一种提高表面光洁度的大米抛光辊

摘要

本发明适用于米制品加工技术领域，提供了一种提高表面光洁度的大米抛光辊，解决了现有装置抛光辊运动过程中与湿润室排出的雾气接触面积较小，影响大米的抛光效率的问题；包括：抛光主体，所述抛光主体包括抛光箱以及工作腔，工作腔上设置有进料部；大米抛光机构，用于工作腔内大米的加工处理；自动排料机构，用于抛光后大米的辅助排出，以及大米进料雾化机构，所述大米进料雾化机构包括大米雾化组件以及大米进料组件；本发明实施例设置了大米雾化组件以及大米进料组件，大米雾化组件与大米进料组件配合工作，实现了对进料过程中大米的充分雾化处理，保证了大米颗粒表面的雾化程度，进而利于对大米的抛光处理。

权利要求

1.一种提高表面光洁度的大米抛光辊，其特征在于，所述提高表面光洁度的大米抛光辊包括：抛光主体，所述抛光主体包括抛光箱以及设置在抛光箱内的工作腔，工作腔上设置有进料部；

大米抛光机构，设置在所述工作腔内，用于工作腔内大米的加工处理；

自动排料机构，设置在工作腔内，用于抛光后大米的辅助排出，以及大米进料雾化机构，设置在抛光箱内，分别与工作腔以及进料部贯穿连通，用于进入工作腔内大米的雾化工作，所述大米进料雾化机构包括大米雾化组件以及与大米雾化组件配合工作的大米进料组件；

还包括杂质排出机构，所述杂质排出机构用于工作腔内抛光大米后杂质的排出，所述杂质排出机构包括：杂质筛选组件，所述杂质筛选组件用于杂质的多级筛选；

用于存放杂质的杂质储存箱，所述杂质储存箱固定安装在抛光箱的侧壁上；

所述杂质筛选组件包括：

内筛选件，所述内筛选件固定在抛光箱的侧壁上，用于杂质的初选；

与内筛选件配合工作的外筛选件，所述外筛选件固定安装在杂质储存箱内，以及用于筛出大米回流的大米回流部，大米回流部用于大米的回收，避免大米的损耗；

还包括雾气供给组件，所述雾气供给组件包括：

雾气三通阀，所述雾气三通阀分别与雾气供给源、大米雾化组件以及雾气补充管连通，所述雾气补充管的另一端连通有雾气补充部，雾气补充部固定安装在所述杂质储存箱的侧壁上，用于向工作腔内大米补充雾气，保证大米的湿度，还用于避免所述杂质筛选组件的堵塞，辅助所述杂质筛选组件工作；

所述大米进料组件包括：

大米进料箱，大米进料箱与进料部之间贯穿连通，且大米进料箱内设置有大米进料腔，大米进料腔通过连通部与工作腔连通，用于工作腔内大米的补充；

设置在大米进料腔内的预处理座，预处理座内固定安装有大米进料盘；

设置在大米进料腔内的进料盘调节机构，所述进料盘调节机构用于驱动大米进料盘的运动，增加大米与雾气之间的接触面积。

2.如权利要求1所述的一种提高表面光洁度的大米抛光辊，其特征在于，所述大米抛光机构包括：抛光驱动部，所述抛光驱动部固定安装在抛光箱内，为工作腔内大米的抛光提供动力；

与抛光驱动部固定连接的抛光辊体，抛光辊体设置在所述工作腔内，用于工作腔内大米的抛光处理，所述抛光辊体包括相互固定连接的主辊体和辅助辊体，辅助辊体与抛光箱之间转动连接，主辊体和辅助辊体上均设置有用于辅助抛光的抛光辅助件。

3.如权利要求2所述的一种提高表面光洁度的大米抛光辊，其特征在于，所述自动排料机构包括：至少一组排料部，所述排料部与工作腔之间连通；

与排料部之间滑动连接的排料开闭件，排料开闭件用于排料部的开启和闭合，且排料开闭件连接有用于控制其运动以实现自动排料的开闭件调节机构，所述开闭件调节机构设置在工作腔内。

4.如权利要求3所述的一种提高表面光洁度的大米抛光辊，其特征在于，所述开闭件调节机构包括：开闭件驱动部，固定安装在抛光箱内；

与开闭件驱动部固定连接的升降块，升降块与工作腔滑动连接，用于开闭件驱动部动力的传输，以及至少一组开闭件连接板，所述开闭件连接板与升降块滑动连接，且与排料开闭件固定连接，工作腔内还设置有用于保护所述开闭件连接板的连接板复位件，连接板复位件与开闭件连接板固定连接。

5.如权利要求4所述的一种提高表面光洁度的大米抛光辊，其特征在于，所述进料盘调节机构包括：进料盘驱动部，进料盘驱动部固定安装在大米进料箱内；

设置在进料盘驱动部一侧的进料盘传动部，进料盘传动部与进料盘驱动部固定连接，以及与预处理座固定连接的进料盘从动部，所述进料盘从动部设置在进料盘传动部的一侧，用于进料盘驱动部动力的传输。

6.如权利要求5所述的一种提高表面光洁度的大米抛光辊，其特征在于，所述大米雾化组件包括：大米雾化管，所述大米雾化管与雾气三通阀连通，且大米雾化管的另一端连通有大米雾化部，大米雾化部用于预处理座内大米的雾化处理，且大米雾化与预处理座之间转动连接。

7.如权利要求6所述的一种提高表面光洁度的大米抛光辊，其特征在于，所述大米进料盘的内部中空，且大米进料盘内设置有用于对大米雾化部限位的雾化部限位槽，大米进料盘上分别设置有第一落料槽以及与第一落料槽配合工作的第二落料槽，第一落料槽以及第二落料槽用于大米的落料。

说明书

一种提高表面光洁度的大米抛光辊

技术领域

[0001] 本发明属于米制品加工技术领域，尤其涉及一种提高表面光洁度的大米抛光辊。

背景技术

[0002] 随着人们生活水平的不断提高，人们对大米的品质、口感要求越来越高。于是，品质优良、外表晶莹光洁的大米，越来越受到人们的青睐。而大米抛光则是大米精加工工艺流程中必不可少的一道工序之一。大米抛光是指将符合一定精度的百米，经着水、润湿后，进行抛光，使米粒晶莹光洁、不粘附糠粉、不脱落米粉，从而改善其储存性能。

[0003] 抛光辊设置在抛光机的抛光室内，是大米抛光机中的重要部件，其辊体的外圆周上设置有多个螺旋线凸筋，凸筋的背面开设有喷风和/或喷水槽，通过抛光室内抛光辊的回转运动以及喷风/喷水槽的喷风和/或喷水使大米表面的浮糠软化，同时使米粒在抛光室内不断运动，最终实现大米的抛光和精细加工。

[0004] 现有一种新型大米抛光机，该装置包括机体，所述机体最上方设有进料口，所述进料口下方为抛光处，所述抛光处分为湿润室与抛光室，所述抛光室内设有抛光辊与筛板，所述喷雾室为可控温度喷雾，由机体上方设置的调节板控制温度情况，所述机体上还设有透明观察窗，所述机体侧边设有出米口，所述出米口上方为镂空结构，内部安装有风机，但是该装置抛光辊运动过程中与湿润室排出的雾气接触面积较小，影响大米的抛光效率，因此，我们提出一种提高表面光洁度的大米抛光辊。

发明内容

[0005] 本发明提供一种提高表面光洁度的大米抛光辊，旨在解决现有装置抛光辊运动过程中与湿润室排出的雾气接触面积较小，影响大米的抛光效率的问题。

[0006] 本发明是这样实现的，一种提高表面光洁度的大米抛光辊，所述提高表面光洁度的大米抛光辊包括：

[0007] 抛光主体，所述抛光主体包括抛光箱以及设置在抛光箱内的工作腔，工作腔上设置有进料部；

[0008] 大米抛光机构，设置在所述工作腔内，用于工作腔内大米的加工处理；

[0009] 自动排料机构，设置在工作腔内，用于抛光后大米的辅助排出，以及

[0010] 大米进料雾化机构，设置在抛光箱内，分别与工作腔以及进料部贯穿连通，用于进入工作腔内大米的雾化工作，所述大米进料雾化机构包括大米雾化组件以及与大米雾化组件配合工作的大米进料组件。

[0011] 优选地，所述大米抛光机构包括：

[0012] 抛光驱动部，所述抛光驱动部固定安装在抛光箱内，为工作腔内大米的抛光提供动力；

[0013] 与抛光驱动部固定连接的抛光辊体，抛光辊体设置在所述工作腔内，用于工作腔内大米的抛光处理，所述抛光辊体包括相互固定连接的主辊体和辅助辊体，辅助辊体与抛光箱之间转动连接，主辊体和辅助辊体上均设置有用于辅助抛光的抛光辅助件。

[0014] 优选地，所述自动排料机构包括：

[0015] 至少一组排料部，所述排料部与工作腔之间连通；

[0016] 与排料部之间滑动连接的排料开闭件，排料开闭件用于排料部的开启和闭合，且排料开闭件连接有用于控制其运动以实现自动排料的开闭件调节机构，所述开闭件调节机构设置在工作腔内。

[0017] 优选地，所述开闭件调节机构包括：

[0018] 开闭件驱动部，固定安装在抛光箱内；

[0019] 与开闭件驱动部固定连接的升降块，升降块与工作腔滑动连接，用于开闭件驱动部动力的传输，以及

[0020] 至少一组开闭件连接板，所述开闭件连接板与升降块滑动连接，且与排料开闭件固定连接，工作腔内还设置有用于保护所述开闭件连接板的连接板复位件，连接板复位件与开闭件连接板固定连接。

[0021] 优选地，还包括杂质排出机构，所述杂质排出机构用于工作腔内抛光大米后杂质的排出，所述杂质排出机构包括：

[0022] 杂质筛选组件，所述杂质筛选组件用于杂质的多级筛选；

[0023] 用于存放杂质的杂质储存箱，所述杂质储存箱固定安装在抛光箱的侧壁上；

[0024] 所述杂质筛选组件包括：

[0025] 内筛选件，所述内筛选件固定在抛光箱的侧壁上，用于杂质的初选；

[0026] 与内筛选件配合工作的外筛选件，所述外筛选件固定安装在杂质储存箱内，以及[0027] 用于筛出大米回流的大米回流部，大米回流部用于大米的回收，避免大米的损耗。

[0028] 优选地，还包括雾气供给组件，所述雾气供给组件包括：

[0029] 雾气三通阀，所述雾气三通阀分别与雾气供给源、大米雾化组件以及雾气补充管连通，所述雾气补充管的另一端连通有雾气补充部，雾气补充部固定安装在所述在杂质储存箱的侧壁上，用于向工作腔内大米补充雾气，保证大米的湿度，还用于避免所述杂质筛选组件的堵塞，辅助所述杂质筛选组件工作。

[0030] 优选地，所述大米进料组件包括：

[0031] 大米进料箱，大米进料箱与进料部之间贯穿连通，且大米进料箱内设置有大米进料腔，大米进料腔通过连通部与工作腔连通，用于工作腔内大米的补充；

[0032] 设置在大米进料腔内的预处理座，预处理座内固定安装有大米进料盘；

[0033] 设置在大米进料腔内的进料盘调节机构，所述进料盘调节机构用于驱动大米进料盘的运动，增加大米与雾气之间的接触面积。

[0034] 优选地，所述进料盘调节机构包括：

[0035] 进料盘驱动部，进料盘驱动部固定安装在大米进料箱内；

[0036] 设置在进料盘驱动部一侧的进料盘传动部，进料盘传动部与进料盘驱动部固定连接，以及

[0037] 与预处理座固定连接的进料盘从动部，所述进料盘从动部设置在进料盘传动部的一侧，用于进料盘驱动部动力的传输。

[0038] 优选地，所述大米雾化组件包括：

[0039] 大米雾化管，所述大米雾化管与雾气三通阀连通，且大米雾化管的另一端连通有大米雾化部，大米雾化部用于预处理座内大米的雾化处理，且大米雾化与预处理座之间转动连接。

[0040] 优选地，所述大米进料盘的内部中空，且大米进料盘内设置有用于对大米雾化部限位的雾化部限位槽，大米进料盘上分别设置有第一落料槽以及与第一落料槽配合工作的第二落料槽，第一落料槽以及第二落料槽用于大米的落料。

[0041] 与现有技术相比，本申请实施例主要有以下有益效果：

[0042] 本发明实施例设置了大米雾化组件以及大米进料组件，大米雾化组件与大米进料组件配合工作，实现了对进料过程中大米的充分雾化处理，保证了大米颗粒表面的雾化程度，进而利于对大米的抛光处理。

附图说明

[0043] 图1是本发明提供的一种提高表面光洁度的大米抛光辊的结构示意图。

[0044] 图2是图1中A的局部放大结构示意图。

[0045] 图3是本发明提供的开闭件连接板的结构示意图。

[0046] 图4是本发明提供的升降块的结构示意图。

[0047] 图5是本发明提供的大米进料组件的结构示意图。

[0048] 图6是本发明提供的大米进料盘的结构示意图。

[0049] 图中：1‑抛光主体、11‑抛光箱、12‑工作腔、13‑进料部、2‑大米进料组件、21‑大米进料箱、22‑连通部、3‑雾气供给组件、31‑雾气三通阀、32‑雾气补充管、33‑雾气补充部、34‑大米雾化管、35‑大米雾化部、4‑杂质排出机构、41‑杂质储存箱、42‑外筛选件、43‑内筛选件、5‑大米抛光机构、51‑抛光驱动部、52‑抛光辊体、521‑主辊体、522‑辅助辊体、523‑抛光辅助件、6‑自动排料机构、61‑开闭件驱动部、62‑连接板复位件、63‑升降块、64‑排料开闭件、65‑开闭件连接板、66‑排料部、67‑落料平台、7‑进料盘调节机构、71‑进料盘驱动部、72‑进料盘传动部、73‑进料盘从动部、74‑预处理座、741‑大米进料盘、742‑第一落料槽、743‑第二落料槽。

具体实施方式

[0050] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请技术领域的技术人员通常理解的含义相同；本文中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书及上述附图说明中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。

[0051] 在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

[0052] 本发明实施例提供了一种提高表面光洁度的大米抛光辊，如图1所示，所述提高表面光洁度的大米抛光辊包括：

[0053] 抛光主体1，所述抛光主体1包括抛光箱11以及设置在抛光箱11内的工作腔12，工作腔12上设置有进料部13；

[0054] 大米抛光机构5，设置在所述工作腔12内，用于工作腔12内大米的加工处理；

[0055] 自动排料机构6，设置在工作腔12内，用于抛光后大米的辅助排出，以及

[0056] 大米进料雾化机构，设置在抛光箱11内，分别与工作腔12以及进料部13贯穿连通，用于进入工作腔12内大米的雾化工作，所述大米进料雾化机构包括大米雾化组件以及与大米雾化组件配合工作的大米进料组件2。

[0057] 在本实施例中，工作时，大米雾化组件通入对大米雾化的雾气，然后开启进料部13，大米进入进料部13内，大米进料组件2对大米进行分散和延缓流动，进而使得大米与雾气充分的接触，解决了现有装置无法保证雾气与大米充分接触的问题，然后通过大米抛光机构5对工作腔12内大米的抛光处理，进而使得大米表面更为光滑，保证了大米的质量，在结束抛光作业后，大米经过自动排料机构6排出。

[0058] 本发明实施例设置了大米雾化组件以及大米进料组件2，大米雾化组件与大米进料组件2配合工作，实现了对进料过程中大米的充分雾化处理，保证了大米颗粒表面的雾化程度，进而利于对大米的抛光处理。

[0059] 本发明进一步较佳实施例中，如图1所示，所述大米抛光机构5包括：

[0060] 抛光驱动部51，所述抛光驱动部51固定安装在抛光箱11内，为工作腔12内大米的抛光提供动力；

[0061] 与抛光驱动部51固定连接的抛光辊体52，抛光辊体52设置在所述工作腔12内，用于工作腔12内大米的抛光处理，所述抛光辊体52包括相互固定连接的主辊体521和辅助辊体522，辅助辊体522与抛光箱11之间转动连接，主辊体521和辅助辊体522上均设置有用于辅助抛光的抛光辅助件523。

[0062] 在本实施例中，抛光驱动部51为伺服电机，其通过螺栓或卡箍固定安装在抛光箱11内，其工作时，能够带动抛光辊体52转动，进而使得抛光辊体52对大米进行充分抛光处理，提高了大米的抛光效率。

[0063] 在本实施例中，主辊体521与辅助辊体522可以为圆辊或圆筒状结构，同时主辊体521与辅助辊体522之间通过螺栓、无缝焊接或卡扣固定连接，且两者的内径不同，从而实现了对工作腔12内大米的扰流，利于大米与物料之间充分的接触，保证了大米的抛光效率。

[0064] 在本实施例中，抛光辅助件523采用弹性体材质，避免了其转动过程中，损坏大米，同时还能在于大米接触时，实现对大米的挤压碰撞，进而使得大米表面杂质以及灰尘被弹出，保证了大米的洁净，抛光辅助件523为柱状或锥形状结构。

[0065] 本发明进一步较佳实施例中，如图1所示，所述自动排料机构6包括：

[0066] 至少一组排料部66，所述排料部66与工作腔12之间连通；

[0067] 与排料部66之间滑动连接的排料开闭件64，排料开闭件64用于排料部66的开启和闭合，且排料开闭件64连接有用于控制其运动以实现自动排料的开闭件调节机构，所述开闭件调节机构设置在工作腔12内

[0068] 在本实施例中，排料部66为下料口或下料座结构，其内部中空，排料部66固定安装在落料平台67上，与落料平台67之间通过螺栓或卡扣固定连接，在工作时，开启所述开闭件调节机构，开闭件调节机构带动排料开闭件64的开启和闭合，从而实现了对大米的自动排出。

[0069] 本发明进一步较佳实施例中，如图2‑4所示，所述开闭件调节机构包括：

[0070] 开闭件驱动部61，固定安装在抛光箱11内；

[0071] 与开闭件驱动部61固定连接的升降块63，升降块63与工作腔12滑动连接，用于开闭件驱动部61动力的传输，以及

[0072] 至少一组开闭件连接板65，所述开闭件连接板65与升降块63滑动连接，且与排料开闭件64固定连接，工作腔12内还设置有用于保护所述开闭件连接板65的连接板复位件62，连接板复位件62与开闭件连接板65固定连接。

[0073] 在本实施例中，开闭件驱动部61为液压缸、电动推杆或气缸，且开闭件驱动部61通过螺栓或卡扣与升降块63固定连接，升降块63滑动安装在落料平台67上，落料平台67用于升降块63的限位，升降块63上对称设置有多个斜面，且斜面抛光处理，开闭件连接板65上也对应设置有斜面，斜面同样抛光处理，在本实施例中，连接部复位件为复位弹簧或复位垫圈。

[0074] 本发明进一步较佳实施例中，如图1所示，还包括杂质排出机构4，所述杂质排出机构4用于工作腔12内抛光大米后杂质的排出，所述杂质排出机构4包括：

[0075] 杂质筛选组件，所述杂质筛选组件用于杂质的多级筛选；

[0076] 用于存放杂质的杂质储存箱41，所述杂质储存箱41固定安装在抛光箱11的侧壁上。

[0077] 在本发明的一个实施例中，所述杂质筛选组件包括：

[0078] 内筛选件43，所述内筛选件43固定在抛光箱11的侧壁上，用于杂质的初选；

[0079] 与内筛选件43配合工作的外筛选件42，所述外筛选件42固定安装在杂质储存箱41内，以及

[0080] 用于筛出大米回流的大米回流部，大米回流部用于大米的回收，避免大米的损耗。

[0081] 在本实施例中，内筛选件43嵌装在抛光箱11内，且内筛选件43竖直设置，用于杂质的初选，外筛选件42倾斜设置，用于杂质的再次筛选，同时，外筛选件42为可拆卸安装的方式安装在抛光箱11内，内筛选件43以及外筛选件42均为筛网，且筛网的网孔孔径依次减少，筛网的网孔孔径为圆形或矩形，而大米回流部倾斜设置，一端设置在杂质储存箱41内外筛选件42的一侧，另一端延伸至工作腔12内，用于大米的回流，减少了大米的损耗。

[0082] 本发明进一步较佳实施例中，如图1所示，本发明实施例还包括雾气供给组件3，所述雾气供给组件3包括：

[0083] 雾气三通阀31，所述雾气三通阀31分别与雾气供给源、大米雾化组件以及雾气补充管32连通，所述雾气补充管32的另一端连通有雾气补充部33，雾气补充部33固定安装在所述在杂质储存箱41的侧壁上，用于向工作腔12内大米补充雾气，保证大米的湿度，还用于避免所述杂质筛选组件的堵塞，辅助所述杂质筛选组件工作。

[0084] 在本实施例中，雾气补充部33为抽风机或风箱，其排风口能够向杂质储存箱41内鼓入雾气，使得雾气经过内筛选件43以及外筛选件42进入工作腔12内，不但实现了工作腔12内雾气的补充，还能避免内筛选件43以及外筛选件42上杂质的堆积。

[0085] 本发明进一步较佳实施例中，如图5所示，所述大米进料组件2包括：

[0086] 大米进料箱21，大米进料箱21与进料部13之间贯穿连通，且大米进料箱21内设置有大米进料腔，大米进料腔通过连通部22与工作腔12连通，用于工作腔12内大米的补充；

[0087] 设置在大米进料腔内的预处理座74，预处理座74内固定安装有大米进料盘741；

[0088] 设置在大米进料腔内的进料盘调节机构7，所述进料盘调节机构7用于驱动大米进料盘741的运动，增加大米与雾气之间的接触面积。

[0089] 本发明进一步较佳实施例中，如图5所示，所述进料盘调节机构7包括：

[0090] 进料盘驱动部71，进料盘驱动部71固定安装在大米进料箱21内；

[0091] 设置在进料盘驱动部71一侧的进料盘传动部72，进料盘传动部72与进料盘驱动部71固定连接，以及

[0092] 与预处理座74固定连接的进料盘从动部73，所述进料盘从动部73设置在进料盘传动部72的一侧，用于进料盘驱动部71动力的传输。

[0093] 在本实施例中，进料盘驱动部71为伺服电机，进料盘传动部72以及进料盘从动部73之间啮合传动，进料盘从动部73固定套设在预处理座74的外部，工作时，开启进料盘驱动部71，进料盘驱动部71带动进料盘传动部72转动，进料盘传动部72带动进料盘从动部73转动，从而实现了带动预处理座74转动的目的，增加了大米与雾气之间的接触面积。

[0094] 本发明进一步较佳实施例中，如图5所示，所述大米雾化组件包括：

[0095] 大米雾化管34，所述大米雾化管34与雾气三通阀31连通，且大米雾化管34的另一端连通有大米雾化部35，大米雾化部35用于预处理座74内大米的雾化处理，且大米雾化与预处理座74之间转动连接

[0096] 在本实施例中，大米雾化部35为圆柱或圆筒状结构，且大米雾化部35的侧壁开设有多个喷气口，喷气口形状为菱形、圆形或矩形，从而实现了对雾气的排出，实现了增加大米与雾气之间的接触面积。

[0097] 本发明进一步较佳实施例中，如图6所示，所述大米进料盘741的内部中空，且大米进料盘741内设置有用于对大米雾化部35限位的雾化部限位槽，大米进料盘741上分别设置有第一落料槽742以及与第一落料槽742配合工作的第二落料槽743，第一落料槽742以及第二落料槽743用于大米的落料。

[0098] 在本实施例中，第一落料槽742与第二落料槽743均周向设置在大米进料盘741上，第一落料槽742和第二落料槽743配合工作，能够减缓大米的流速，使得大米表面雾化更为彻底，第一落料槽742形状为圆形，第二落料槽743为椭圆形。

[0099] 综上所述，本发明提供了一种提高表面光洁度的大米抛光辊，本发明实施例设置了大米雾化组件以及大米进料组件2，大米雾化组件与大米进料组件2配合工作，实现了对进料过程中大米的充分雾化处理，保证了大米颗粒表面的雾化程度，进而利于对大米的抛光处理。

[0100] 需要说明的是，对于前述的各实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可能采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

[0101] 本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置，可通过其他的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如上述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元之间的间接耦合或通信连接，可以是电信或者其它的形式。

[0102] 上述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

[0103] 以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对发明的保护范围进行限制。显然，所描述的实施例仅仅是本发明部分实施例，而不是全部实施例。基于这些实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明所要保护的范围。尽管参照上述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域普通技术人员依然可以在不冲突的情况下，不作出创造性劳动对本发明各实施例中的特征根据情况相互组合、增删或作其他调整，从而得到不同的、本质未脱离本发明的构思的其他技术方案，这些技术方案也同样属于本发明所要保护的范围。