全息光栅制作装置

摘要

本发明提供一种全息光栅制作装置，包括：用于发射激光的激光器；用于调整光强的光强调整部件；用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件包括第一透过率调整部件和第二透过率调整部件，第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布相同或互为镜像；用于移动第一透过率调整部件的第一移动部件，与第一透过率调整部件连接；用于移动第二透过率调整部件的第二移动部件，与第二透过率调整部件连接；以及基板。本发明可以制作占宽比分布可调的光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。

权利要求

1.一种全息光栅制作装置，其特征在于，包括：

用于发射激光的激光器；

用于调整光强的光强调整部件；

用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，所述透过率调整部件包括第一透过率调整部件和第二透过率调整部件，所述第一透过率调整部件的透过率分布与所述第二透过率调整部件的透过率分布互为镜像；

用于移动所述第一透过率调整部件的第一移动部件，与所述第一透过率调整部件连接；

用于移动所述第二透过率调整部件的第二移动部件，与所述第二透过率调整部件连接；以及基板；

所述激光器发射的激光经所述光强调整部件调整光强后进入移动的所述第一透过率调整部件和移动的所述第二透过率调整部件分别得到第一相干光和第二相干光；所述第一相干光和所述第二相干光在所述基板上发生干涉形成光栅；

其中，所述透过率调整部件为异形光阑或遮光板；

当所述透过率调整部件为所述异形光阑时，所述第一移动部件带动所述第一透过率调整部件，所述第二移动部件带动所述第二透过率调整部件从中间以同样的速度向两侧匀速移动以保证两部分形成干涉条纹的光束在照射所述基板的区域重合，同时所述光强调整部件逐渐增大光束的整体光强，令所述基板上任意一点的曝光时间等于所述透过率调整部件的通光区域在所述点对应高度上的宽度除以移动部件的移动速度；光束强度为高斯分布的光束的中间部分的光强大于上下部分的光强，通过设置透过率调整部件的通光区域的形状使纵向上中间区域的曝光时间短于上下区域，横向上由于光束强度的高斯分布，基板右侧更靠近光束中心，光强更强，随着所述透过率调整部件向两侧移动，曝光区域向左移动，所用的光束部分逐渐远离光束中心，光强相比中心更弱，同时所述光强调整部件逐渐增大光束的整体光强，以抵消横向上曝光量渐弱的趋势，获得均匀的总曝光量分布，形成占宽比均一的光栅；或当所述透过率调整部件为所述遮光板时，所述第一移动部件带动所述第一透过率调整部件，所述第二移动部件带动所述第二透过率调整部件从中间以同样的速度向两侧匀速移动以保证两部分形成干涉条纹的光束在照射所述基板的区域重合，同时所述光强调整部件逐渐减小光束的整体光强，令所述基板上任意一点的曝光时间为总曝光时间扣除所述透过率调整部件在所述点对应高度上的宽度除以移动部件的移动速度；光束强度为高斯分布的光束的中间部分的光强大于上下部分的光强，通过设置透过率调整部件的通光区域的形状使纵向上中间区域的曝光时间短于上下区域，横向上由于光束强度的高斯分布，基板右侧更靠近光束中心，光强更强，随着所述透过率调整部件向两侧移动，所述透过率调整部件在所述基板上的投影向左移动，同时所述光强调整部件逐渐减小光束的整体光强，以抵消横向上曝光量渐弱的趋势，获得均匀的总曝光量分布，形成占宽比均一的光栅。

2.根据权利要求1所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：

位于所述光强调整部件和所述透过率调整部件之间的滤波扩束部件，用于对调整光强后的激光进行滤波扩束。

3.根据权利要求2所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：

位于所述滤波扩束部件和所述透过率调整部件之间的光束准直部件，用于对经过滤波扩束的激光进行准直处理。

4.根据权利要求3所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：

与所述基板呈直角设置的反射部件，用于将经过所述透过率调整部件的相干光反射至所述基板。

5.根据权利要求4所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：

分别与所述基板和所述反射部件连接的旋转部件；

所述基板和所述反射部件的交线与所述旋转部件的旋转轴重合，用于改变所述第一相干光与所述第二相干光的夹角。

6.根据权利要求4所述的全息光栅制作装置，其特征在于，所述基板和所述反射部件的交线与所述激光的中心轴线相交。

7.根据权利要求3所述的全息光栅制作装置，其特征在于，还包括：

分别与所述第一透过率调整部件和所述第二透过率调整部件连接的遮光部件。

说明书

全息光栅制作装置

技术领域

[0001] 本发明涉及光栅技术领域，具体地，涉及一种全息光栅制作装置。

背景技术

[0002] 图1是全息光栅的制作原理示意图。图2是覆有已曝光的光刻胶层的基板的示意图。图3是浮雕光栅的示意图。如图1‑图3所示，制作全息光栅的基本原理为：

[0003] 两束相干且成一定夹角的光束301A和301B干涉形成明暗相间的干涉条纹302。在基板303上覆一层光刻胶（光敏材料）涂层304，光刻胶层304在光照下发生化学反应，在显影液中的溶解性发生不同程度的改变。光刻胶层304在干涉条纹302的照射下发生反应的过程称为曝光，接收的光强越大，被照射时间越长，反应程度越剧烈。经过曝光，光刻胶层304记录下了一定时间内干涉条纹302的明暗信息。接着将覆有已曝光的光刻胶层304的基板303浸没入显影液一定时间并取出，由于光刻胶层304各部分的溶解性不同，其溶解后成为具有高低相间的浮雕结构的浮雕光栅305，这个步骤称为显影。当光刻胶涂层304为“正胶”，即被光照更多的部分更容易溶解时，显影后所得光栅占宽比于曝光量呈负相关，在增加曝光量后的相同显影时间下溶解进入显影液的光刻胶更多，留下的光栅结构更窄，获得的浮雕光栅305占宽比更小；反之，当光刻胶涂层304为“负胶”，即被光照更多的部分更难以溶解时，在增加曝光量后的相同显影时间下获得的浮雕光栅305的占宽比更大。

[0004] 目前典型的全息光栅制作装置在曝光过程中的两部分激光未经过透过率调整，直接形成干涉条纹并最终在基板上形成光栅，曝光量的分布完全取决于不可控的准直激光的强度分布，因此期望获得的占宽比分布也受制于准直激光的强度分布，难以控制。

发明内容

[0005] 本发明实施例的主要目的在于提供一种全息光栅制作装置，以制作占宽比分布可调的光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。

[0006] 为了实现上述目的，本发明实施例提供一种全息光栅制作装置，包括：

[0007] 用于发射激光的激光器；

[0008] 用于调整光强的光强调整部件；

[0009] 用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件包括第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件，第一透过率调整部件和第二透过率调整部件的透过率分布相同或互为镜像；

[0010] 用于移动第一透过率调整部件的第一移动部件，与第一透过率调整部件连接；

[0011] 用于移动第二透过率调整部件的第二移动部件，与第二透过率调整部件连接；以及

[0012] 基板；

[0013] 激光器发射的激光经光强调整部件调整光强后进入移动的第一透过率调整部件和移动的第二透过率调整部件分别得到第一相干光和第二相干光；第一相干光和第二相干光在基板上发生干涉形成光栅。

[0014] 在其中一种实施例中，还包括：

[0015] 位于光强调整部件和透过率调整部件之间的滤波扩束部件，用于对调整光强后的激光进行滤波扩束。

[0016] 在其中一种实施例中，还包括：

[0017] 位于滤波扩束部件和透过率调整部件之间的光束准直部件，用于对经过滤波扩束的激光进行准直处理。

[0018] 在其中一种实施例中，还包括：

[0019] 与基板呈直角设置的反射部件，用于将经过透过率调整部件的相干光反射至基板；

[0020] 第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布互为镜像。

[0021] 在其中一种实施例中，还包括：

[0022] 分别与基板和反射部件连接的旋转部件；

[0023] 基板和反射部件的交线与旋转部件的旋转轴重合，用于改变第一相干光与第二相干光的夹角。

[0024] 在其中一种实施例中，基板和反射部件的交线与激光的中心轴线相交。

[0025] 在其中一种实施例中，还包括：

[0026] 分别与第一透过率调整部件和第二透过率调整部件连接的遮光部件。

[0027] 在其中一种实施例中，还包括：

[0028] 位于光强调整部件和滤波扩束部件之间的分光镜，用于将调整光强后的激光分为第一激光和第二激光；

[0029] 滤波扩束部件包括第一滤波扩束部件和第二滤波扩束部件，光束准直部件包括第一光束准直部件和第二光束准直部件；第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布相同；

[0030] 第一激光依次经过第一滤波扩束部件和第一光束准直部件后进入第一透过率调整部件，第二激光依次经过第二滤波扩束部件和第二光束准直部件后进入第二透过率调整部件。

[0031] 在其中一种实施例中，还包括：

[0032] 位于分光镜和滤波扩束部件之间的反射部件；

[0033] 第一激光经反射部件反射进入第一滤波扩束部件，第二激光经反射部件反射进入第二滤波扩束部件。

[0034] 在其中一种实施例中，反射部件包括：

[0035] 第一反射部件、第二反射部件和第三反射部件；

[0036] 第一激光经第一反射部件反射进入第一滤波扩束部件；

[0037] 第二激光经第二反射部件反射后，再经第三反射部件反射进入第二滤波扩束部件。

[0038] 在其中一种实施例中，经过第一光束准直部件的第一激光与经过第二光束准直部件的第二激光的中心轴线位于基板的中心。

[0039] 本发明实施例的全息光栅制作装置包括用于发射激光的激光器、用于调整光强的光强调整部件、用于调整激光透过率的透过率调整部件、用于移动透过率调整部件的移动部件和基板，可以制作占宽比分布可调的光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。

附图说明

[0040] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

[0041] 图1是全息光栅的制作原理示意图；

[0042] 图2是覆有已曝光的光刻胶层的基板的示意图；

[0043] 图3是浮雕光栅的示意图；

[0044] 图4是光栅结构的剖面图；

[0045] 图5是本发明第一实施例中全息光栅制作装置的示意图；

[0046] 图6是本发明第二实施例中全息光栅制作装置的示意图；

[0047] 图7是本发明第三实施例中全息光栅制作装置的示意图；

[0048] 图8是本发明第一实施例中其中一种透过率调整部件的A‑A断面图；

[0049] 图9是本发明第一实施例中另一种透过率调整部件的A‑A断面图；

[0050] 图10是本发明第一实施例中其中一种透过率调整部件对应的基板B‑B断面图；

[0051] 图11是本发明第一实施例中另一种透过率调整部件对应的基板B‑B断面图；

[0052] 图12是本发明第二实施例中透过率调整部件的A‑A断面图；

[0053] 图13是本发明第二施例中透过率调整部件对应的基板B‑B断面图。

具体实施方式

[0054] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0055] 本领域技术人员知道，本发明的实施方式可以实现为一种系统、装置、设备、方法或计算机程序产品。因此，本公开可以具体实现为以下形式，即：完全的硬件、完全的软件（包括固件、驻留软件、微代码等），或者硬件和软件结合的形式。

[0056] 本发明涉及的术语解释如下：

[0057] 曝光量：指基板接收到干涉条纹的强度随时间的积分，代表了一定时间内基板接收到干涉条纹强度的总和。

[0058] 占宽比：描述光栅微观形貌的一个参数。图4是光栅结构的剖面图。如图4所示，占宽比指栅线的宽度与一个光栅周期的宽度之比。

[0059] 鉴于现有光栅制作装置的曝光量分布不均匀且难以调节的问题，本发明实施例提供了一种全息光栅制作装置，其在曝光过程中利用移动的透过率调整部件和变化的激光强度使曝光量的分布随位置的变化而变化；由于透过率调整部件的移动方式和激光强度的变化都可以精确控制，进而可以获得占宽比分布按照特定预期随位置变化而变化的光栅。因此本发明可以通过调制曝光量分布制作占宽比随位置分布可调的全息光栅，实现对光栅不同区域衍射性能的调制。以下结合附图对本发明进行详细说明。

[0060] 图5是本发明第一实施例中全息光栅制作装置的示意图。图6是本发明第二实施例中全息光栅制作装置的示意图。图7是本发明第三实施例中全息光栅制作装置的示意图。如图5‑图7所示，全息光栅制作装置包括：

[0061] 用于发射激光的激光器（611、911或811）；形成全息曝光的相干光由激光器发出。典型激光器发出的光束是一种高斯光束，其经过扩束、准直后依旧是高斯光束。高斯光束的光强从光束中心向周围按照高斯函数的形式递减。

[0062] 用于调整光强的光强调整部件（601、901或801）；

[0063] 用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件包括第一透过率调整部件（604A、904A或807A）和第二透过率调整部件（604B、904B或807B），第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布相同或互为镜像（604A与604B互为镜像，904A与904B互为镜像，807A与807B相同）；透过率调整部件可以采用任意形状的异形光阑、遮光板，或任意形状和任意透过率分布的衰减片。

[0064] 用于移动第一透过率调整部件的第一移动部件（606A、905A或806A），与第一透过率调整部件连接；

[0065] 用于移动所述第二透过率调整部件的第二移动部件（606B、905B或806B），与第二透过率调整部件连接；以及

[0066] 基板（607、906或808）。

[0067] 激光器发射的激光经光强调整部件调整光强后进入移动的第一透过率调整部件和移动的第二透过率调整部件分别得到第一相干光和第二相干光；第一相干光和第二相干光在基板上发生干涉形成光栅。

[0068] 一实施例中，全息光栅制作装置还包括：

[0069] 位于光强调整部件和透过率调整部件之间的滤波扩束部件（602、902、804A或804B），用于对调整光强后的激光进行滤波扩束；

[0070] 位于滤波扩束部件和透过率调整部件之间的光束准直部件（603、903、805A或805B），用于对经过滤波扩束的激光进行准直处理。

[0071] 如图5和图6所示，全息光栅制作装置的第一实施例和第二实施例还包括与基板呈直角设置的反射部件（608或907），用于将经过透过率调整部件的相干光反射至基板。基板和反射部件的交线与激光的中心轴线相交。在第一实施例和第二实施例中，第一透过率调整部件的透过率分布与第二透过率调整部件的透过率分布互为镜像。

[0072] 如图5和图6所示，全息光栅制作装置的第一实施例和第二实施例还包括分别与基板（607或906）和反射部件（608或907）连接的旋转部件（612或912）；基板和反射部件的交线与旋转部件的旋转轴重合，用于改变第一相干光与第二相干光的夹角以改变光栅制作的周期。

[0073] 如图5所示，全息光栅制作装置的第一实施例还包括：分别与第一透过率调整部件604A和第二透过率调整部件604B连接的遮光部件605。

[0074] 本发明的第一实施例用于补偿高斯光束光强分布获得占宽比均一或按照一定形式分布的光栅。如图5所示，第一实施例包括：

[0075] 用于发射激光的激光器611；

[0076] 用于调整光强的光强调整部件601；

[0077] 用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件可以为异型光阑，包括第一透过率调整部件604A和第二透过率调整部件604B。图8是本发明第一实施例中其中一种透过率调整部件的A‑A断面图；如图8所示，第一透过率调整部件604A的通光区域609A和第二透过率调整部件604B的通光区域609B互为镜像。图9是本发明第一实施例中另一种透过率调整部件的A‑A断面图。如图9所示，第一透过率调整部件604A的通光区域709A和第二透过率调整部件604B的通光区域709B互为镜像。

[0078] 分别与第一透过率调整部件604A和第二透过率调整部件604B连接的可折叠遮光部件605；

[0079] 用于移动第一透过率调整部件604A的第一移动部件606A，与第一透过率调整部件604A连接；

[0080] 用于移动第二透过率调整部件604B的第二移动部件606B，与第二透过率调整部件604B连接；

[0081] 位于光强调整部件601和透过率调整部件之间的滤波扩束部件602，用于对调整光强后的激光进行滤波扩束；

[0082] 位于滤波扩束部件602和透过率调整部件之间的光束准直部件603，用于对经过滤波扩束的激光进行准直处理；

[0083] 涂有光敏材料涂层的基板607；

[0084] 与基板607呈直角设置的反射部件608，用于将经过透过率调整部件的相干光反射至基板607，基板607和反射部件608的交线与激光的中心轴线相交；以及

[0085] 分别与基板607和反射部件608连接的旋转部件612；基板607和反射部件608的交线与旋转部件612的旋转轴重合，用于改变第一相干光与第二相干光的夹角以改变光栅制作的周期。

[0086] 图10是本发明第一实施例中其中一种透过率调整部件对应的基板B‑B断面图。如图10所示，基板607上存在被通过图8所示的透过率调整部件的光束曝光的区域610。

[0087] 以图10为例，在曝光过程中，第一移动部件606A带动第一透过率调整部件604A，第二移动部件606B带动第二透过率调整部件604B从中间以同样的速度向两侧匀速移动以保证两部分形成干涉条纹的光束在照射基板607的区域重合，同时光强调整部件601逐渐增大光束的整体光强。因此，基板607上任意一点的曝光时间等于通光区域609A或609B在这一点对应高度上的宽度除以移动部件的移动速度。

[0088] 由基板607的被曝光区域610的形状可知，在纵向上中间区域的曝光时间短于上下区域。由于光束强度高斯分布，中间部分的光强大于上下部分的光强，因此在纵向上的曝光量不均匀性可以被抵消。在横向上由于光束强度的高斯分布，图10中基板607右侧更靠近光束中心，光强更强，随着光阑向两侧移动，曝光区域610向左移动，所用的光束部分逐渐远离光束中心，光强相比中心更弱，但同时由于整体光强被光强调整部件601增大，因此横向上曝光量渐弱的趋势也被抵消。综上，两个方向的光强不均匀现象都得到了补偿，获得的总曝光量分布更加均匀，因此可以形成占宽比更加均一的光栅。

[0089] 图11是本发明第一实施例中另一种透过率调整部件对应的基板B‑B断面图。如图11所示，基板607上存在被通过图9所示的透过率调整部件的光束曝光的区域710。

[0090] 以图11为例，在曝光过程中，第一移动部件606A带动第一透过率调整部件604A，第二移动部件606B带动第二透过率调整部件604B从中间以同样的速度向两侧匀速移动以保证两部分形成干涉条纹的光束在照射基板607的区域重合，同时光强调整部件601逐渐减小光束的整体光强。随着透过率调整部件向两侧移动，曝光区域710向左移动。

[0091] 由基板607的被曝光区域710的形状可知，基板607上的曝光量从右下向左上递减分布，因此形成的光栅占宽比将从右下向坐上递减分布，丰富了可制作光栅的形式，可以制作按照一定形式分布的光栅，实现更多种的光栅性能。

[0092] 本发明的第二实施例用于补偿高斯光束光强分布获得占宽比均一的光栅。如图6所示，第二实施例包括：

[0093] 用于发射激光的激光器911；

[0094] 用于调整光强的光强调整部件901；

[0095] 用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件可以为遮光板，包括第一透过率调整部件904A和第二透过率调整部件904B。图12是本发明第二实施例中透过率调整部件的A‑A断面图；如图12所示，第一透过率调整部件904A和第二透过率调整部件904B互为镜像，第一透过率调整部件904A的遮光区域和第二透过率调整部件904B的遮光区域也互为镜像。

[0096] 用于移动第一透过率调整部件904A的第一移动部件905A，与第一透过率调整部件904A连接；

[0097] 用于移动第二透过率调整部件904B的第二移动部件905B，与第二透过率调整部件904B连接；

[0098] 位于光强调整部件901和透过率调整部件之间的滤波扩束部件902，用于对调整光强后的激光进行滤波扩束；

[0099] 位于滤波扩束部件902和透过率调整部件之间的光束准直部件903，用于对经过滤波扩束的激光进行准直处理；

[0100] 涂有光敏材料涂层的基板906；

[0101] 与基板906呈直角设置的反射部件907，用于将经过透过率调整部件的相干光反射至基板906，基板906和反射部件907的交线与激光的中心轴线相交；以及

[0102] 分别与基板906和反射部件907连接的旋转部件912；基板906和反射部件907的交线与旋转部件912的旋转轴重合，用于改变第一相干光与第二相干光的夹角以改变光栅制作的周期。

[0103] 图13是本发明第二施例中透过率调整部件对应的基板B‑B断面图。如图13所示，基板906上存在被通过图12所示的透过率调整部件的光束曝光的区域908。

[0104] 以图12为例，在曝光过程中，第一移动部件905A带动第一透过率调整部件904A，第二移动部件905B带动第二透过率调整部件904B从中间以同样的速度向两侧匀速移动以保证两部分形成干涉条纹的光束在照射基板906的区域重合，同时光强调整部件601逐渐减小光束的整体光强。因此，基板906上任意一点的曝光时间为总曝光时间扣除第一透过率调整部件904A或第二透过率调整部件904B在对应高度上的宽度除以移动部件的移动速度得到的时间。

[0105] 由基板906的被曝光区域908的形状可知，在纵向上中间区域的曝光时间短于上下区域。由于光束强度高斯分布，中间部分的光强大于上下部分的光强，因此在纵向上的曝光量不均匀性可以被抵消。在横向上由于光束强度的高斯分布，图13中基板906右侧更靠近光束中心，光强更强，随着遮光板向两侧移动，整体光强被光强调整部件901减小，因此横向上曝光量渐弱的趋势也被抵消。综上，两个方向的光强不均匀现象都得到了补偿，获得的总曝光量分布更加均匀，因此可以形成占宽比更加均一的光栅。

[0106] 如图7所示，全息光栅制作装置的第三实施例包括：

[0107] 用于发射激光的激光器811；

[0108] 用于调整光强的光强调整部件801；

[0109] 用于调整激光透过率的透过率调整部件；其中，透过率调整部件可以为异型光阑，包括第一透过率调整部件807A和第二透过率调整部件807B。第一透过率调整部件807A的通光区域（透过率分布）和第二透过率调整部件807B的通光区域（透过率分布）相同；

[0110] 用于移动第一透过率调整部件807A的第一移动部件806A，与第一透过率调整部件807A连接；

[0111] 用于移动第二透过率调整部件807B的第二移动部件806B，与第二透过率调整部件807B连接；

[0112] 位于光强调整部件801和滤波扩束部件之间的分光镜802，用于将调整光强后的激光分为第一激光和第二激光；

[0113] 位于分光镜802和滤波扩束部件之间的用于调整光束方向的反射部件，包括第一反射部件803A、第二反射部件803B和第三反射部件803C；第一激光经第一反射部件803A反射进入第一滤波扩束部件804A，第二激光经第二反射部件803B反射后，再经第三反射部件803C反射进入第二滤波扩束部件804B；

[0114] 位于光强调整部件801和第一透过率调整部件807A之间的第一滤波扩束部件804A，用于对调整光强后的第一激光进行滤波扩束；

[0115] 位于光强调整部件801和第二透过率调整部件807B之间的第二滤波扩束部件804B，用于对调整光强后的第二激光进行滤波扩束；

[0116] 位于第一滤波扩束部件804A和第一透过率调整部件807A之间的第一光束准直部件805A，用于对经过滤波扩束的第一激光进行准直处理；

[0117] 位于第二滤波扩束部件804B和第二透过率调整部件807B之间的第二光束准直部件805B，用于对经过滤波扩束的第二激光进行准直处理；

[0118] 第一激光依次经过第一滤波扩束部件804A和第一光束准直部件805A后进入第一透过率调整部件806A，第二激光依次经过第二滤波扩束部件804B和第二光束准直部件805B后进入第二透过率调整部件806B，因此本发明可以获得两束成一定夹角的相干宽光束；以及

[0119] 涂有光敏材料涂层的基板808；其中，经过第一光束准直部件805A的第一激光与经过第二光束准直部件805B的第二激光的中心轴线位于基板808的中心。为了保证两束形成干涉条纹的干涉光照射基板808的区域重合，第一移动部件806A和第二移动部件806B以相同速度同向移动而非反向移动。

[0120] 综上所述，本发明实施例提供的全息光栅制作装置具有以下有益效果：

[0121] （1）通过光强调整部件和移动透过率调整部件对曝光量的调制作用调制全息光栅制作时的曝光量分布，进一步调整所形成光栅在不同区域的不同占宽比，进而在同一片光栅的不同位置实现不同的衍射性能；或抵消原本曝光光强不均匀的影响，获得占宽比更均一的光栅；

[0122] （2）相比现有的全息光栅制作技术不额外增加新的制备步骤，占宽比的调制在曝光过程中完成，不额外增加光栅的制作成本。

[0123] 以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等（如任意规律的光强调节、任意形式的透过率调整部件（包括但不限于任意形状的异形光阑、任意形状的遮光板、任意形状或任意透过率分布的衰减片）和移动部件带动透过率调整部件的任意变化移动速度），均应包含在本发明的保护范围之内。