一种超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法转让专利

申请号 : CN202210306053.0

文献号 : CN114563429B

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相似专利:

发明人 : 曹磊峰俞健汪雪邓嘉玲李迪开代艳萌张春晖周沧涛阮双琛

申请人 : 深圳技术大学

摘要 :

本发明公开了一种超分辨X射线阴影成像系统,所述超分辨X射线阴影成像系统包括依次设置的X射线光源、样品台、X射线探测器和图像反演设备,所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器的几何中心共线,所述样品台的几何中心有用于放置待测样品通孔,所述X射线光源用于提供X射线,且所述X射线能够通过样品台在所述X射线探测器上形成成像图像,所述图像反演设备用于获取所述成像图像,并对所述成像图像进行图像反演操作,以形成新的成像图像。本发明所提供的超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法,能够克服光源大小对成像分辨率局限的情况下,获得清晰、高分辨的X射线阴影成像图像。

权利要求 :

1.一种超分辨X射线阴影成像系统,其特征在于,所述超分辨X射线阴影成像系统包括依次设置的X射线光源、样品台、X射线探测器和图像反演设备,所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器的几何中心共线,所述样品台的几何中心有用于放置待测样品的通孔,所述X射线光源用于提供X射线,且所述X射线能够通过样品台在所述X射线探测器上形成成像图像,所述图像反演设备用于获取所述成像图像,并对所述成像图像进行图像反演操作,以形成新的成像图像;所述通孔与所述待测样品之间存在间隙。

2.根据权利要求1所述的超分辨X射线阴影成像系统,其特征在于,所述X射线光源、样品台和X射线探测器分别设置有对应的光学支架,且所述光学支架为沿高度方向可伸缩的光学支架。

3.根据权利要求1所述的超分辨X射线阴影成像系统,其特征在于,沿所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器连线方向,所述样品台和所述X射线探测器之间的距离可调。

4.一种基于权利要求1‑3中任意一项所述的超分辨X射线阴影成像系统的成像方法,其特征在于,所述成像方法包括:控制所述X射线光源向所述待测样品发射X射线;

获取所述待测样品在所述X射线探测器上形成的成像图像;

对所述成像图像进行图像反演操作,得到新的成像图像。

5.根据权利要求4所述的成像方法,其特征在于, 所述对所述图像进行图像反演操作包括:控制所述X射线光源向所述样品台的通孔发射X射线;

获取所述X射线通过所述通孔在所述X射线探测器上形成的原始图像;

分别对所述通孔的像素点坐标、所述原始图像和所述成像图像进行傅里叶变换,得到变换后的通孔的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像;

根据所述变换后的通孔的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像,利用反卷积操作,得到所述待测样品在傅氏空间的解码像;

对所述解码像进行逆傅里叶变换操作,得到所述新的成像图像。

6.根据权利要求5所述的成像方法,其特征在于,所述根据所述变换后的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像,利用反卷积操作,得到所述待测样品在傅氏空间的解码像包括:其中, 表示所述待测样品在傅氏空间的解码像, 表示变换后的像素坐标点,表示变换后的原始图像, 表示变换后的成像图像。

说明书 :

一种超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法

技术领域

[0001] 本发明涉及X射线技术领域,具体涉及一种超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法。

背景技术

[0002] X射线的应用早已渗透到社会经济各行各业和大众生活的各个方面,对于提高人类的生活质量和帮助人类认识客观世界发挥了巨大作用。由于X射线具有很强的穿透力,其在医学诊断、泵浦探测、相衬成像等方面具有非常重要的应用。如今,随着科学技术的迅猛发展,高能量X射线的应用也对X射线成像技术提出了更高的要求。
[0003] 由于X射线具有如穿透性、荧光效应及摄影效应等特性,其透过不同密度和厚度的材料时,由于吸收程度不同,部分X射线光子穿过物质时被衰减,其可以呈现出具有不同灰度值的影响。从而人们提出了X射线照相法这种无损检测方法。
[0004] X射线照相法是一种最基本、应用最为广泛的射线检测方法。其广泛应用于医疗、航空、航天、兵器、核能、汽车等领域产品和系统的无损检测、无损评估以及逆求,检测对象包括导弹、火箭发动机、核废料、电路板、发动机叶片、汽车发动机气缸、轮胎轮毂等,在医学诊断、工程质量监督和产品质量保证方面发挥着极其重要的作用。
[0005] 然而,随着科学技术水平的不断提高,医学、工业及科学领域的测量对X射线阴影成像技术的分辨率提出了越来越高的要求。而想要获得高分辨率的X射线成像,就必须要对光源的尺寸进行减小。光源尺寸限制了X射线阴影成像技术分辨率的进一步发展。

发明内容

[0006] 本发明的目的在于提供一种超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法,以能够克服光源大小对成像分辨率局限的情况下,获得清晰、高分辨的X射线阴影成像图像。
[0007] 本发明解决上述技术问题的技术方案如下:
[0008] 本发明提供一种超分辨X射线阴影成像系统,所述超分辨X射线阴影成像系统包括依次设置的X射线光源、样品台、X射线探测器和图像反演设备,所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器的几何中心共线,所述样品台的几何中心有用于放置待测样品的通孔,所述X射线光源用于提供X射线,且所述X射线能够通过样品台在所述X射线探测器上形成成像图像,所述图像反演设备用于获取所述成像图像,并对所述成像图像进行图像反演操作,以形成新的成像图像。
[0009] 可选择地,所述X射线光源、样品台、X射线探测器分别设置有对应的光学支架,且所述光学支架为沿高度方向可伸缩的光学支架。
[0010] 可选择地,沿所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器连线方向,所述样品台和所述X射线探测器之间的距离可调。
[0011] 可选择地,所述通孔的直径与所述待测样品之间存在间隙。
[0012] 本发明还提供一种基于上述的超分辨X射线阴影成像系统的成像方法,所述成像方法包括:
[0013] 控制所述X射线光源向所述待测样品发射X射线;
[0014] 获取所述待测样品在所述X射线探测器上形成的成像图像;
[0015] 对所述成像图像进行图像反演操作,得到新的成像图像。
[0016] 可选择地,所述对所述图像进行图像反演操作包括:
[0017] 控制所述X射线光源向所述样品台的通孔发射X射线;
[0018] 获取所述X射线通过所述通孔在所述X射线探测器上形成的原始图像;
[0019] 分别对所述通孔的像素点坐标、所述原始图像和所述成像图像进行傅里叶变换,得到变换后的通孔的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像;
[0020] 根据所述变换后的通孔的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像,利用反卷积操作,得到所述待测样品在傅氏空间的解码像;
[0021] 对所述解码像进行逆傅里叶变换操作,得到所述新的成像图像。
[0022] 可选择地,所述根据所述变换后的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像,利用反卷积操作,得到所述待测样品在傅氏空间的解码像包括:
[0023] FT=FHT./FHA.*FA
[0024] 其中,FT表示所述待测样品在傅氏空间的解码像,FA表示变换后的像素坐标点,FHT表示变换后的原始图像,FHA表示变换后的成像图像。
[0025] 本发明具有以下有益效果:
[0026] 通过上述技术方案,即通过本发明所提供的超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法,图像反演设备能够对成像图像进行图像反演操作,从而使得新的成像图像比原始获得的成像图像更加清晰且分辨率高,进一步克服了光源大小对成像分辨率局限。

附图说明

[0027] 图1为本发明所提供的超分辨X射线阴影成像系统的结构示意图;
[0028] 图2为本发明所提供的超分辨X射线阴影成像方法的流程图;
[0029] 图3为待测样品在X射线探测器上形成的成像图像;
[0030] 图4为X射线通过样品台的通孔在X射线探测器上形成的原始图像;
[0031] 图5为新的成像图像;
[0032] 图6为样品台中的通孔的图像。

具体实施方式

[0033] 以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。
[0034] 实施例
[0035] 本发明解决上述技术问题的技术方案如下:
[0036] 本发明提供一种超分辨X射线阴影成像系统,参考图1所示,所述超分辨X射线阴影成像系统包括依次设置的X射线光源、样品台、X射线探测器和图像反演设备,所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器的几何中心共线,所述样品台的几何中心有用于放置待测样品的通孔,所述X射线光源用于提供X射线,且所述X射线能够通过样品台在所述X射线探测器上形成成像图像,所述图像反演设备用于获取所述成像图像,并对所述成像图像进行图像反演操作,以形成新的成像图像。
[0037] 可选择地,所述X射线光源、样品台、X射线探测器分别设置有对应的光学支架,且所述光学支架为沿高度方向可伸缩的光学支架。
[0038] 这样,在进行成像过程中,能够根据实际需求对X射线光源、样品台和X射线探测器的高度进行调节,从而确保所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器的几何中心共线。
[0039] 当然,为了确保能够得到成像图像的不同大小,本发明所提供的样品台和X射线探测器之间的像距可调,即,沿所述X射线光源、所述样品台和所述X射线探测器所在的方向上,所述样品台可移动和/或所述X射线探测器可移动,从而改变成像比例。
[0040] 由于一般X射线照相只能用针孔照相,而针孔照相由于光通量不够,所以照不清楚,因此在本发明中,所述通孔与所述待测样品之间存在间隙。换言之,本发明所提供的通孔为大孔,即能够使得X射线通过通孔与待测样品间的间隙投射至X射线探测器上,从而确保足够的光通量。
[0041] 本发明还提供一种基于上述的超分辨X射线阴影成像系统的成像方法,参考图2所示,所述成像方法包括:
[0042] 控制所述X射线光源向所述待测样品发射X射线;
[0043] 获取所述待测样品在所述X射线探测器上形成的成像图像;
[0044] 由于待测样品大小并不一定能够完全填充样品台上的通孔,因此,在对待测样品进行成像的过程中,会夹杂有一定的X射线,因而形成的成像图像是X射线本身、通孔和待测样品的成像混叠图像,无法确保其清晰度,参考图3所示。因此,本发明对所述成像图像进行图像反演操作,得到新的成像图像。
[0045] 可选择地,所述对所述图像进行图像反演操作包括:
[0046] 控制所述X射线光源向所述样品台的通孔发射X射线;
[0047] 获取所述X射线通过所述通孔在所述X射线探测器上形成的原始图像;这样,原始图像即为X射线本身和通孔的成像混叠图像具体的原始图像图参考图4所示。
[0048] 分别对所述通孔的像素点坐标、所述原始图像和所述成像图像进行傅里叶变换,得到变换后的通孔的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像;
[0049] 根据所述变换后的通孔的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像,利用反卷积操作,得到所述待测样品在傅氏空间的解码像;
[0050] 对所述解码像进行逆傅里叶变换操作,得到所述新的成像图像,参考图5所示。
[0051] 可选择地,所述根据所述变换后的像素坐标点、变换后的原始图像和变换后的成像图像,利用反卷积操作,得到所述待测样品在傅氏空间的解码像包括:
[0052] FT=FHT./FHA.*FA
[0053] 其中,FT表示所述待测样品在傅氏空间的解码像,FA表示变换后的像素坐标点,FHT表示变换后的原始图像,FHA表示变换后的成像图像。
[0054] 本发明具有以下有益效果:
[0055] 通过上述技术方案,即通过本发明所提供的超分辨X射线阴影成像系统及其成像方法,图像反演设备能够对成像图像进行图像反演操作,从而使得新的成像图像比原始获得的成像图像更加清晰且分辨率高,进一步克服了光源大小对成像分辨率局限。
[0056] 以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。