GSPL-SNST氮化硅流延素坯及制备方法

摘要

本发明提供GSPL‑SNST氮化硅流延素坯的制备方法，包括以下步骤：利用SDPR预处理系统和/或HVCM预处理系统和/或GSPL生产线制备的GSPL‑SNCS浆料，经真空消泡、流延、烘干形成厚度为T0的第一素坯。将N层除去膜带后的第一素坯进行裁切和整齐层叠并用PET真空包装袋密封后置于等静压机中在1‑40MPa压力下静压5‑40分钟，形成由多层第一素坯融合而成的第二素坯。本发明的方法生产的第一素胚的各方面性能优于之前的素胚，用等静压机让多层素胚融合，这样就保证了，切片的时候每一块的素胚性能几乎完全一致，粗糙度比较小，且无明显分层和气孔现象。我们可以根据需要去定制所需要的厚度，不会产生浪费。