一种电镀废水回用设备

摘要

本发明涉及废水处理相关技术领域，且公开了一种电镀废水回用设备，包括处理罐，所述处理罐的内壁活动安装有支撑架，且处理罐的内腔呈椭圆形，所述支撑架的表面活动安装有净化块，且净化块的顶端设置有橡胶头。本发明通过设置有驱动线圈和驱动磁块，并同时设置有排液杆，因而废物沉淀时，通过净化块下移时会使得驱动线圈产生与驱动磁块相斥的磁力并使其净化块快速顶起，其顶起会使得净化块中的废物超重下沉，从而增加其废物的沉淀速率，并通过排液杆可使得处理罐内腔中的气流缓慢流出，从而使得净化块中的废液在恢复时降低因失重而导致沉淀废物上移的现象，如此循环，最终实现加快废物沉淀速率的目的。

权利要求

1.一种电镀废水回用设备，包括处理罐（1），其特征在于：所述处理罐（1）的内壁活动安装有支撑架（6），且处理罐（1）的内腔呈椭圆形，所述支撑架（6）的表面活动安装有净化块（2），且净化块（2）的顶端设置有橡胶头，所述处理罐（1）的顶端表面一侧固定安装废液管（27），且处理罐（1）的顶端表面固定安装有进液管（25），所述处理罐（1）的顶端中部开设有用于实现处理罐（1）内腔中压力均衡的缓气孔（26），所述净化块（2）的内壁底部一侧固定安装有用于实现缓慢释放压力的排液杆（5），所述支撑架（6）的表面一侧开设有与排液杆（5）内腔相通的输气道（20），且支撑架（6）的底端中部固定安装有驱动磁块（110），所述处理罐（1）底部内壁的中部固定安装有用于实现间断接通的驱动线圈（11），且驱动线圈（11）与驱动磁块（110）磁力相斥，所述净化块（2）的侧壁固定安装有转动推块（4），且处理罐（1）的内壁固定活动安装有与转动推块（4）适配的转动拨块（21），所述转动拨块（21）的一端固定安装有复位弹簧（22），且复位弹簧（22）的一端与处理罐（1）的内壁固定安装，实现转动拨块（21）与转动推块（4）配合实现净化块（2）上移时进行转动，所述净化块（2）的底端开设有形状呈C形的输料槽（7），所述净化块（2）的内壁底部固定安装有搅拌棒（3），且搅拌棒（3）的顶端开设有排污口（24），所述搅拌棒（3）的侧壁为网孔状，所述搅拌棒（3）数量至少为四个，且搅拌棒（3）的内腔与输料槽（7）相通，所述支撑架（6）的底端固定安装有与输气道（20）内腔相通的复位杆（17），所述复位杆（17）的底部设置有用于实现复位杆（17）内腔向处理罐（1）内腔气流单向流动的防逆球（16），且净化块（2）与支撑架（6）之间相对转动实现输气道（20）可选择的与输料槽（7）或排液杆（5）相通，所述处理罐（1）的内壁设置有倾斜的复位面（10），且处理罐（1）内壁一侧开设有位于复位面（10）低侧的连通道（15），所述处理罐（1）的底部一侧螺纹连接有与连通道（15）相通的放液盖（13），且放液盖（13）的内壁活动安装有进气挡球（12），所述放液盖（13）的侧壁固定安装有用于通过放液盖（13）与处理罐（1）之间的螺纹拧入量实现与连通道（15）间进行通断的排液管（14），所述支撑架（6）置于处理罐（1）内腔最低端时进气挡球（12）与防逆球（16）贴合实现复位杆（17）与放液盖（13）相通，所述支撑架（6）的侧壁固定安装有导电片（18），所述处理罐（1）的内壁底部一侧固定安装有与导电片（18）适配的传电拨片（19），且导电片（18）的一端通过导线连通外部的电源，所述传电拨片（19）的一端连接有保护电阻，保护电阻电连接有接触器组，接触器的一端经驱动线圈（11）连通至电源形成闭合电路，所述转动推块（4）设为长方体，且转动推块（4）有倾斜和竖直布置两种，竖直的转动推块（4）有两个，倾斜的转动推块（4）至少有十个，所述净化块（2）侧壁并位于竖直转动推块（4）上方固定安装有强制推块（40），且强制推块（40）与转动推块（4）的倾斜方向一致，所述转动拨块（21）在处理罐（1）上的偏转角度在零度至九十度内。

2.根据权利要求1所述的一种电镀废水回用设备，其特征在于：所述支撑架（6）的中部开设有向支撑架（6）侧壁流通的排污道（8），所述处理罐（1）的侧壁底部固定安装有用于实现排污道（8）中废物排出的排污管（9）。

3.根据权利要求1所述的一种电镀废水回用设备，其特征在于：所述排液杆（5）设为伸缩杆，且其排液杆（5）的内腔为细孔，所述排液杆（5）的顶端固定安装有与排液杆（5）内腔相通的浮子（23），且浮子（23）的开口向下。

说明书

一种电镀废水回用设备

技术领域

[0001] 本发明涉及废水处理相关技术领域，具体为一种电镀废水回用设备。

背景技术

[0002] 电镀废水通常含有多种有毒物质，不仅对于环境的危害较大，而且氰可引起人畜急性中毒、致死，镉可使肾脏发生病变，六价铬可引起肺癌、肠胃道疾病和贫血，因此，电镀废水的排放必须严格控制，妥善处理。

[0003] 现有的电镀废水通过化学沉淀的方法主要通过化学药剂置于电镀废水中，并通过搅拌反应后使得电镀废水中出现沉淀，实现对电镀废水的处理，而在实际运用的过程中，沉淀虽能大幅度的实现废物分离，但其所需周期较长，致使其废水处理所消耗的时长增加，另一方面，沉淀设备中会由于沉淀物的附着，不仅不易于处理，还影响着后续的使用，而通过现有外置的清洗设备还需增加其运用的成本及其自主清洗所需的时间，因而，不利于企业对废水的快速处理。

发明内容

[0004] 针对背景技术中提出的现有电镀废水处理设备在使用过程中存在的不足，本发明提供了一种电镀废水回用设备，具备实现加快废物沉淀速率的优点，解决了上述背景技术中提出的技术问题。

[0005] 本发明提供如下技术方案：一种电镀废水回用设备，包括处理罐，所述处理罐的内壁活动安装有支撑架，且处理罐的内腔呈椭圆形，所述支撑架的表面活动安装有净化块，且净化块的顶端设置有橡胶头，所述处理罐的顶端表面一侧固定安装废液管，且处理罐的顶端表面固定安装有进液管，所述处理罐的顶端中部开设有用于实现处理罐内腔中压力均衡的缓气孔，所述净化块的内壁底部一侧固定安装有用于实现缓慢释放压力的排液杆，所述支撑架的表面一侧开设有与排液杆内腔相通的输气道，且支撑架的底端中部固定安装有驱动磁块，所述处理罐底部内壁的中部固定安装有用于实现间断接通的驱动线圈，且驱动线圈与驱动磁块磁力相斥。

[0006] 优选的，所述净化块的侧壁固定安装有转动推块，且处理罐的内壁固定活动安装有与转动推块适配的转动拨块，所述转动拨块的一端固定安装有复位弹簧，且复位弹簧的一端与处理罐的内壁固定安装，实现转动拨块与转动推块配合实现净化块上移时进行转动，所述净化块的底端开设有形状呈C形的输料槽，所述净化块的内壁底部固定安装有搅拌棒，且搅拌棒的顶端开设有排污口，所述搅拌棒的侧壁为网孔状，所述搅拌棒数量至少为四个，且搅拌棒的内腔与输料槽相通，所述支撑架的底端固定安装有与输气道内腔相通的复位杆，所述复位杆的底部设置有用于实现复位杆内腔向处理罐内腔气流单向流动的防逆球，且净化块与支撑架之间相对转动实现输气道可选择的与输料槽或排液杆相通。

[0007] 优选的，所述支撑架的中部开设有向支撑架侧壁流通的排污道，所述处理罐的侧壁底部固定安装有用于实现排污道中废物排出的排污管。

[0008] 优选的，所述处理罐的内壁设置有倾斜的复位面，且处理罐内壁一侧开设有位于复位面低侧的连通道，所述处理罐的底部一侧螺纹连接有与连通道相通的放液盖，且放液盖的内壁活动安装有进气挡球，所述放液盖的侧壁固定安装有用于通过放液盖与处理罐之间的螺纹拧入量实现与连通道间进行通断的排液管，所述支撑架置于处理罐内腔最低端时进气挡球与防逆球贴合实现复位杆与放液盖相通。

[0009] 优选的，所述支撑架的侧壁固定安装有导电片，所述处理罐的内壁底部一侧固定安装有与导电片适配的传电拨片，且导电片的一端通过导线连通外部的电源，所述传电拨片的一端连接有保护电阻，保护电阻电连接有接触器组，接触器的一端经驱动线圈连通至电源形成闭合电路。

[0010] 优选的，所述转动推块设为长方体，且转动推块有倾斜和竖直布置两种，竖直的转动推块有两个，倾斜的转动推块至少有十个，所述净化块侧壁并位于竖直转动推块上方固定安装有强制推块，且强制推块与转动推块的倾斜方向一致，所述转动拨块在处理罐上的偏转角度在零度至九十度内。

[0011] 优选的，所述排液杆设为伸缩杆，且其排液杆的内腔为细孔，所述排液杆的顶端固定安装有与排液杆内腔相通的浮子，且浮子的开口向下。

[0012] 本发明具备以下有益效果：

[0013] 1、本发明通过设置有驱动线圈和驱动磁块，并同时设置有排液杆，因而废物沉淀时，通过净化块下移时会使得驱动线圈产生与驱动磁块相斥的磁力并使其净化块快速顶起，其顶起会使得净化块中的废物超重下沉，从而增加其废物的沉淀速率，并通过排液杆可使得处理罐内腔中的气流缓慢流出，从而使得净化块中的废液在恢复时降低因失重而导致沉淀废物上移的现象，如此循环，最终实现加快废物沉淀速率的目的。

[0014] 2、本发明通过在净化块侧设置有转动推块，并同时在净化块中设置有搅拌棒，因而在废液与化学药剂倒入至净化块中时，通过输气道中的气流会率先的从搅拌棒中溢出，进而通过搅拌棒中溢出的气泡加快净化块中废液与化学药剂的混合，与此同时，通过转动推块与转动拨块的作用，使得净化块可带动搅拌棒进行周转，进一步的通过搅拌棒对净化块中的废液进行搅拌，最终，通过搅拌棒转动一圈后，会使得输气道仅与排液杆相通，因而实现在搅拌完成之后，通过其排液杆的介入，实现其持续加快沉淀的现象，最终达到加快药剂混合速率及先搅拌后沉淀的目的。

[0015] 3、本发明通过进气挡球设置在放液盖中，并通过净化块在上移的过程中，通过进气挡球的打开实现处理罐内腔的气流缓和，而当其需要清洗后，通过放液盖介入清洗介质，并在处理罐内腔吸附时，会将清洗介质输入至处理罐的内腔，并通过净化块的下移保证其清洗介质从搅拌棒射出，从而通过搅拌棒的射流对净化块内壁进行清洁，最终实现便于清洁的目的。

附图说明

[0016] 图1为本发明整体装配立体结构示意图；

[0017] 图2为本发明放液盖结构示意图；

[0018] 图3为本发明支撑架结构示意图；

[0019] 图4为本发明转动推块结构示意图；

[0020] 图5为本发明转动拨块结构示意图；

[0021] 图6为本发明浮子结构示意图。

[0022] 图中：1、处理罐；2、净化块；3、搅拌棒；4、转动推块；40、强制推块；5、排液杆；6、支撑架；7、输料槽；8、排污道；9、排污管；10、复位面；11、驱动线圈；110、驱动磁块；12、进气挡球；13、放液盖；14、排液管；15、连通道；16、防逆球；17、复位杆；18、导电片；19、传电拨片；20、输气道；21、转动拨块；22、复位弹簧；23、浮子；24、排污口；25、进液管；26、缓气孔；27、废液管。

具体实施方式

[0023] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0024] 请参阅图1，一种电镀废水回用设备，包括处理罐1，并在处理罐1的内壁活动安装有支撑架6，且处理罐1的内腔呈椭圆形，保证支撑架6仅能在处理罐1中进行上下运动，同时，在支撑架6的表面活动安装有净化块2，并在净化块2的顶端设置有用于实现净化块2顶端与处理罐1内壁滑动连接的橡胶头，同时，在处理罐1的顶端表面一侧固定安装用于向净化块2中通入电镀废液的废液管27，同时在处理罐1的顶端表面固定安装有位于废液管27一侧的进液管25，并通过进液管25实现化学药剂的灌入，并在处理罐1的顶端中部开设有用于实现处理罐1内腔中压力均衡的缓气孔26，同时，在净化块2的内壁底部一侧固定安装有用于实现缓慢释放压力的排液杆5，同时在支撑架6的表面一侧开设有与排液杆5内腔相通的输气道20，同时，在支撑架6的底端中部固定安装有驱动磁块110，并在处理罐1底部内壁的中部固定安装有用于实现间断接通的驱动线圈11，且驱动线圈11与驱动磁块110磁力相斥，因而通过在使用的过程中，通过将净化块2中放入有电镀废液，通过驱动线圈11间断产生与驱动磁块110相斥的磁斥力，实现支撑架6快速的顶起，与此同时，通过排液杆5下降后实现对处理罐1内腔气流进行缓压，从而保证净化块2提升时，其废液中的废物会出现超重的现象，加快沉淀的速率，与此同时，通过排液杆5实现净化块2的缓慢下移，避免因净化块2下落过快从而导致废物出现失重现象。

[0025] 请参阅、图3和图4，其中，设备在进行工作的过程中，实现搅拌后加速沉淀的目的，因而通过在净化块2的侧壁固定安装有转动推块4，同时，在处理罐1的内壁固定活动安装有与转动推块4适配的转动拨块21，并在转动拨块21的一端固定安装有复位弹簧22，且复位弹簧22的一端与处理罐1的内壁固定安装，并通过转动拨块21与转动推块4配合实现净化块2上移时进行转动，与此同时，通过在净化块2的底端开设有形状呈C形的输料槽7，并在净化块2的内壁底部固定安装有搅拌棒3，且搅拌棒3的顶端开设有排污口24，搅拌棒3的侧壁为网孔状，搅拌棒3数量至少为四个，且搅拌棒3的内腔与输料槽7相通，同时，在支撑架6的底端固定安装有与输气道20内腔相通的复位杆17，同时，在复位杆17的底部设置有用于实现复位杆17内腔向处理罐1内腔气流单向流动的防逆球16，且净化块2与支撑架6之间相对转动实现输气道20可选择的与输料槽7或排液杆5相通，因而保证在工作的过程中，通过转动拨块21实现了净化块2的转动，并通过支撑架6不能进行转动，从而促使了输气道20与输料槽7或排液杆5的内腔相通，并在与输料槽7相通时，通过挤压处理罐1内腔的气流，从而实现气流从复位杆17经输气道20和输料槽7从搅拌棒3上输出，保证搅拌棒3向外溢流气泡增加废水与药剂的混合强度，与此同时，通过开设的排污口24从而保证了后续搅拌棒3在吐气的过程中，从排污口24将搅拌棒3中的部分废物吹出。

[0026] 请参阅图1，其中，为了实现废物在沉淀之后易于进行排出，因而通过在支撑架6的中部开设有向支撑架6侧壁流通的排污道8，且排污道8实现净化块2内腔底部的废物输出，并在处理罐1的侧壁底部固定安装有用于实现排污道8中废物排出的排污管9，保证在工作的过程中，通过驱动线圈11没有电能的介入，从而使得支撑架6下落至最底部，进一步的使得排污道8与排污管9之间进行连通，从而更易于的将废物进行排出，与此同时，通过支撑架6远离排污管9后，其排污道8可通过处理罐1的内壁进行封堵，排污管9可通过外部的阀门进行关闭，保证其处理罐1内腔的密闭性能。

[0027] 请参阅图1和图2，其中，为了便于将沉淀后的废液排出，因而通过在处理罐1的内壁设置有倾斜的复位面10，同时，在处理罐1内壁一侧开设有位于复位面10低侧的连通道15，同时，在处理罐1的底部一侧螺纹连接有与连通道15相通的放液盖13，同时，在放液盖13的内壁活动安装有用于实现外部介质与连通道15进行单向连通的进气挡球12，同时，在放液盖13的侧壁固定安装有用于通过放液盖13与处理罐1之间的螺纹拧入量实现与连通道15间进行通断的排液管14，同时，其支撑架6置于处理罐1内腔最低端时进气挡球12与防逆球
16贴合实现复位杆17与放液盖13相通，因而保证支撑架6全部下落完毕之后，通过进气挡球
12与防逆球16之间的贴合，放液盖13的拧动，实现排液管14的流通，并在所需强制关闭复位杆17中介质排出时，一方面可通过拧入，实现排液管14封闭，避免废液的流出，还可进行将放液盖13拧出，从而实现防逆球16将复位杆17封死，因而适用于在实际使用的过程中，避免操作者拧动方向不当而导致放液盖13废液急剧流出的现象。

[0028] 请参阅图1，其中，为了便于进行电性控制，从而保证其驱动线圈11可产生与驱动磁块110相同或相异的磁极满足沉淀和清洁，因而通过在支撑架6的侧壁固定安装有导电片18，同时，在处理罐1的内壁底部一侧固定安装有与导电片18适配的传电拨片19，且导电片
18的一端通过导线连通外部的电源，传电拨片19的一端连接有保护电阻，保护电阻电连接有接触器组，同时，接触器的一端经驱动线圈11连通至电源形成闭合电路，并在实际使用的过程中，通过接触器组的变化，实现电源经驱动线圈11后的电流变化，从而改变其驱动线圈
11的磁极，以便于后续进行沉淀及清洁的目的。

[0029] 请参阅图1、图4和图5，其中，为了实现搅拌棒3进行一周的搅拌之后就进入沉淀状态，使得沉淀的过程中，净化块2中的废液仅会受到重力的变化，因而通过将转动推块4设为长方体，同时，转动推块4有倾斜和竖直布置两种，竖直的转动推块4有两个，倾斜的转动推块4至少有十个，同时，在净化块2侧壁并位于竖直转动推块4上方固定安装有强制推块40，且强制推块40与转动推块4的倾斜方向一致，并通过转动拨块21在处理罐1上的偏转角度在零度至九十度内，保证净化块2在上移的过程中，通过转动拨块21的介入，从而实现净化块2的转动，并在转动拨块21置于竖直的转动推块4后，会使得输气道20与排液杆5相通，保证其净化块2中仅用于加速沉淀，另一方面，当支撑架6置于底端时，强制推块40位于转动拨块21的下方，因而保证在进行废液输出时，通过强制推块40可使得净化块2在提升后进行偏转，保证其净化块2中在将废液排出时后续可正常的进行工作。

[0030] 请参阅图1和图6，其中，为了易于排液杆5实现缓压及将废液吸出，因而通过排液杆5设为伸缩杆，其排液杆5的内腔为细孔，同时，在排液杆5的顶端固定安装有与排液杆5内腔相通的浮子23，且浮子23的开口向下，保证其排液杆5在工作时进行缓冲，实现净化块2低速下移，与此同时，通过排液管14经抽吸泵抽出后，通过排液杆5的收缩，实现浮子23将废液流出。

[0031] 本发明的工作原理如下：

[0032] 使用时，驱动线圈11不进行通电，此时，复位杆17处于连通道15中，驱动磁块110处在最低端，之后，通过废液管27及进液管25中开始灌入电镀废水及化学药剂，并使其灌入净化块2内腔中，置于合适的液位高度；

[0033] 之后，通过驱动线圈11接通电路，此时，电源经继电器后使得传电拨片19、导电片18和导线与保护电阻相通，最终通过保护电阻介入电路进行保护，保证其驱动线圈11正常的接通，驱动线圈11接通后会与驱动磁块110之间产生瞬时的磁斥力，进而使得驱动磁块
110快速的被顶起，并在顶动的同时会使得进气挡球12提升，从而通过放液盖13使得支撑架
6底部并位于处理罐1内腔的气流实现缓冲，与此同时，当其支撑架6上升的过程中，促使导电片18脱离传电拨片19，进而使得导电片18与传电拨片19之间断开，驱动线圈11不在接通，之后，通过支撑架6顶起的势能会使得持续上移的净化块2不断的降低速度，其净化块2顶端的橡胶头实现了其净化块2顶起的限位，避免其净化块2顶至处理罐1内腔顶部的现象；

[0034] 在净化块2提升的同时，其转动拨块21与倾斜的转动推块4接触，从而使得转动推块4带动净化块2发生转动，从而通过净化块2使得搅拌棒3同步转动，即实现了搅拌棒3对净化块2中的介质进行搅动及撞击，并在净化块2顶起停止后，其进气挡球12会将放液盖13封堵，受重力下落的净化块2会压缩处理罐1内腔的气流，并通过气流从复位杆17经输气道20流至输料槽7中，并通过输料槽7中的气流作用至搅拌棒3中，从搅拌棒3溢出的气流直接作用至净化块2的内腔，实现净化块2内腔的化学药剂与废水受气流冲击实现混合，并在下落时，会使得倾斜的转动推块4压制转动拨块21，使得转动拨块21沿处理罐1发生偏转并使得复位弹簧22压缩，并在转动推块4脱离转动拨块21后受复位弹簧22的弹力使得转动拨块21再次的顶起；

[0035] 持续下移的支撑架6会使得导电片18再次的接触传电拨片19，进而使得驱动线圈11产生磁力，从而使得净化块2再次的顶起，如此的循环，从而实现了净化块2中废液与药剂之间的搅拌；

[0036] 之后，通过净化块2的不断转动，并在转动将近一圈后，会使得竖直的转动推块4与转动拨块21进行接触，致使净化块2再次向上冲击时，不会在出现的转动，此时，其输气道20与排液杆5的内腔连通并与输料槽7之间断开连通，之后，当净化块2再次进行下移的过程中，会由于处理罐1内腔的气流全部流入至排液杆5中，并通过排液杆5中向外溢出的气流速率低，从而做到了净化块2自上移的时由于仅受到突然向上的推力，从而使得净化块2中废液的废物超重，从而加快沉淀的生成，另一方面，通过排液杆5气流的缓慢流出，从而使得净化块2以较低的速率流出，保证其净化块2中的废物不会因为失重而再次漂浮的现象；

[0037] 当全部沉淀完毕之后，通过断开驱动线圈11的电路，致使净化块2会持续的下移，复位杆17滑入至连通道15中，此时，强制推块40越过转动拨块21，并通过放液盖13的转动，使得排液管14与放液盖13的内腔相通，与此同时，下落的防逆球16会与进气挡球12接触，从而实现输气道20与放液盖13接通，并最终通过排液管14抽吸，使得排液杆5收缩并将净化块2中的废液抽出，通过排污管9的打开，从而使得排污道8中的废物沉淀输出；

[0038] 最后，当需要进行冲洗时，通过放液盖13拧入并将排液管14封死，并通过放液盖13介入清洗介质，通过驱动线圈11的通电，从而使得支撑架6再次的被顶起，并通过抽吸使得清洗介质进入处理罐1的内腔，并在支撑架6下移的过程中，通过继电器实现驱动线圈11上电流方向的变化，由于此时处理罐1内腔中有清洗介质，因而通过传电拨片19经清洗介质后可与导电片18连通，因而使得驱动线圈11与驱动磁块110之间磁性相吸，使得支撑架6在下移的过程中，清洗介质会从复位杆17流至输料槽7中，进而从搅拌棒3中射出，实现对净化块2内壁的清洗，如需清洗的更加彻底，可实现驱动线圈11单次通电之后，并进行断电，并将净化块2中介质排出完毕后，再次进行接入，从而使得清洗介质对净化块2中全面的清洗。

[0039] 需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

[0040] 尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。