一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架

摘要

本发明为解决现有光学镀膜工件架无法在短时间内、低成本地通过一次作业完成多基片多角度的镀膜的问题，提供了一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架。本发明包括环形挂盘组件、多个基片载台和环形载台固定架；所述挂盘组件和载台固定架并排拼接构成工件架架体；所述工件架架体的拼接面上平行设置有多组相对的枢转槽，所述基片载台的两端分别安装在相对的一组枢转槽内，且基片载台能够自由转动；所述环形挂盘组件用于与镀膜伞架连接。

权利要求

1.一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，其特征在于：包括环形挂盘组件(1)、多个基片载台(2)和环形载台固定架(3)；所述挂盘组件(1)和载台固定架(3)并排拼接构成工件架架体；所述工件架架体的拼接面上平行设置有多组相对的枢转槽，所述基片载台(2)的两端分别安装在相对的一组枢转槽内，且基片载台(2)能够自由转动；所述环形挂盘组件(1)用于与镀膜伞架连接；

所述基片载台(2)为半圆柱体的滚筒型载台，平面的一侧为基片台(23)，用于放置基片；所述基片载台(2)半圆柱体的两侧设有倒钩结构的基片挡墙(22)，所述基片载台(2)的半圆柱体两端设有固定柱(24)；

所述挂盘组件(1)包括挂盘(12)和与多个基片载台(2)相对应的多个平行设置的第一卡槽组；每个第一卡槽组包括对称设置在挂盘(12)连接面内侧的两个U型第一载台卡槽(13)，所述第一载台卡槽(13)与固定柱(24)相适配；

所述载台固定架(3)连接面内侧设有与第一载台卡槽(13)位置相对应且数量相同的U型第二载台卡槽(33)，所述第二载台卡槽(33)与固定柱(24)相适配；所述第二载台卡槽(33)与对应第一载台卡槽(13)配合形成枢转槽，所述固定柱(24)位于对应枢转槽内可自由转动；每个第二载台卡槽(33)内设有螺纹孔(34)，镀膜过程中调整好基片载台(2)的角度后，通过紧定螺丝(4)穿过螺纹孔(34)抵接在固定柱(24)上，将基片载台(2)固定，保证镀膜角度不变。

2.根据权利要求1所述的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，其特征在于：

所述挂盘组件(1)在上、下任一端的第一载台卡槽(13)旁设有限位片(14)，用于防止基片载台(2)左右移动；

所述限位片(14)的边缘与基片载台(2)的边缘相配合。

3.根据权利要求2所述的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，其特征在于：

所述基片载台(2)两端均刻有角度刻度线标尺(25)，用于标记基片载台(2)与挂盘组件(1)之间的相对角度。

4.根据权利要求1所述的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，其特征在于：

所述载台固定架(3)上设置有若干个第二连接孔(31)，所述挂盘(12)上设置有与第二连接孔(31)位置相同且数量相同的第一连接孔(11)；所述第一连接孔(11)和第二连接孔(31)通过螺钉连接，从而将挂盘组件(1)与载台固定架(3)固定连接。

5.根据权利要求1‑4任一所述的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，其特征在于：所述基片载台(2)半圆柱体的两端设有基片限位孔(21)，基片限位孔(21)内设有螺纹，基片限位孔(21)拧入螺丝后实现对基片上下限位。

6.根据权利要求5所述的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，其特征在于：

所述基片载台(2)之间的距离可通过制造时增加第一载台卡槽(13)的间距或镀膜过程中改变基片载台(2)数量和倾角，实现基片载台(2)相互之间不遮挡。

说明书

一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架

技术领域

[0001] 本发明属于光学真空镀膜领域，涉及一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架。

背景技术

[0002] 真空镀膜是一种常用的镀膜手段，从基片角度方面，可以将镀膜方式分为垂直蒸镀和倾斜蒸镀。垂直蒸镀一般用于光学膜系的制作，如特定波段下对透过率和反射率进行优化，得到所需的光学指标；倾斜蒸镀能够得到倾斜生长的柱状结构，以及利用同一种镀膜材料实现不同的折射率膜层，将基片倾斜放置在蒸镀源上方，基片与蒸镀源具有一定角度，这样可以获得特殊结构的膜层，例如液晶材料的无机配向。

[0003] 现有倾斜蒸镀多采用的镀膜工装架通过镀膜伞架角度实现的斜蒸法镀膜。现有光学镀膜工件架有两种，一种是伞状工件架上面挖有适用于承载基片的孔，这种角度固定不可调，也是最常见的镀膜工装架；另外一种是通过在镀膜工件架上安装角度调节装置，整个镀膜工件架可以实现在一定角度范围内的垂直调节，这种方式一次作业完成一个角度的镀膜。由此可以看出，现有的光学镀膜工件架能够实现对多基片同时进行一种角度下的蒸镀，但无法对多个基片的多个角度镀膜，而在在科研和工业的工艺验证中往往需要同种工艺条件下对多个蒸镀角度进行对比，现有镀膜工件架只能通过多次作业的方式实现，缺点是时效低，成本高。

发明内容

[0004] 为了解决现有光学镀膜工件架无法在短时间内、低成本地通过一次作业完成多基片多角度的镀膜的问题，而提供了一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架。

[0005] 为达到上述目的，本发明采用的技术方案为：

[0006] 一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，其特殊之处在于：包括环形挂盘组件、多个基片载台和环形载台固定架；所述挂盘组件和载台固定架并排拼接构成工件架架体；所述工件架架体的拼接面上平行设置有多组相对的枢转槽，所述基片载台的两端分别安装在相对的一组枢转槽内，且基片载台能够自由转动；所述环形挂盘组件用于与镀膜伞架连接。

[0007] 进一步地，所述基片载台为半圆柱体的滚筒型载台，平面的一侧为基片台，用于放置基片；所述基片载台半圆柱体的两侧设有倒钩结构的基片挡墙(，所述基片载台的半圆柱体两端设有固定柱；

[0008] 所述挂盘组件包括挂盘和与多个基片载台相对应的多个平行设置的第一卡槽组；每个第一卡槽组包括对称设置在挂盘连接面内侧的两个U型第一载台卡槽，所述第一载台卡槽与固定柱相适配；

[0009] 所述载台固定架连接面内侧设有与第一载台卡槽位置相对应且数量相同的 U型第二载台卡槽，所述第二载台卡槽与固定柱相适配；所述第二载台卡槽与对应第一载台卡槽配合形成枢转槽，所述固定柱位于对应枢转槽内可自由转动；每个第二载台卡槽内设有螺纹孔，镀膜过程中调整好基片载台的角度后，通过紧定螺丝穿过螺纹孔抵接在固定柱上，将基片载台固定，保证镀膜角度不变。进一步地，所述挂盘组件在上、下任一端的第一载台卡槽旁设有限位片，用于防止基片载台左右移动；

[0010] 所述限位片的边缘与基片载台的边缘相配合。

[0011] 进一步地，所述基片载台两端均刻有角度刻度线标尺，用于标记基片载台与挂盘组件之间的相对角度。

[0012] 进一步地，所述载台固定架上设置有若干个第二连接孔，所述挂盘上设置有与第而连接孔位置相同且数量相同的第一连接孔；所述第一连接孔和第二连接孔通过螺钉连接，从而将挂盘组件与载台固定架固定连接。

[0013] 进一步地，所述基片载台半圆柱体的两端设有基片限位孔，基片限位孔内设有螺纹，基片限位孔拧入螺丝后实现对基片上下限位。

[0014] 进一步地，所述基片载台之间的距离可通过制造时增加第一载台卡槽的间距或镀膜过程中改变基片载台数量和倾角，实现基片载台相互之间不遮挡。

[0015] 与现有技术相比，本发明具有的有益技术效果如下：

[0016] 1、本发明提供的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架上设置有U型载台卡槽，滚筒型镀膜载台在载台卡槽内自由旋转，镀膜过程中通过每个基片载台的角度可以独立调节，一次作业能够实现对多基片多角度同时镀膜，且不同基板的镀膜角度的调整范围是0°～360°。

[0017] 2、本发明提供的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，能够对多种蒸镀角进行同时蒸镀，并且能够保证除蒸镀角之外的其他工艺条件的一致性，时效高，成本低。

[0018] 3、本发明提供的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架可以通过制造时增加第一载台卡槽的间距或镀膜过程中减少滚筒型基片载台数量和改变倾角，以增加相互间距离，减小大角度倾斜蒸镀时载台之间的相互遮挡，避免了遮挡引起的台阶效应，从而提高了镀膜均一性。

[0019] 4、本发明提供的光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架使用的滚筒型镀膜载台，可根据实际镀膜需求对镀膜载台数量进行增减，并且在其两侧设计有较精确的刻度线标尺，可以准确的控制和记录镀膜角度。

附图说明

[0020] 图1是本发明光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架结构示意图；

[0021] 图2是本发明光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架结构的俯视图；

[0022] 图3是本发明中挂盘组件的结构示意图；

[0023] 图4是本发明中基片载台的结构示意图；

[0024] 图5是图4的俯视图；

[0025] 图6是本发明中载台固定架的结构示意图；

[0026] 图7是本发明中基片载台的安装示意图；

[0027] 附图标记：

[0028] 1‑挂盘组件，11‑第一连接孔、12‑挂盘、13‑第一载台卡槽、14‑限位片；

[0029] 2‑基片载台，21‑基片限位孔、22‑基片挡墙、23‑基片台、24‑固定柱、25‑刻度线标尺；

[0030] 3‑载台固定架，31‑第二连接孔、32‑载台固定架主体、33‑第二载台卡槽、34‑ 螺纹孔；

[0031] 4‑紧定螺丝。

具体实施方式

[0032] 为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图和具体实施方式对本发明提出的一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架作进一步详细说明。本领域技术人员应当理解的是，这些实施方式仅仅用来解释本发明的技术原理，目的并不是用来限制本发明的保护范围。

[0033] 需要说明的，描述中“上”、“下”、“左”、“右”等的用语，是用于描述各个结构在附图中的相对位置关系，仅为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。

[0034] 本发明提出一种光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架，通过调节基片载台角度，能够对蒸镀角在0°～360°调节，从而实现对多基片多角度同时镀膜，且一次作业能够完成多角度工艺验证。

[0035] 如图1所示，本发明光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架包括挂盘组件1、若干个基片载台2和载台固定架3，基片载台2安装在载台固定架3上，且每个基片载台2可以360°自由旋转，安装好的载台固定架3固定在挂盘组件1上，并通过挂盘组件1固定在镀膜伞架上。

[0036] 如图3所示，挂盘组件1主体为一体式圆环形的挂盘12，挂盘12用于将可调镀膜工件架倒挂在镀膜伞架上，挂盘12的内圈设有环形凸起，在凸起上设有 6个第一连接孔11，通过螺丝与载台固定架3连接；挂盘组件1上还设有上下镜面对称的若干个U型第一载台卡槽13，用于放置基片载台2且基片载台2可在其中自由旋转；在挂盘12下端与第一载台卡槽13连接处设有限位片14，可以防止基片载台2左右移动，也可以作为基准平面，标记此基片载台2的镀膜角度。

[0037] 第一载台卡槽13设置的间距需要满足将基片载台2卡接在其中时，基片载台2相互之间没有遮挡，且方便安装或拆卸。限位片14的间距与基片载台2之间的间距配合，同时由于挂盘组件1为圆环形，其上对称设置的第一载台卡槽 13可固定不同长度的基片载台2，下端限位片14的形状满足将安装多个基片载台2后对其的限位。

[0038] 如图4、图5所示，基片载台2为半圆柱体的滚筒型基片载台，平面的一侧为基片台23，用于放置基片，镀面朝外；在半圆柱两端设有基片限位孔21，孔内设有螺纹，放入基片后拧入螺丝即可对基片进行位置限定，防止在镀膜过程中基片从两端滑落。在半圆柱的两侧还设有倒钩结构的基片挡墙22，放置基片是从两端滑入放置基片载台2内，倒钩结构也能防止在基片载台2旋转的过程中，基片移位甚至滑落。基片载台2两端设有圆柱形的固定柱24，卡接在第一载台卡槽13内，并可在第一载台卡槽13内旋转，用于镀膜过程中连续调节镀膜角度，多个基片载台2可旋转为不同的角度，实现一次作业多角度镀膜。两端的扇面上刻有带角度的刻度线标尺25，用于标记基片载台2与挂盘组件1之间的相对角度，增加镀膜实验的可重复性。

[0039] 如图6所示，载台固定架3为一体式圆环形，载台固定架3圆周设有与挂盘组件1上第一连接孔11位置相同且数量相同的第二连接孔31，如图2所示将螺钉穿过第二连接孔31和第一连接孔11将载台固定架3于挂盘组件1固定连接。载台固定架3圆环内侧还设有与挂盘组件1上第一载台卡槽13位置相同且数量相同的第二载台卡槽33，与第一载台卡槽13配合固定卡接在其内的基片载台2。每个第二载台卡槽33上方在载台固定架3上设有螺纹孔34，镀膜过程中调整好基片载台2的角度后，通过紧定螺丝4穿过螺纹孔34将基片载台2固定，保证镀膜角度不变。

[0040] 如图7所示以安装一个基片载台2为例，本发明多角度可调镀膜工件架使用时，操作步骤如下：

[0041] 1)在从基片载台2一端将基片滑入基片挡墙22内，两端基片限位孔内拧入螺丝，确保基片完整地放置在基片台23上；

[0042] 2)将根据基片载台2的长短，将基片载台2安装在载台固定架3上合适的第二载台卡槽33内，其下端两侧有相配的限位片14，保证其不会倾斜；

[0043] 3)将载台固定架3安装在挂盘组件1上，保证滚筒型镀膜基片载具2，在第一载台卡槽13和第二载台卡槽33中可以做0°～360°自由旋转；

[0044] 4)将螺钉穿过第二连接孔31和第一连接孔11将载台固定架3与挂盘组件 1固定连接；

[0045] 5)以限位片14作为0°基准线，利用标有角度的刻度线标尺25调整每个基片载台2需要镀膜的角度，在拧入紧定螺丝4穿过第二载台卡槽33内的螺纹孔 34将基片载台2固定；

[0046] 6)开始蒸镀。

[0047] 上述光学斜蒸镀膜用多角度可调镀膜工件架设置的U型载台卡槽，多个相互之间独立的滚筒型的基片载台在载台卡槽内自由旋转，每个基片载台镀膜角度的可以在0°～360°内连续调整，实现一次作业对多基片多角度同时镀膜。

[0048] 每个基片载台之间的间距可通过制造时增加第一载台卡槽13的间距或镀膜过程中改变基片载台2数量和倾角，减少其相互之间的遮挡，避免了遮挡引起的台阶效应，保证了镀膜的均匀性。

[0049] 以上详细描述了本发明的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术无需创造性劳动就可以根据本发明的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。