一种磁控溅射涂层材料及其应用转让专利
申请号 : CN202210298874.4
文献号 : CN114395754B
文献日 : 2022-07-19
发明人 : 刘国栋 , 唐能 , 姚磊 , 纪连栋 , 廖梦佳 , 杨浩
申请人 : 中南大学湘雅医院
摘要 :
本发明涉及一种磁控溅射涂层材料及其应用。本发明选用TiO2‑B复合靶材作为溅射源,在医用手术刀基体表面溅射沉积硼掺杂二氧化钛涂层。以TiO2作为涂层的基础材料,可以保证涂层的生物相容性,而掺杂元素硼则可以提高TiO2涂层的表面硬度。通过本发明的工艺可以获得表面硬度和生物性能优秀的复合涂层,并可广泛引用于医用手术刀领域。
权利要求 :
1.一种磁控溅射涂层材料,其特征在于,制备所述磁控溅射涂层材料包括以下步骤:选取医用不锈钢作为基体材料;
采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用HF和HNO3的混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15‑30min,取出后烘干待用;
用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有合适的表面粗糙度;
将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑B复合靶材作为溅射源,所述复合靶材中硼的质量含量为8%‑20%,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度200‑220℃,溅射时间45‑50min,靶基距6‑9cm,靶材功率80‑100W,氩气流量50‑60sccm;
将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350‑380℃,退火时间2‑
2.5h。
2.一种如权利要求1所述的一种磁控溅射涂层材料,其特征在于,通过机械加工将所述基体材料切割为15*15*2mm。
3.一种如权利要求1所述的一种磁控溅射涂层材料,其特征在于,所述HF的浓度为5%。
4.一种如权利要求1所述的一种磁控溅射涂层材料,其特征在于,所述HNO3的浓度为8%。
5.一种磁控溅射涂层材料的应用,其特征在于,将权利要求1‑4任一项所述的涂层材料应用于医用手术刀领域。
说明书 :
一种磁控溅射涂层材料及其应用
技术领域
[0001] 本发明涉及涂层材料领域,具体涉及一种磁控溅射涂层材料及其应用。
背景技术
[0002] 传统的手术刀由刀柄和可装卸的刀片两部分组成,其可用于切开、分离组织及切除病变。高硬度的手术刀可以在手术过程中减少患者痛楚,所以提高手术刀的表面硬度是一项值得长期研究的课题,另外,作为一种医用材料,其生物相容性也是不可忽视的性能指标,因此,有必要研究一种表面硬度高,生物相容性好的手术刀具。
发明内容
[0003] 针对现有技术存在的问题,本发明旨在提供一种磁控溅射涂层材料,该涂层材料具有优异的生物相容性和表面硬度。
[0004] 本发明提供了一种磁控溅射涂层材料,制备所述磁控溅射涂层材料包括以下步骤:
[0005] 选取医用不锈钢作为基体材料;
[0006] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用HF和HNO3的混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15‑30min,取出后烘干待用;
[0007] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有合适的表面粗糙度;
[0008] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度200‑220℃,溅射时间45‑50min,靶基距6‑9cm,靶材功率80‑100W,氩气流量50‑60sccm;
[0009] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350‑380℃,退火时间2‑2.5h。
[0010] 优选地,通过机械加工将所述基体材料切割为15*15*2mm。
[0011] 优选地,所述HF的浓度为5%。
[0012] 优选地,所述HNO3的浓度为8%。
[0013] 优选地,所述复合靶材中硼的质量含量为8%‑20%。
[0014] 进一步地,本发明还提供了一种磁控溅射涂层材料的应用,即将上述涂层材料应用于医用手术刀领域。
[0015] 本发明选用TiO2‑B复合靶材作为溅射源,在医用手术刀基体表面溅射沉积硼掺杂二氧化钛涂层。以TiO2作为涂层的基础材料,可以保证涂层的生物相容性,而掺杂元素硼则可以提高TiO2涂层的表面硬度。通过本发明的工艺可以获得表面硬度和生物性能优秀的复合涂层,并可广泛引用于医用手术刀领域。
具体实施方式
[0016] 下面通过具体实施例来验证本发明的技术效果,但是本发明的实施方式不局限于此。
[0017] 实施例1
[0018] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0019] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0020] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0021] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑8wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0022] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0023] 实施例2
[0024] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0025] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0026] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0027] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑10wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0028] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0029] 实施例3
[0030] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0031] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0032] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0033] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑13wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0034] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0035] 实施例4
[0036] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0037] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0038] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0039] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑15wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0040] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0041] 实施例5
[0042] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0043] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0044] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0045] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑18wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0046] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0047] 实施例6
[0048] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0049] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0050] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0051] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑20wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0052] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0053] 对比例1
[0054] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0055] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0056] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0057] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑2wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0058] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0059] 对比例2
[0060] 选取医用不锈钢作为基体材料,通过机械加工将其切割为15*15*2mm;
[0061] 采用砂纸逐级打磨不锈钢基体,用5%的HF和8%的HNO3混合溶液去除不锈钢表面的氧化层,而后将基体材料放入无水乙醇中超声清洗15min,取出后烘干待用;
[0062] 用等离子体轰击烘干后的不锈钢基体,使其具有2μm左右的表面粗糙度;
[0063] 将不锈钢基体放入磁控溅射镀膜机中,并对镀膜机抽真空,选用TiO2‑30wt%B复合靶材作为溅射源,在氩气气氛下沉积硼掺杂二氧化钛涂层,溅射过程中基体温度220℃,溅射时间45min,靶基距6cm,靶材功率80W,氩气流量50sccm;
[0064] 将涂层材料放入真空退火炉中进行真空退火处理,退火温度350℃,退火时间2h。
[0065] 进一步地,发明人对实施例1‑6和对比例1‑2的涂层硬度及生物相容性进行评价,具体方法为:
[0066] 涂层硬度:采用MTS生产的Nano‑indenter G200纳米压痕仪对涂层做纳米压入实验,得到涂层的硬度数据,实验选用Berkovich三棱锥金刚石压头,压入深度不超过涂层厚度的10%。
[0067] 涂层生物相容性:通过溶血试验评价各样品的血液相容性,其原理在于:将样品与血液直接接触,测定红细胞膜破裂后释放的血红蛋白量,以检测各样品体外溶血程度。血红蛋白的吸收波长为545nm,可用分光光度计检测其浓度。具体操作步骤如下:
[0068] (1)从健康家兔心脏采血100mL,加入2%草酸钾5mL,制成新鲜抗凝血。取抗凝血40mL,加入0.9%氯化钠注射液50mL进行稀释。
[0069] (2)取3支硅化试管,一支试管装入试验样品和氯化钠注射液10mL,一支试管空白作为阴性对照组加入氯化钠生理盐水10mL,另外一支试管空白作为阳性对照组分别加入10mL蒸馏水。
[0070] (3)所有试管在37℃水浴中恒温30min,分别加入5mL抗凝兔血,并在37℃条件下保温60min。
[0071] (4)取试管上层清液,在545nm波长处测定吸光度。每一样品进行三次平行试验并取平均值。
[0072] 溶血率的计算公式如下:
[0073] 溶血率(%)=(试样平均吸光度‑阴性组吸光度)/(阳性组吸光度‑阴性组吸光度)×100
[0074] 实施例1‑6和对比例1‑2的试验结果如表1所示。
[0075] 表1 各样品的试验数据
[0076] 组别 硬度/GPa 溶血率/%实施例1 20.65 1.41
实施例2 21.44 1.53
实施例3 23.04 3.16
实施例4 25.12 3.92
实施例5 26.87 5.20
实施例6 29.19 6.32
对比例1 17.31 1.35
对比例2 32.14 15.84
实施例2 21.44 1.53
实施例3 23.04 3.16
实施例4 25.12 3.92
实施例5 26.87 5.20
实施例6 29.19 6.32
对比例1 17.31 1.35
对比例2 32.14 15.84
[0077] 以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变型,这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。