一种铜箔表面处理机的张力调整组件及调整方法

摘要

本发明公开了一种铜箔表面处理机的张力调整组件，涉及到铜箔表面处理机配件领域，包括支撑组件，所述支撑组件的上方对称设置有两个定位组件，所述支撑组件的内侧中部设置有调节组件，所述支撑组件的上方中部设置有辅助组件，所述支撑组件包括支撑架，所述支撑架的两侧均贯穿开设有两个对称分布的定位滑槽，所述定位组件包括两个对称分布的转杆，所述转杆的两端分别与两个定位滑槽贯穿连接，所述调节组件包括两个对称分布的活动座，本发明解决了到收卷机构收卷时，铜箔会产生过度松弛或过度张紧，如果直接将铜箔进行收卷，就会影响铜箔的收卷平展和张力,并且在铜箔的传送过程中，容易沾染灰尘杂质，不方便清理的问题。

权利要求

1.一种铜箔表面处理机的张力调整组件，其特征在于，包括支撑组件，所述支撑组件的上方对称设置有两个定位组件，所述支撑组件的内侧中部设置有调节组件，所述支撑组件的上方中部设置有辅助组件；

所述支撑组件包括支撑架，所述支撑架的两侧均贯穿开设有两个对称分布的定位滑槽，所述支撑架的内侧中部固定连接有两个固定架，所述固定架的中部贯穿开设有通孔；

所述定位组件包括两个对称分布的转杆，所述转杆的两端分别与两个定位滑槽贯穿连接；

所述调节组件包括两个对称分布的活动座，所述活动座通过销轴与转杆的中部活动连接；

所述活动座的一端固定连接有活动板，所述活动板的内侧面中部固定连接有伸缩气囊，所述伸缩气囊的一端固定连接有连接管，所述连接管与固定架中部的通孔贯穿连接，所述连接管的一端通过连接头固定连接有导管，所述导管的中部通过三通固定连接有延伸管，所述延伸管的设有电动阀门，所述延伸管的一端固定连接有调节气囊，所述调节气囊由多个环形结构的气囊串联组成，所述延伸管的外侧套接连接有活动架，所述活动架的一侧与调节气囊的一端相贴合；

所述调节气囊的另一端设置有压板，所述压板靠近调节气囊的一侧中部设置有凸块，所述凸块设置为半球形结构，所述压板的圆周面固定连接有多个呈环形阵列分布的连接套，所述活动架的内侧固定连接有多个呈环形阵列分布的电动推杆，所述电动推杆的伸缩端与连接套贯穿连接，所述压板的中部设有与调节气囊连通的气管，所述气管上设有电磁阀，所述气管远离压板的一端设有喷嘴；

所述辅助组件包括两个对称分布的辅助架，所述辅助架的底端与支撑架的上表面固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种铜箔表面处理机的张力调整组件，其特征在于：两个所述固定架呈对称分布，所述支撑架的下表面固定连接有延伸架，所述支撑架的两侧中部均贯穿开设有两个对称分布的导向滑槽。

3.根据权利要求2所述的一种铜箔表面处理机的张力调整组件，其特征在于：所述支撑架的两端均固定连接有两个对称分布的支撑板，所述支撑板设置为倾斜结构，所述支撑板的内侧顶端设置有换向辊，所述支撑架的一侧内壁中部固定连接有驱动电机，所述驱动电机的输出轴固定连接有驱动链轮，所述导向滑槽的内部设置有导向滑块，所述导向滑块的一侧固定连接有推力弹簧，所述推力弹簧的一端与导向滑槽的一侧内壁固定连接，所述导向滑块的外侧设置有张紧链轮。

4.根据权利要求3所述的一种铜箔表面处理机的张力调整组件，其特征在于：所述转杆的两端均固定连接有滑座，所述滑座位于定位滑槽内，所述转杆的两端固定连接有两个对称分布的活动辊，所述转杆的一端固定连接有传动链轮，所述传动链轮位于滑座的外侧，所述传动链轮、驱动链轮和张紧链轮之间通过同步链条传动连接。

5.根据权利要求1所述的一种铜箔表面处理机的张力调整组件，其特征在于：所述导管的底端固定连接有三通管，所述三通管的中部镶嵌有加气嘴，所述三通管的一端固定连接有调节气筒，所述调节气筒的一端中部镶嵌有螺纹套，所述螺纹套的中部插接连接有调节螺杆，所述调节螺杆的一端通过轴承活动连接有活塞板，所述活塞板位于调节气筒内，所述调节螺杆的一端固定连接有手轮，所述调节气筒的上表面中部设置有观察窗，所述观察窗的两侧均设置有刻度线。

6.根据权利要求4所述的一种铜箔表面处理机的张力调整组件，其特征在于：所述辅助架的内侧面顶端固定连接有连接板，所述连接板的中部设有距离传感器，所述辅助架的内侧壁顶端通过轴承活动连接有两个辅助辊，所述连接板的上表面贯穿开设有两个对称分布的插槽，所述插槽的内部插接连接有插杆，所述插杆的底端固定连接有活动框，所述插杆的外侧底端套接连接有张紧弹簧，所述活动框的内侧壁底端通过轴承活动连接有辅助调节辊。

7.一种铜箔表面处理机的张力调整组件的调整方法，所述方法根据权利要求6所述的一种铜箔表面处理机的张力调整组件对张力进行调整，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、组件安装：将装置安装于铜箔表面处理机的铜箔牵引路径上，使铜箔依次经过换向辊、活动辊、辅助辊和辅助调节辊；

步骤二、张力预调节：在铜箔表面处理机未进入工作时，通过调整调节组件中伸缩气囊的形变量实现对活动辊位置的调整，实现对铜箔张力的预调节；

步骤三、牵引铜箔：通过支撑组件中的驱动电机带动两个活动辊转动，活动辊带动铜箔运动，实现对铜箔的牵引；

步骤四、张力调节：铜箔在移动过程中，张紧弹簧对辅助调节辊作用，使得辅助调节辊对铜箔施加压力，铜箔张力过大时，活动辊挤压伸缩气囊，从而实现对铜箔的张力进行调整。

说明书

一种铜箔表面处理机的张力调整组件及调整方法

技术领域

[0001] 本发明涉及铜箔表面处理机配件领域，特别涉及一种铜箔表面处理机的张力调整组件及调整方法。

背景技术

[0002] 电解铜箔是电子工业的基础材料之一，除用于绕行母线、无线电波屏蔽板、高频汇流排及热能收集器等领域外，90％以上用来制造印刷电路板，传送电信号，电解铜箔是目前电子行业用铜箔主要制造方法，该方法是利用电化学原理，在配套系统的作用下，将一定浓度的电解液送入生箔机，在低压直流电的作用下，电解液中的铜离子不断移向阴极辊，并在其上取得两个电子后变成铜原子沉积在连续旋转阴极辊表面而形成铜箔，随着阴极辊的转动，铜箔不断剥离，生成我们常说得原箔。原箔不能直接用于覆铜板，必须通过表面处理工艺，目的是为了增强和提高其抗剥强度、热稳定性和高温防氧化性等，铜箔表面处理主要有：酸洗、粗化、固化、镀锌、防锈、防氧化和漂洗，最后进行烘干收卷，形成成品满足覆铜板对铜箔材料的要求。

[0003] 铜箔在经过酸洗、粗化、固化、镀锌、防锈、防氧化、漂洗和烘干等工艺过程，铜箔需要经过60多个导辊和导电辊及10多个酸液槽和水槽，到收卷机构收卷时，铜箔会由于以上因素的影响产生过度松弛或过度张紧，如果直接将铜箔进行收卷，就会影响铜箔的收卷平展和张力；并且在铜箔的传送过程中，容易沾染灰尘杂质，不方便清理，因此，发明一种铜箔表面处理机的张力调整组件及调整方法来解决上述问题很有必要。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于提供一种铜箔表面处理机的张力调整组件及调整方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

[0005] 为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种铜箔表面处理机的张力调整组件，包括支撑组件，所述支撑组件的上方对称设置有两个定位组件，所述支撑组件的内侧中部设置有调节组件，所述支撑组件的上方中部设置有辅助组件；

[0006] 所述支撑组件包括支撑架，所述支撑架的两侧均贯穿开设有两个对称分布的定位滑槽；

[0007] 所述定位组件包括两个对称分布的转杆，所述转杆的两端分别与两个定位滑槽贯穿连接；

[0008] 所述调节组件包括两个对称分布的活动座，所述活动座通过销轴与转杆的中部活动连接；

[0009] 所述辅助组件包括两个对称分布的辅助架，所述辅助架的底端与支撑架的上表面固定连接。

[0010] 优选的，所述支撑架的内侧中部固定连接有两个固定架，所述固定架的中部贯穿开设有通孔，两个所述固定架呈对称分布，所述支撑架的下表面固定连接有延伸架，所述支撑架的两侧中部均贯穿开设有两个对称分布的导向滑槽。

[0011] 优选的，所述支撑架的两端均固定连接有两个对称分布的支撑板，所述支撑板设置为倾斜结构，所述支撑板的内侧顶端设置有换向辊，所述支撑架的一侧内壁中部固定连接有驱动电机，所述驱动电机的输出轴固定连接有驱动链轮，所述导向滑槽的内部设置有导向滑块，所述导向滑块的一侧固定连接有推力弹簧，所述推力弹簧的一端与导向滑槽的一侧内壁固定连接，所述导向滑块的外侧设置有张紧链轮。

[0012] 优选的，所述转杆的两端均固定连接有滑座，所述滑座位于定位滑槽内，所述转杆的两端固定连接有两个对称分布的活动辊，所述转杆的一端固定连接有传动链轮，所述传动链轮位于滑座的外侧，所述传动链轮、驱动链轮和张紧链轮之间通过同步链条传动连接。

[0013] 优选的，所述活动座的一端固定连接有活动板，所述活动板的内侧面中部固定连接有伸缩气囊，所述伸缩气囊的一端固定连接有连接管，所述连接管与固定架中部的通孔贯穿连接，所述连接管的一端通过连接头固定连接有导管。

[0014] 优选的，所述导管的中部通过三通固定连接有延伸管，所述延伸管的设有电动阀门，所述延伸管的一端固定连接有调节气囊，所述调节气囊由多个环形结构的气囊串联组成，所述延伸管的外侧套接连接有活动架，所述活动架的一侧与调节气囊的一端相贴合。

[0015] 优选的，所述调节气囊的另一端设置有压板，所述压板靠近调节气囊的一侧中部设置有凸块，所述凸块设置为半球形结构，所述压板的圆周面固定连接有多个呈环形阵列分布的连接套，所述活动架的内侧固定连接有多个呈环形阵列分布的电动推杆，所述电动推杆的伸缩端与连接套贯穿连接，所述压板的中部设有与调节气囊连通的气管，所述气管上设有电磁阀，所述气管远离压板的一端设有喷嘴。

[0016] 优选的，所述导管的底端固定连接有三通管，所述三通管的中部镶嵌有加气嘴，所述三通管的一端固定连接有调节气筒，所述调节气筒的一端中部镶嵌有螺纹套，所述螺纹套的中部插接连接有调节螺杆，所述调节螺杆的一端通过轴承活动连接有活塞板，所述活塞板位于调节气筒内，所述调节螺杆的一端固定连接有手轮，所述调节气筒的上表面中部设置有观察窗，所述观察窗的两侧均设置有刻度线。

[0017] 优选的，所述辅助架的内侧面顶端固定连接有连接板，所述连接板的中部设有距离传感器，所述辅助架的内侧壁顶端通过轴承活动连接有两个辅助辊，所述连接板的上表面贯穿开设有两个对称分布的插槽，所述插槽的内部插接连接有插杆，所述插杆的底端固定连接有活动框，所述插杆的外侧底端套接连接有张紧弹簧，所述活动框的内侧壁底端通过轴承活动连接有辅助调节辊。

[0018] 一种铜箔表面处理机的张力调整组件的调整方法，所述方法利用所述一种铜箔表面处理机的张力调整组件对张力进行调整，包括以下步骤：

[0019] 步骤一、组件安装：将装置安装于铜箔表面处理机的铜箔牵引路径上，使铜箔依次经过换向辊、活动辊、辅助辊和辅助调节辊；

[0020] 步骤二、张力预调节：在铜箔表面处理机未进入工作时，通过调整调节组件中伸缩气囊的形变量实现对活动辊位置的调整，实现对铜箔张力的预调节；

[0021] 步骤三、牵引铜箔：通过支撑组件中的驱动电机带动两个活动辊转动，活动辊带动铜箔运动，实现对铜箔的牵引；

[0022] 步骤四、张力调节：铜箔在移动过程中，张紧弹簧对辅助调节辊作用，使得辅助调节辊对铜箔施加压力，铜箔张力过大时，活动辊挤压伸缩气囊，从而实现对铜箔的张力进行调整。

[0023] 本发明的技术效果和优点：

[0024] 1、本发明通过设置支撑组件，支撑组件可以安装在铜箔表面处理机的铜箔输送路径上，支撑组件上方设置有定位组件和调节组件，定位组件和调节组件配合，可以实现对铜箔张力的预调节，且调节组件上的伸缩气囊可以被压缩，从而可以实现对铜箔上过大的张力进行调节，通过设置辅助组件，辅助组件可以对铜箔施加压力，从而可以对铜箔松弛时的张力调节。

[0025] 2、本发明通过设置定位组件和调节组件，调节组件包括伸缩气囊、调节气囊和调节气筒，当铜箔张力过大时，伸缩气囊和调节气囊配合，可以实现对活动辊位置的调整，而伸缩气囊和调节气囊在发生形变的过程中可以吸收铜箔上的张力，从而可以实现对铜箔张力的调整，而通过调节气筒和调节螺杆可以对伸缩气囊形变量进行调整，进而可以实现对活动辊位置的调整，以达到调整铜箔张力的目的。

[0026] 3、本发明通过设置辅助组件，辅助组件包括辅助辊和辅助调节辊，铜箔经过辅助辊和辅助调节辊之间，铜箔在输送过程中发生张力变化时，辅助调节辊在张紧弹簧的作用下对铜箔施加压力，保证铜箔处于张紧状态。

[0027] 4、铜箔张力降低时，控制电动推杆收缩，利用调节气囊的压缩向伸缩气囊内供气，即可增大铜箔的张力，直到距离传感器与活动框之间的距离减小至距离传感器的所设阈值，从而在铜箔传送过程中，可根据铜箔自身张力的变化对张力进行自适应调节。

[0028] 5、在铜箔的传送过程中，不需要进行自适应张力调节时，电动阀门处于关闭状态，且电磁阀处于开通状态，利用电动推杆的快速伸缩，使调节气囊快速压缩和释放，进而通过气管和喷嘴将调节气囊内的气体高频次间歇性喷出，从而对铜箔的下表面和上表面进行清洁。

附图说明

[0029] 图1为本发明的整体结构示意图；

[0030] 图2为本发明的支撑组件结构示意图；

[0031] 图3为本发明的支撑组件、定位组件与调节组件位置关系示意图；

[0032] 图4为本发明的支撑架结构示意图；

[0033] 图5为本发明的定位组件与调节组件位置关系示意图；

[0034] 图6为本发明的伸缩气囊结构示意图；

[0035] 图7为本发明的调节气囊结构示意图；

[0036] 图8为本发明的压板结构示意图；

[0037] 图9为本发明的调节气筒结构示意图；

[0038] 图10为本发明的活塞板结构示意图；

[0039] 图11为本发明的支撑组件结构侧面示意图；

[0040] 图12为本发明的张紧链轮结构示意图；

[0041] 图13为本发明的辅助组件结构示意图；

[0042] 图14为本发明的辅助调节辊结构示意图。

[0043] 图中：1、支撑组件；2、定位组件；3、调节组件；4、辅助组件；101、支撑架；102、定位滑槽；103、固定架；104、延伸架；105、导向滑槽；106、支撑板；107、换向辊；108、驱动电机；109、驱动链轮；110、导向滑块；111、推力弹簧；112、张紧链轮；201、转杆；202、滑座；203、活动辊；204、传动链轮；301、活动座；302、活动板；303、伸缩气囊；304、连接管；305、导管；306、延伸管；307、电动阀门；308、调节气囊；309、活动架；310、压板；311、凸块；312、连接套；313、电动推杆；314、三通管；315、加气嘴；316、调节气筒；317、螺纹套；318、调节螺杆；319、活塞板；320、手轮；321、观察窗；322、刻度线；323、气管；324、电磁阀；325、喷嘴；401、辅助架；
402、连接板；403、辅助辊；404、插槽；405、插杆；406、活动框；407、张紧弹簧；408、辅助调节辊；409、距离传感器。

具体实施方式

[0044] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0045] 第一实施例：

[0046] 本发明提供了如图1‑14所示的一种铜箔表面处理机的张力调整组件，包括支撑组件1，支撑组件1的上方对称设置有两个定位组件2，支撑组件1的内侧中部设置有调节组件3，支撑组件1的上方中部设置有辅助组件4；

[0047] 支撑架101的内侧中部固定连接有两个固定架103，固定架103的中部贯穿开设有通孔，两个固定架103呈对称分布，支撑架101的下表面固定连接有延伸架104，支撑架101的两侧中部均贯穿开设有两个对称分布的导向滑槽105，支撑架101的两端均固定连接有两个对称分布的支撑板106，支撑板106设置为倾斜结构，支撑板106的内侧顶端设置有换向辊107；

[0048] 具体的，支撑架101的一侧内壁中部固定连接有驱动电机108，驱动电机108的输出轴固定连接有驱动链轮109，导向滑槽105的内部设置有导向滑块110，导向滑块110的一侧固定连接有推力弹簧111，推力弹簧111的一端与导向滑槽105的一侧内壁固定连接，导向滑块110的外侧设置有张紧链轮112；

[0049] 定位组件2包括两个对称分布的转杆201，转杆201的两端分别与两个定位滑槽102贯穿连接，转杆201的两端均固定连接有滑座202，滑座202位于定位滑槽102内，转杆201的两端固定连接有两个对称分布的活动辊203，转杆201的一端固定连接有传动链轮204，传动链轮204位于滑座202的外侧；

[0050] 具体的，传动链轮204、驱动链轮109和张紧链轮112之间通过同步链条传动连接，驱动电机108带动驱动链轮109转动，而驱动链轮109带动同步链条运动，同步链条可以带动传动链轮204转动，进而带动转杆201转动，转杆201带动活动辊203转动，从而实现对铜箔的牵引；

[0051] 更为具体的，在活动辊203被调节时，推力弹簧111对导向滑块110作用，使得导向滑块110水平滑动，而导向滑块110带动张紧链轮112运动，而张紧链轮112带动同步链条运动，使得同步链条始终保持绷紧状态，进而保证了同步链条的传动效果；

[0052] 调节组件3包括两个对称分布的活动座301，活动座301通过销轴与转杆201的中部活动连接，活动座301的一端固定连接有活动板302，活动板302的内侧面中部固定连接有伸缩气囊303，伸缩气囊303的一端固定连接有连接管304，连接管304与固定架103中部的通孔贯穿连接，连接管304的一端通过连接头固定连接有导管305；

[0053] 具体的，导管305的中部通过三通固定连接有延伸管306，延伸管306的设有电动阀门307，延伸管306的一端固定连接有调节气囊308，调节气囊308由多个环形结构的气囊串联组成，调节气囊308由多个环形气囊组成，环形气囊在充气时可以向外膨胀，从而可以吸收铜箔上的张力；

[0054] 更为具体的，延伸管306的外侧套接连接有活动架309，活动架309的一侧与调节气囊308的一端相贴合，调节气囊308的另一端设置有压板310，压板310靠近调节气囊308的一侧中部设置有凸块311，凸块311设置为半球形结构，压板310的圆周面固定连接有多个呈环形阵列分布的连接套312，活动架309的内侧固定连接有多个呈环形阵列分布的电动推杆313，电动推杆313的一端与连接套312贯穿连接，导管305的底端固定连接有三通管314，三通管314的中部镶嵌有加气嘴315，通过加气嘴315可以实现对伸缩气囊303内部气体的补充；

[0055] 并且，三通管314的一端固定连接有调节气筒316，调节气筒316的一端中部镶嵌有螺纹套317，螺纹套317的中部插接连接有调节螺杆318，调节螺杆318的一端通过轴承活动连接有活塞板319，活塞板319位于调节气筒316内，活塞板319在调节气筒316内滑动，活塞板319滑动压缩调节气筒316内的空间，使得调节气筒316内的气体通过导管305运动至伸缩气囊303中，进而使得伸缩气囊303发生形变；

[0056] 而且，调节螺杆318的一端固定连接有手轮320，调节气筒316的上表面中部设置有观察窗321，观察窗321的两侧均设置有刻度线322，观察窗321和刻度线322配合，方便了使用者确定活塞板319的位置，进而方便了使用者确定伸缩气囊303的调节情况；

[0057] 辅助组件4包括两个对称分布的辅助架401，辅助架401的底端与支撑架101的上表面固定连接，辅助架401设置为门式结构，辅助架401的内侧面顶端固定连接有连接板402，辅助架401的内侧壁顶端通过轴承活动连接有两个辅助辊403，连接板402的上表面贯穿开设有两个对称分布的插槽404，插槽404的内部插接连接有插杆405；

[0058] 具体的，插杆405的底端固定连接有活动框406，插杆405的外侧底端套接连接有张紧弹簧407，活动框406的内侧壁底端通过轴承活动连接有辅助调节辊408，张紧弹簧407对活动框406施加向下的作用力，使得活动框406带动辅助调节辊408向下运动，辅助调节辊408对铜箔施加压力，使得铜箔处于张紧状态。

[0059] 第二实施例：

[0060] 基于第一实施例提供的一种铜箔表面处理机的张力调整组件，在实际的使用过程中，难以实时监测铜箔张力的变化情况，进而不能根据铜箔的张力情况及时的进行适应性调节，并且在铜箔的传送过程中，铜箔表面容易沾染灰尘杂质，影响铜箔的质量。

[0061] 为了解决上述问题，压板310的中部设有与调节气囊308连通的气管323，气管323上设有电磁阀324，气管323远离压板310的一端设有喷嘴325。

[0062] 连接板402的中部设有距离传感器409。

[0063] 在铜箔的传送过程中，铜箔的表面张力增大时，铜箔会对辅助调节辊408施加向上的作用力，辅助调节辊408向上运动，同时张紧弹簧407被压缩，活动框406顶面与距离传感器409之间的距离减小，当距离传感器409监测到与活动框406顶面之间的距离小于距离传感器409的所设阈值时，主动识别出铜箔张力增大，同时控制电动阀门307开通，伸缩气囊303内的气体排入调节气囊308内，调节气囊308膨胀，同时伸缩气囊303收缩，两侧的活动辊
203相互靠拢，从而降低铜箔的张力，当距离传感器409检测到其与活动框406之间的距离达到距离传感器409所设阈值时，控制电动阀门307关闭，铜箔继续进行传送。

[0064] 在铜箔继续传送的过程中，距离传感器409检测到其与活动框406之间的距离大于距离传感器409所设阈值时，判断出铜箔表面张力过小，此时控制电动阀门307开通，调节气囊308内排入的气体再次进入伸缩气囊303内，带动两侧的活动辊203分别向两侧背向移动，即可增大铜箔的张力，同时铜箔压迫辅助调节辊408向上运动，距离传感器409与活动框406之间的距离减小，距离传感器409与活动框406之间的距离保持不变时，判断出调节气囊308内的气体完全排出或者调节气囊308与伸缩气囊303内的气压达到平衡状态，当调节气囊308内的气体完全释放或调节气囊308与伸缩气囊303内的气压达到平衡状态后，距离传感器409与活动框406之间的距离仍然小于距离传感器409所设阈值时，控制电动推杆313收缩，使调节气囊308压缩，从而继续向伸缩气囊303内供气，直到距离传感器409与活动框406之间的距离达到距离传感器409的所设阈值。

[0065] 另外，铜箔在传送过程中张力降低时，距离传感器409与活动框406之间的距离增大，同样控制电动推杆313收缩，利用调节气囊308的压缩向伸缩气囊303内供气，即可增大铜箔的张力，直到距离传感器409与活动框406之间的距离减小至距离传感器409的所设阈值，从而在铜箔传送过程中，可根据铜箔自身张力的变化对张力进行自适应调节，且在自适应调节时，电磁阀324始终处于闭合状态。

[0066] 应该说明的是，距离传感器409的所设阈值应根据铜箔的尺寸、材质以及种类的不同进行修改变动，并且，由于调节螺杆318与螺纹套317之间的螺纹连接，在伸缩气囊303和调节气囊308发生形变时，活塞板319的位置不会发生变动。

[0067] 此外，在铜箔的传送过程中，铜箔表面容易吸附灰尘杂质，因此，在铜箔的表面张力稳定，不需要进行自适应张力调节时，电动阀门307处于关闭状态，且电磁阀324处于开通状态，利用电动推杆313的快速伸缩，使调节气囊308快速压缩和释放，进而通过气管323和喷嘴325将调节气囊308内的气体高频次间歇性喷出，从而对铜箔的下表面，也就是与喷嘴325对应的一面进行清洁，同时，由于气体的高频次间歇性喷出，使铜箔产生震动，且铜箔在，即可对铜箔的上表面进行清洁。

[0068] 第三实施例：

[0069] 本发明还提供了一种铜箔表面处理机的张力调整组件的调整方法，包括以下步骤：

[0070] 步骤一、组件安装：将装置安装于铜箔表面处理机的铜箔牵引路径上，使铜箔依次经过换向辊107、活动辊203、辅助辊403和辅助调节辊408；

[0071] 步骤二、张力预调节：在铜箔表面处理机未进入工作时，通过调整调节组件3中伸缩气囊303的形变量实现对活动辊203位置的调整，实现对铜箔张力的预调节；

[0072] 在对铜箔进行张力预调节时，转动手轮320带动调节螺杆318转动，调节螺杆318和螺纹套317配合，使得活塞板319在调节气筒316内滑动，活塞板319滑动压缩调节气筒316内的空间，使得调节气筒316内的气体通过导管305运动至伸缩气囊303中，进而使得伸缩气囊303发生形变，而伸缩气囊303可以带动活动座301运动，进而带动转杆201和活动辊203滑动，从而实现对活动辊203位置的调节，进而实现对铜箔张紧力度的预调节，在此过程中，电动阀门307处于关闭状态，调节气囊308不会发生变化；

[0073] 步骤三、牵引铜箔：通过支撑组件1中的驱动电机108带动两个活动辊203转动，活动辊203带动铜箔运动，实现对铜箔的牵引；

[0074] 装置在对铜箔进行牵引时，驱动电机108带动驱动链轮109转动，而驱动链轮109带动同步链条运动，同步链条可以带动传动链轮204转动，进而带动转杆201转动，转杆201带动活动辊203转动，从而实现对铜箔的牵引，在活动辊203被调节时，推力弹簧111对导向滑块110作用，使得导向滑块110水平滑动，而导向滑块110带动张紧链轮112运动，而张紧链轮112带动同步链条运动，使得同步链条始终保持绷紧状态，进而保证了同步链条的传动效果；

[0075] 步骤四、张力调节：铜箔在移动过程中，张紧弹簧407对辅助调节辊408作用，使得辅助调节辊408对铜箔施加压力，铜箔张力过大时，活动辊203挤压伸缩气囊303，从而实现对铜箔的张力进行调整；

[0076] 铜箔在输送过程中，张紧弹簧407对活动框406施加向下的作用力，使得活动框406带动辅助调节辊408向下运动，辅助调节辊408对铜箔施加压力，使得铜箔处于张紧状态，当铜箔的张力过大时，活动辊203受到铜箔张力的作用发生运动，而活动辊203带动活动座301运动，活动座301带动活动板302运动，使得伸缩气囊303的一端被挤压，此时伸缩气囊303发生形变，而伸缩气囊303内部的气体通过导管305进入调节气囊308内，使得调节气囊308发生形变，调节气囊308在形变的过程中可以吸收铜箔的张力，从而实现对铜箔张力的调节，而且，关闭电动阀门307后，通过电动推杆313，使得压板310与活动架309之间的距离被调整，而压板310挤压调节气囊308，使得调节气囊308的初始形变量发生变化，进而实现对调节气囊308形变阀值的调整，以实现对调节气囊308响应铜箔张力范围的调整。

[0077] 最后应说明的是：以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。