子像素结构、像素排布结构、掩膜版、显示面板及设备

摘要

本申请实施例涉及一种子像素结构、像素排布结构、掩膜版、显示面板及设备，所述子像素结构，包括层叠设置的阳极层、发光材料层和阴极层，所述阳极层、发光材料层和阴极层中的至少一个为第一目标层，所述第一目标层设有中心区域以及连接于所述中心区域的至少两个辐射区域，其中，任意两个相邻的所述辐射区域之间存在一个凹陷区。在本申请实施例中，通过设置向外突出的辐射区域，在发光面积相同的前提下，可以扩大子像素的外轮廓的周长，从而扩大子像素的散热面积，提升子像素的散热能力，进而延长显示设备的使用寿命。

权利要求

1.一种子像素结构，其特征在于，包括层叠设置的阳极层、发光材料层和阴极层，所述阳极层、所述发光材料层和所述阴极层中的至少一个为第一目标层，所述第一目标层设有中心区域以及连接于所述中心区域的至少两个辐射区域，其中，任意两个相邻的所述辐射区域之间存在一个凹陷区。

2.根据权利要求1所述的子像素结构，其特征在于，除所述第一目标层以外的其他层在虚拟平面上的正投影完全覆盖所述第一目标层在所述虚拟平面上的正投影，所述虚拟平面垂直于第一方向，所述第一方向为所述阳极层、所述发光材料层和所述阴极层的堆叠方向。

3.根据权利要求2所述的子像素结构，其特征在于，所述阳极层、所述发光材料层和所述阴极层均为所述第一目标层，且所述阳极层、所述发光材料层和所述阴极层在所述虚拟平面上的正投影相重合。

4.根据权利要求1所述的子像素结构，其特征在于，所述阳极层、所述发光材料层和所述阴极层中的至少一个为第二目标层，所述子像素结构还设有沿第一方向贯穿所述第二目标层的中孔，所述第一方向为所述阳极层、所述发光材料层和所述阴极层的堆叠方向。

5.根据权利要求4所述的子像素结构，其特征在于，所述子像素结构和所述中孔的形状均为中心对称图形，且所述子像素结构的对称中心与所述中孔的对称中心在所述第一方向上相重合。

6.根据权利要求4所述的子像素结构，其特征在于，还包括填充于所述中孔的散热件，其中，所述散热件的导热系数大于所述第二目标层的导热系数。

7.根据权利要求6所述的子像素结构，其特征在于，所述散热件包括：支撑结构，填充于所述中孔，且所述支撑结构的导电系数小于导电阈值，所述支撑结构中设有空腔；

石墨烯，填充于所述支撑结构中的空腔；

其中，所述支撑结构还用于隔离所述石墨烯和所述第二目标层。

8.根据权利要求1至7任一项所述的子像素结构，其特征在于，多个所述辐射区域均匀围绕于所述中心区域。

9.根据权利要求1至7任一项所述的子像素结构，其特征在于，相邻的所述辐射区域的外轮廓通过圆角平滑连接。

10.根据权利要求1至7任一项所述的子像素结构，其特征在于，所述辐射区域的外轮廓上任一点的曲率小于曲率阈值。

11.根据权利要求1至7任一项所述的子像素结构，其特征在于，所述辐射区域的形状为瓣形。

12.根据权利要求1至7任一项所述的子像素结构，其特征在于，所述中心区域的形状为圆形或椭圆形。

13.一种像素排布结构，其特征在于，包括多个子像素，所述子像素采用如权利要求1至

12任一项所述的子像素结构。

14.一种掩膜版，其特征在于，用于制作如权利要求13所述的像素排布结构，所述掩膜版设有多个开口，多个所述开口分别用于一一对应形成多个所述子像素。

15.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括第一显示区和第二显示区，其中，所述第一显示区的像素尺寸小于所述第二显示区的像素尺寸，所述第一显示区采用如权利要求13所述的像素排布结构。

16.根据权利要求15所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区和所述第二显示区的像素密度相同。

17.根据权利要求15所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区的像素尺寸是所述第二显示区的像素尺寸的1/3至2/3。

18.一种显示设备，其特征在于，包括感光器件和如权利要求15至17任一项所述的显示面板，其中，所述感光器件与所述显示面板的第一显示区对应设置。

说明书

子像素结构、像素排布结构、掩膜版、显示面板及设备

技术领域

[0001] 本申请实施例涉及显示技术领域，特别是涉及子像素结构、像素排布结构、掩膜版、显示面板及设备。

背景技术

[0002] 随着显示技术的不断发展，人们对显示设备的显示亮度提出了更高的要求，并且，通常会通过增大驱动电流的方式提高显示亮度。但是，在器件层面，电流密度增大会在发光器件中积累大量的热量，并造成发光器件的老化加速，大大影响了显示设备的使用寿命。

发明内容

[0003] 本申请实施例提供了一种子像素结构、像素排布结构、掩膜版、显示面板及设备，可以优化散热性能，从而提升显示设备的使用寿命。

[0004] 一种子像素结构，包括层叠设置的阳极层、发光材料层和阴极层，所述阳极层、发光材料层和阴极层中的至少一个为第一目标层，所述第一目标层设有中心区域以及连接于所述中心区域的至少两个辐射区域，其中，任意两个相邻的所述辐射区域之间存在一个凹陷区。

[0005] 一种像素排布结构，包括多个子像素，所述子像素采用如上述的子像素结构。

[0006] 一种掩膜版，用于制作如上述的像素排布结构，所述掩膜版设有多个开口，多个所述开口分别用于一一对应形成多个所述子像素。

[0007] 一种显示面板，所述显示面板包括第一显示区和第二显示区，其中，所述第一显示区的像素尺寸小于所述第二显示区的像素尺寸，所述第一显示区采用如上述的像素排布结构。

[0008] 一种显示设备，包括感光器件和如上述的显示面板，其中，所述感光器件与所述显示面板的第一显示区对应设置。

[0009] 上述子像素结构、像素排布结构、掩膜版、显示面板及设备，所述子像素结构，包括层叠设置的阳极层、发光材料层和阴极层，所述阳极层、发光材料层和阴极层中的至少一个为第一目标层，所述第一目标层设有中心区域以及连接于所述中心区域的至少两个辐射区域，其中，任意两个相邻的所述辐射区域之间存在一个凹陷区。在本申请实施例中，通过设置向外突出的辐射区域，在发光面积相同的前提下，可以扩大子像素的外轮廓的周长，从而扩大子像素的散热面积，提升子像素的散热能力，进而延长显示设备的使用寿命。

附图说明

[0010] 为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

[0011] 图1为一实施例的显示设备的局部示意图；

[0012] 图2为图1实施例的显示设备沿AA’方向的剖视示意图；

[0013] 图3为一实施例的子像素结构的膜层结构示意图之一；

[0014] 图4为图3实施例的子像素结构的俯视示意图；

[0015] 图5为一实施例的子像素结构的俯视示意图之一；

[0016] 图6为一实施例的子像素结构的俯视示意图之二；

[0017] 图7为一实施例的子像素结构的俯视示意图之三；

[0018] 图8为一实施例的子像素结构的俯视示意图之四；

[0019] 图9为一实施例的子像素结构的俯视示意图之五；

[0020] 图10为一实施例的子像素结构的膜层结构示意图之二；

[0021] 图11为一实施例的子像素结构的膜层结构示意图之三；

[0022] 图12为一实施例的散热件的结构示意图；

[0023] 图13为一实施例的像素排布结构的示意图之一；

[0024] 图14为一实施例的像素排布结构的示意图之二；

[0025] 图15为一实施例的第一掩膜版的结构示意图；

[0026] 图16为一实施例的第二掩膜版的结构示意图；

[0027] 图17为一实施例的第三掩膜版的结构示意图；

[0028] 图18为一实施例的显示面板的局部结构示意图；

[0029] 图19为一实施例的显示面板中驱动电路的剖视示意图。

[0030] 元件标号说明：

[0031] 显示面板：10；第一显示区：11；第二显示区：12；感光器件：20；第一掩膜版：31；第二掩膜版：32；第三掩膜版：33；阳极层：100；发光材料层：200；阴极层：300；中心区域：510；辐射区域：520；凹陷区：530；中孔：500；散热件：600；支撑结构：610；石墨烯：620；驱动电路：
700；栅极：701；源极：702；漏极：703；源极接触结构：704；漏极接触结构：705；衬底：711；缓冲层：712；栅绝缘层：713；层间绝缘层：714；平坦化层：715；像素定义层：716。

具体实施方式

[0032] 为了便于理解本申请实施例，下面将参照相关附图对本申请实施例进行更全面的描述。附图中给出了本申请实施例的首选实施例。但是，本申请实施例可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请实施例的公开内容更加透彻全面。

[0033] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请实施例的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请实施例的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请实施例。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

[0034] 在本申请实施例的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方法或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。

[0035] 可以理解，本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件，但这些元件不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分。举例来说，在不脱离本申请的范围的情况下，可以将第一目标层称为第二目标层，且类似地，可将第二目标层称为第一目标层。第一目标层和第二目标层两者都是目标层，但其不是同一目标层。

[0036] 此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本申请的描述中，“若干”的含义是至少一个，例如一个，两个等，除非另有明确具体的限定。

[0037] 图1为一实施例的显示设备的局部示意图，图2为图1实施例的显示设备沿AA’方向的剖视示意图。其中，显示设备可以为智能手机、平板电脑、游戏设备、增强现实(Augmented Reality，AR)设备、笔记本、桌面计算设备、可穿戴设备等。为了方便理解，下面以显示设备为手机进行举例说明。结合参考图1和图2，在本实施例中，显示设备包括显示面板10和感光器件20。

[0038] 继续参考图2，显示面板10包括邻接的第一显示区11和第二显示区12。其中，第一显示区11的形状可以是圆形、矩形、椭圆形、多边形、不规则异形等，本发明对此不作限定。第二显示区12的形状也可以是环形、矩形等，本发明对此不作限定。其中，感光器件20至少部分与第一显示区11对应设置。示例性地，感光器件20可以设置在第一显示区11的下方，感光器件20用于透过显示面板10的第一显示区11发射和/或接收光学信号。即，第一显示区11是位于感光器件20上方的区域。需要说明的是，在本申请实施例中上方是指由显示设备的背壳指向显示屏的方向，下方是指由显示屏指向背壳的方向。

[0039] 感光器件20通过接收光线实现基于光学参数的测试和控制。其中，感光器件20可以为摄像头，感光器件20还可以为环境光传感器、光学距离传感器(例如，红外传感器、激光传感器、接近传感器、距离传感器，光学距离传感器)、结构光模组、飞行时间测距(Time of flight，TOF)镜头模组、光学指纹传感器等。

[0040] 为了便于说明，本申请各实施例中以感光器件20为摄像头为例进行说明。可以理解的是，驱动电路通常形成于层叠设置的多个功能层中，而上述多个功能层会降低摄像头的入射光强度，甚至会导致成像的衍射问题，大大影响了摄像头的成像质量。因此，对于屏下摄像头方案而言，通过减小第一显示区11的像素尺寸，可以有效提升成像质量，从而改善用户体验。

[0041] 图3为一实施例的子像素结构的膜层结构示意图之一，参考图3，在本实施例中，子像素结构包括层叠设置的阳极层100、发光材料层200和阴极层300。其中，阳极层100和阴极层300用于共同向发光材料层200施加驱动电压或驱动电流，以共同控制发光材料层200发光。本实施例中的子像素可以理解为一个发光器件，发光器件可以是但不限于有机发光二极管(Organic light‑emitting diode，OLED)和量子点发光二极管(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)等。其中，各发光器件可为不同颜色的有机发光二极管，如红色OLED、绿色OLED和蓝色OLED等，不同颜色的发光器件的发光层材料不同，从而实现不同颜色的显示，使得显示设备实现全彩显示。

[0042] 图4为图3实施例的子像素结构的俯视示意图，其中，俯视示意图即是指沿垂直于显示设备的显示面方向观测获得的示意图。结合参考图3和图4，所述阳极层100、发光材料层200和阴极层300中的至少一个为第一目标层，所述第一目标层设有中心区域510以及连接于所述中心区域510的至少两个辐射区域520，例如，辐射区域520的数量可以为三个、四个或五个，本实施例不做限定。其中，任意两个相邻的所述辐射区域520之间存在一个凹陷区530。其中，定义中心区域510和辐射区域520构成的整体外轮廓上的点与中心区域510的中心之间的距离为中心距，若在所述整体外轮廓的某一区域范围内，存在中心距先减小再增大的变化趋势，则认为该区域范围为一凹陷区530。以图4实施例为例，箭头所指向区域即为一凹陷区530。

[0043] 需要说明的是，虽然图4实施例示出了一个圆形结构作为中心区域510和辐射区域520之间的界限，但是，上述界限可以理解为虚拟界限，即，在实际的子像素结构中，并不存在上述界限。而且，中心区域510与辐射区域520可以在同一道工艺制程中同时形成。

[0044] 可以理解的是，显示设备中子像素结构的发热可以参考如下公式(1)。

[0045]

[0046] 其中，Q为子像素结构散发的热量，J为流过子像素结构的电流密度，A为子像素结构的发光面积，k为一常数。根据以上公式可以，子像素结构散发的热量Q与发光面积A成正2
比，且与J呈正比。因此，相较于发光面积，电流密度对子像素在发光时散发的热量的影响越大。如前述结合图1的说明，为了提高感光器件20对应区域的收光效果，会在第一显示区
11设置尺寸较小的子像素，并在第二显示区12设置尺寸较大的子像素。因此，需要使位于第一显示区11的子像素呈现更大的发光亮度，才能使显示设备的均匀发光。可以理解的是，子像素的发光亮度与电流密度成正比，因此，第一显示区11的子像素在发光时散发的热量会远大于第二显示区12的子像素，从而导致第一显示区11的子像素的老化速度较快。

[0047] 参考图3，对于子像素结构而言，子像素结构内部的热量可以从侧壁散发至外部环境中。其中，侧壁是指子像素结构垂直于显示面的外壁。而且，侧壁的散热面积可以理解为与俯视图形的外轮廓的周长成正比，且与子像素结构的厚度呈正比，厚度是指子像素结构在第一方向上的尺寸，所述第一方向为所述阳极层100、所述发光材料层200和所述阴极层300的堆叠方向。即，可以认为子像素结构的外轮廓的周长与发光面积的比值越大，子像素结构的散热性能越好。因此，相比相关技术中的子像素结构，在本实施例中，通过设置向外突出的辐射区域520，在发光面积相同的前提下，可以扩大子像素的外轮廓的周长，即，扩大了子像素的散热面积，从而提升了子像素的散热能力，进而延长显示设备的使用寿命。

[0048] 其中，多个所述辐射区域520可以均匀围绕于所述中心区域510。图5为一实施例的子像素结构的俯视示意图之一，参考图5，五个辐射区域520均连接于中心区域510。另外，多个辐射区域520的形状可以不相同，例如，图6为一实施例的子像素结构的俯视示意图之二，参考图6，可以其中两个辐射区域520的形状与另外两个辐射区域520的形状不同，在其他实施例中，辐射区域520的形状也可以为锥形、矩形等。此外，本实施例也不限定各辐射区域520的尺寸，图7为一实施例的子像素结构的俯视示意图之三，结合参考图4和图7，即使同样包括四个辐射区域520，各辐射区域520的尺寸也可以根据需要进行设置。图8为一实施例的子像素结构的俯视示意图之四，参考图8，多个辐射区域520可以互相间隔设置，则辐射区域
520与中心区域510的连接处形成凹陷区530，该凹陷区530位于相邻的两个辐射区域520之间。需要说明的是，本实施例不具体限定辐射区域520的数量、形状和尺寸，上述图5至图8仅用于示例性说明，而不用用于限定本申请的保护范围。

[0049] 在其中一个实施例中，除所述第一目标层以外的其他层在虚拟平面上的正投影完全覆盖所述第一目标层在所述虚拟平面上的正投影。通过上述设置方式，可以使子像素结构的发光形状与第一目标层的形状相对应，而且，也可以降低第一目标层以外的其他层制备过程中的工艺难度，从而提升子像素结构的制备良率。

[0050] 继续参考图3，在其中一个实施例中，所述阳极层100、所述发光材料层200和所述阴极层300可以均为所述第一目标层，且所述阳极层100、所述发光材料层200和所述阴极层300在所述虚拟平面上的正投影相重合。通过上述设置方式，可以采用相同图形的掩膜版制备阳极层100、发光材料层200和阴极层300，从而降低掩膜版的设计难度。

[0051] 在其中一个实施例中，所述辐射区域520的外轮廓上任一点的曲率小于曲率阈值。其中，曲率阈值可以根据光刻设备的工艺极限尺寸、子像素结构的尺寸等共同确定。可以理解的是，若某一点的曲率过大，容易引发衍射集中等光学问题，从而影响摄像头等感光器件的感光效果，进而影响成像效果，影响用户的使用体验。在本实施例中，通过为辐射区域520设置曲率较大的外轮廓，可以有效避免上述衍射集中的问题，从而提升感光器件的性能。进一步地，所述辐射区域520的形状可以为如图4至图8任一实施例中所示的瓣形。

[0052] 图9为一实施例的子像素结构的俯视示意图之五，参考图9，在本实施例中，相邻的所述辐射区域520的外轮廓通过圆角平滑连接。通过设置平滑连接的圆角，可以使连接处为平滑曲线状，避免相邻的所述辐射区域520的外轮廓连接处的曲率过大，从而进一步抑制衍射集中的问题，进而提升感光器件的性能。

[0053] 在其中一个实施例中，所述中心区域510的形状为圆形或椭圆形。在本实施例中，通过采用圆形或椭圆形的中心区域510，可以使子像素结构的中心与外轮廓上任一点之间的距离相近，从而避免子像素结构在不同方向上的散热性能的差异过大，进而避免子像素结构在不同方向上的老化速度不同的问题。可以理解的是，中心区域的形状也不局限于圆形或椭圆形，在一些实施例中，中心区域的形状也可以为矩形、平行四边形等。

[0054] 图10为一实施例的子像素结构的膜层结构示意图之二，参考图10，在其中一个实施例中，所述阳极层100、发光材料层200和阴极层300中的至少一个为第二目标层，所述子像素结构还设有沿第一方向贯穿所述第二目标层的中孔500，所述第一方向为所述阳极层100、所述发光材料层200和所述阴极层300的堆叠方向。需要说明的是，虽然在图10实施例中，中孔500完全贯穿阳极层100、发光材料层200和阴极层300，但在一些实施例中，中孔500也可以只贯穿一个或两个膜层，例如只贯穿发光材料层200和阳极层100。

[0055] 可以理解的是，中孔500穿过的膜层越多，散热效果越好，但同时在一定程度上影响子像素的发光性能。相似地，中孔500的面积越大，散热效果越好，但同时也在一定程度上影响子像素的发光性能。因此，可以根据需要对上述各参数进行具体的设置。

[0056] 继续参考图10，在其中一个实施例中，所述子像素结构和所述中孔500的形状均为中心对称图形，且所述子像素结构的对称中心与所述中孔500的对称中心在所述第一方向上相重合。在子像素结构内部，子像素的中心最容易积累热量，因此，通过将中孔500设置在子像素结构的中心，可以较大程度上地提升子像素结构的散热效果。

[0057] 图11为一实施例的子像素结构的膜层结构示意图之三，参考图11，在其中一个实施例中，子像素结构还包括填充于所述中孔500的散热件600，其中，所述散热件600的导热系数大于所述第二目标层的导热系数。在本实施例中，散热件600的导热系数还大于空气的导热系数，因此，相比中孔500结构，通过设置具有较大导热系数的散热件600，可以进一步提升子像素结构的散热效果。

[0058] 图12为一实施例的散热件600的结构示意图，参考图12，在其中一个实施例中，所述散热件600包括支撑结构610和石墨烯620。

[0059] 支撑结构610填充于所述中孔500，且所述支撑结构610的导电系数小于导电阈值，所述支撑结构610中设有空腔，石墨烯620填充于所述支撑结构610中的空腔。其中，所述支撑结构610还用于隔离所述石墨烯620和所述第二目标层。通过设置支撑结构610，可以避免具有导电性能的石墨烯620与子像素结构中的各膜层接触，从而避免子像素结构发生短路现象，从而提高子像素结构的稳定性和可靠性。其中，支撑结构610可以采用SiO2等绝缘材料，本实施例不做限定。此外，虽然图12实施例中，填充的石墨烯620的整体为一圆柱形结构，但是，在其他实施例中，石墨烯620也可以以小颗粒的方式均匀、零散地分布于支撑结构610中。

[0060] 进一步地，石墨烯620的导热性具有方向性，因此能够较好地将热量导出至设定的方向。其中，石墨烯620是由网状的六元环结构连接成的两维周期蜂窝状点阵结构，因此，石墨烯620可以翘曲成零维的富勒烯，也能够卷成一维的碳纳米管或者堆垛成三维的石墨，本实施例不具体限定石墨烯620的具体形式，只要能够实现较好的导热性都属于本实施例的保护范围。

[0061] 可以理解的是，本申请实施例不具体限定上述子像素结构的制备方法，任何能够形成上述子像素结构的制备方法都属于本申请的保护范围。示例性地，可以先形成阳极层100、发光材料层200和阴极层300，再形成中孔500，并在中孔500位置填充散热件600。

[0062] 本申请实施例还提供了一种像素排布结构，像素排布结构包括多个子像素，所述子像素采用如上述的子像素结构。具体地，像素排布结构包括多个像素单元，各所述像素单元分别包括一个第一子像素、一个第二子像素和至少一个第三子像素；其中，所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素分别采用如上述的子像素结构。其中，第一子像素可以为红色子像素，第二子像素可以为蓝色子像素，第三子像素可以为绿色子像素。基于图4实施例的子像素结构，本申请提供了两种像素排布结构，以进一步进行示例性的说明。

[0063] 图13为一实施例的像素排布结构的示意图之一，参考图13，在本实施例中，各所述像素单元分别包括一个红色子像素、一个蓝色子像素和一个绿色子像素，同一像素单元中的多个子像素在一个方向上均匀排列。

[0064] 图14为一实施例的像素排布结构的示意图之二，参考图14，在本实施例中，各所述像素单元分别包括一个红色子像素、一个蓝色子像素和两个绿色子像素。其中，两个所述绿色子像素分别具有位于虚拟四边形两个第一顶点的中心，两个所述第一顶点位于所述虚拟四边形的一条对角线上。红色子像素与所述绿色子像素分离，所述红色子像素具有位于所述虚拟四边形的第二顶点的中心。蓝色子像素分别与所述绿色子像素、所述红色子像素分离，所述蓝色子像素具有位于所述虚拟四边形的第三顶点的中心，所述第二顶点和所述第三顶点位于所述虚拟四边形的另一条对角线上。

[0065] 本申请实施例还提供了一种掩膜版，用于制作如上述的像素排布结构，所述掩膜版设有多个开口，多个所述开口分别用于一一对应形成多个所述子像素。具体地，本实施例的掩膜版可以理解为掩膜版组，即，具体包括多个掩膜版，掩膜版组中的多个掩膜版共同用于制备像素排布结构。

[0066] 以制备图13实施例所示的像素排布结构为例，本实施例的掩膜版包括第一掩膜版31、第二掩膜版32和第三掩膜版33。图15为一实施例的第一掩膜版31的结构示意图，图16为一实施例的第二掩膜版32的结构示意图，图17为一实施例的第三掩膜版33的结构示意图。
结合参考图13、图15至图17，第一掩膜版31设有多个第一开口，多个第一开口分别与图13实施例的多个蓝色子像素一一对应，第二掩膜版32设有多个第二开口，多个第二开口分别与图13实施例的多个红色子像素一一对应，第三掩膜版33设有多个第三开口，多个第三开口分别与图13实施例的多个绿色子像素一一对应。需要说明的是，各开口的面积可以比相应的子像素的面积略大，即，各子像素在各掩膜版上的正投影完全落入各开口内。采用本实施例提供的掩膜版组形成的像素排布结构中，各子像素结构的形状被优化，从而可以提升的散热性能。

[0067] 本申请实施例还提供了一种显示面板，图18为一实施例的显示面板的局部结构示意图，参考图18，所述显示面板10包括第一显示区11和第二显示区12，其中，所述第一显示区11的像素尺寸小于所述第二显示区12的像素尺寸，所述第一显示区11采用如上述的像素排布结构。即，第二显示区12可以仍采用相关技术中的像素排布结构。可以理解的是，第一显示区11中的异形子像素结构的制备难度高于相关技术中的子像素的制备难度，因此在第二显示区12可以不采用上述异形子像素结构。而且，第一显示区11采用的较小尺寸的子像素结构还能够在保持与第二显示区12的像素密度相同的前提下，有效减小相邻的子像素之间的间隙，从而提高显示面板10的感光器件的收光效果。

[0068] 图19为一实施例的显示面板中驱动电路的剖视示意图，图19的剖面方向垂直于显示面板的显示面。参考图19，在本实施例中的显示面板包括基板和形成与基板上的多个功能层。基板可包括依次交替设置的聚酰亚胺(PI)衬底711和缓冲层712，例如，基板包括依次交替设置的两个聚酰亚胺(PI)衬底711和两个缓冲层712。可以理解的是，基板也可以包括更多数量的聚酰亚胺(PI)衬底711和缓冲层712。基板上还设置有两个栅绝缘层713(GI1层和GI2层)、层间绝缘层714和平坦化层715，并在栅绝缘层713、层间绝缘层714、平坦化层715中还形成驱动电路700。具体地，第一驱动电路700包括栅极701、源极702、漏极703、源极接触结构704和对应的漏极接触结构705，且子像素结构中的阳极层100通过驱动走线L与源极702电性连通。可以理解的是，由于版图面积受限，第一显示区11的子像素的驱动电路700可以通过驱动走线L引出到第一显示区11的外部进行设置，从而避免走线和驱动电路700的遮光问题。

[0069] 其中，本实施例的驱动电路700可以为7T1C驱动电路。此外，驱动电路700中也可以具有其他数量的晶体管，从而以较少数量的晶体管实现轻量级的显示设备，或者以较多数量的晶体管实现更加灵活的显示功能，例如，还是可以为3T1C、6T1C、6T2C等其他类型的驱动电路。

[0070] 继续参考图18，在其中一个实施例中，所述第一显示区11和所述第二显示区12的像素密度相同。例如，第一显示区11和第二显示区12的像素密度可以均为400ppi，从而可以保证显示效果屏下摄像头区域与正常屏区域完全一致。进一步地，在其中一个实施例中，所述第一显示区11的像素尺寸是所述第二显示区12的像素尺寸的1/3至2/3，从而实现较好的光透过率，从而确保感光器件的感光效果。

[0071] 本申请实施例还提供了一种如图1所示的显示设备，包括感光器件20和如上述的显示面板10。其中，所述感光器件20与所述显示面板10的第一显示区11对应设置。在本实施例中，通过采用前述的子像素结构、中孔500以及散热件600，可以加速热量的传递，从而减少由于热量堆积造成的器件老化损伤，从而起到改善感光器件20的屏下区域寿命的作用。

[0072] 以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

[0073] 以上所述实施例仅表达了本申请实施例的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请实施例构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请实施例的保护范围。因此，本申请实施例专利的保护范围应以所附权利要求为准。