转动齿轮113和转动齿辊114转动，从而使与转动齿轮113和转动齿辊114分别啮合的左联动块533和右联动块643移动，其中，与左联动块533相连接的左连接叉板532以及若干左移动插板534在左内框531的长度方向上移动，从而能够调节左移动插板534和左固定插板535之间的间距，实时根据陶瓷基板的厚度大小调节左插口的大小，与此同时，同理，与右联动块643相连接的右连接叉板642以及若干右移动插板644在右内框641的长度方向上移动，从而能够调节右移动插板644和右固定插板645之间的间距，实时根据陶瓷基板的厚度大小调节右插口的大小，既而满足不同大小的陶瓷基板放置定位步骤，便于后续其清洗作业，实用性较强；当完成陶瓷基板的清洗后，通过排水泵41将超声波清洗内箱2内的水在连接管的作用下抽至蓄水腔内，利用蓄水腔内的滤芯43对水进行过滤除杂，其中，通过进水泵42将已经过过滤除杂后的水在连接管的作用下抽至超声波清洗内箱2内，既而实现清洗水的循环，减少资源的浪费，且提高了清洗效果；通过在超声波清洗内箱2四周侧壁分别设置的若干底弹簧座32和侧弹簧组33，能够减少整体在工作时产生的震动噪音，通过转动门13上设置的烘干风机14能够对清洗后的陶瓷基板进行烘干步骤，其次，利用滤芯43的滑动插装在蓄水腔内，能够便于滤芯43的快速拆装更换，进一步提高了整体性能。
[0039] 以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和本发明的实用性。
