扩散阻挡层及其制备方法、集成电路Cu互连结构转让专利
申请号 : CN202310066518.4
文献号 : CN115939035B
文献日 : 2023-06-02
发明人 : 卢金德 , 贾晓峰 , 庄琼阳 , 陈献龙
申请人 : 广州粤芯半导体技术有限公司
摘要 :
权利要求 :
1.一种Cu互连集成电路的扩散阻挡层,用于设置在衬底和Cu层之间,其特征在于,所述扩散阻挡层具有相对设置的第一侧和第二侧,所述第一侧用于连接所述衬底,所述第二侧用于连接所述Cu层,所述扩散阻挡层的制备材料包括高熵合金及其氮化物,所述扩散阻挡层的氮含量自所述第一侧至所述第二侧逐渐降低,所述扩散阻挡层的氮含量自所述第一侧至所述第二侧线性降低,所述第二侧的氮含量为0。
2.如权利要求1所述的Cu互连集成电路的扩散阻挡层,其特征在于,所述第一侧的氮含量为30wt% 50wt%。
~
3.如权利要求1所述的Cu互连集成电路的扩散阻挡层,其特征在于,所述第一侧的氮含量为35wt% 45wt%。
~
4.如权利要求1所述的Cu互连集成电路的扩散阻挡层,其特征在于,所述高熵合金及其氮化物中的金属元素选自Al、ⅣB族、ⅤB族、ⅥB族、ⅦB族以及Ⅷ族中的至少5种元素。
5.如权利要求4所述的Cu互连集成电路的扩散阻挡层,其特征在于,所述高熵合金及其氮化物中的金属元素选自铝、钛、锆、铪、钒、铌、钽、铬、钼、钨、锰、钌、钴、铂中的至少5种元素。
6.如权利要求1 5中任一项所述的Cu互连集成电路的扩散阻挡层,其特征在于,所述扩~散阻挡层的厚度为3nm 20nm。
~
7.一种如权利要求1 6中任一项所述的Cu互连集成电路的扩散阻挡层的制备方法,其~特征在于,包括以下步骤:
通过溅射工艺,在衬底上沉积扩散阻挡层,所述溅射工艺采用高熵合金靶材,并通入工作气体以及氮气,在所述溅射工艺的过程中,通入的氮气在所述工作气体和氮气的总气量中的占比逐渐降低至0。
8.如权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述溅射工艺的工艺参数包括:
2 2
气压为6mTorr 15mTorr、偏置电压为‑100V ‑800V、靶材功率密度为15W/cm 25W/cm。
~ ~ ~
9.如权利要求7或8所述的制备方法,其特征在于,在所述溅射工艺的过程中,通入的氮气与所述工作气体的比例从1 4∶1逐渐降低至0∶1。
~
10.一种集成电路Cu互连结构,其特征在于,包括衬底、权利要求1 6中任一项所述的扩~散阻挡层以及Cu层,所述扩散阻挡层设置在所述衬底上,所述Cu层设置在所述扩散阻挡层上。
说明书 :
扩散阻挡层及其制备方法、集成电路Cu互连结构
技术领域
背景技术
移率的金属铜(Cu)替代传统的金属铝(Al)。然而,Cu与衬底介质的结合力较差,而且Cu的扩
散系数高,在较低的温度下就会与衬底介质产生互扩散,生成高阻化合物Cu3Si,导致器件
性能退化,甚至失效。因此,为了提高Cu与衬底介质的结合力、抑制Cu原子的扩散,需要在Cu
和衬底介质之间设置高粘附性、高热稳定性和低电阻率的扩散阻挡层,以提高器件的可靠
性和稳定性。
观结构缺陷,成为Cu原子快速扩散的通道,而降低了阻挡性能。如图2所示,横轴代表退火处
理的温度,纵轴代表150℃下的表面方阻,在一定温度的退火处理后,TaN‑Si叠层和TiN‑Si
叠层的表面方阻未上升,而Cu‑TaN‑Si叠层和Cu‑TiN‑Si叠层的表面方阻在经过600℃以上
温度退火处理后出现明显上升,这说明在600℃时Cu原子就已发生了明显扩散,生成高阻化
合物Cu3Si,扩散阻挡层失效。
散距离,提高了对Cu的扩散阻挡能力。其中,高熵合金(High‑entropy alloys,HEA)及其氮
化物在互连应用方面获得了广泛关注。高熵合金是将5种以上的元素以每种元素摩尔分数
在5% 35%之间组合形成的新型合金。高熵合金的多主单元组合所产生的热力学高混合熵效
~
应、动力学的迟滞扩散效应、原子结构严重晶格畸变、非晶态生长和性能上的鸡尾酒效应等
特点,使其具有高热稳定、耐腐蚀性和阻扩散等优异性能。图3为AlCrTaTiZr高熵合金薄膜
非晶态截面形貌的电镜图,没有明显的晶界或柱状结构等微观结构缺陷,有利于提高扩散
阻挡性能。
主要通过多层结构,即Si/金属氮化物/金属/Cu等结构,以提高膜层结合力,但这种方式增
加了工艺复杂度,也增加了扩散阻挡膜层结构中的晶界,给Cu原子的扩散提供了通道。
发明内容
所述Cu层,所述扩散阻挡层的材料包括高熵合金及其氮化物,所述扩散阻挡层的氮含量自
所述第一侧至所述第二侧逐渐降低,所述第二侧的氮含量为0。
气量中的占比逐渐降低至0。
2
cm。
~
点,实现扩散阻挡层结构热力学和机械的稳定性,抵抗长期服役过程中的晶格缺陷所造成
的扩散阻挡失效的问题,提高集成电路中Cu互连结构的可靠性。并且,扩散阻挡层自连接衬
底的第一侧至连接Cu层的第二侧氮含量逐渐降低,膜层为纳米晶、非晶混合态向非晶态渐
变的梯度结构,减少了扩散阻挡层中的晶界,阻断了Cu向基体扩散的通道。扩散阻挡层的第
一侧的氮含量较高,材料性质和热膨胀系数更接近于衬底,第二侧的氮含量为0,材料性质
和热膨胀系数更接近于Cu层,因此能够提高扩散阻挡层和衬底、Cu层之间的结合力,并且梯
度变化单层膜结构有效消除因不同材料间热膨胀系数差异较大所造成的服役过程中界面
分层、出现孔洞失效等问题。
附图说明
具体实施方式
描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻
全面。
到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相
关的所列项目的任意的和所有的组合。
合金及其氮化物,扩散阻挡层10的氮含量自第一侧11至第二侧12逐渐降低,第二侧12的氮
含量为0。
扩散阻挡层结构热力学和机械的稳定性,抵抗长期服役过程中的晶格缺陷所造成的扩散阻
挡失效的问题,提高集成电路中Cu互连结构的可靠性。
向基体扩散的通道。扩散阻挡层的第一侧的氮含量较高,材料性质和热膨胀系数更接近于
衬底,第二侧的氮含量为0,材料性质和热膨胀系数更接近于Cu层,因此能够提高扩散阻挡
层和衬底、Cu层之间的结合力,并且梯度变化单层膜结构有效消除因不同材料间热膨胀系
数差异较大所造成的服役过程中界面分层、出现孔洞失效等问题。
在5% 35%之间。进一步地,在其中一个示例中,所述高熵合金及其氮化物中的金属元素选自
~
铝、钛(Ti)、锆(Zr)、铪(Hf)、钒(V)、铌(Nb)、钽(Ta)、铬(Cr)、钼(Mo)、钨(W)、锰(Mn)、钌(Ru)、钴(Co)、铂(Pt)中的5种或以上元素。在一个具体的示例中,所述高熵合金及其氮化物为AlCoTiTaMo和AlCoTiTaMoN。
其中一个示例中,扩散阻挡层的第一侧的氮含量为35wt% 45wt%。在一些具体的示例中,扩
~
散阻挡层的第一侧的氮含量为33wt%、36wt%、39t%、42wt%、45wt%、48wt%、50wt%等。
中,扩散阻挡层的厚度为5nm 15nm。在一些具体的示例中,扩散阻挡层的厚度为5nm、7nm、
~
10nm、12nm、14nm、16nm、18nm、20nm等。
占比逐渐降低至0。
金属元素占总的金属元素的摩尔分数在5% 35%之间。
~
cm。
~
设置在所述扩散阻挡层120上。
至第二侧氮含量逐渐降低。
严重晶格畸变、非晶态结构生长及迟滞扩散等特点,实现扩散阻挡层120结构热力学和机械
的稳定性,抵抗长期服役过程中的晶格缺陷所造成的扩散阻挡失效的问题,提高集成电路
中Cu互连结构100的可靠性。
晶界,阻断了Cu向基体扩散的通道。扩散阻挡层120的第一侧的氮含量较高,材料性质和热
膨胀系数更接近于衬底110,第二侧的氮含量较低,材料性质和热膨胀系数更接近于Cu层
130,因此能够提高扩散阻挡层120和衬底110、Cu层130之间的结合力,并且梯度变化单层膜
结构有效消除因不同材料间热膨胀系数差异较大所造成的服役过程中界面分层、出现孔洞
失效等问题。
量中的占比逐渐降低至0。
预处理。具体地,除气预处理是将衬底110转移至除气工艺腔中,控制真空度优于10 Torr、
温度为300℃ 350℃,进行排气,以去除衬底110表面吸附的气体。
~
预溅射;在保持腔体气体流入总量不变的情况下,再增加通入氮气,进行高熵合金靶材的第
二预溅射。
10 Torr,在室温下通入30sccm 50sccm的工作气体,如氩气,通入后腔体内的气压6mTorr
~ ~
2 2
15mTorr,在偏置电压为‑100V ‑800V,靶材功率密度为15W/cm 25W/cm的工艺条件下,进行
~ ~
高熵合金靶材的第一预溅射。随后,在保持腔体气体流入总量不变的情况下,即腔体内气体
压强一定的情况下,通入氮气,进行高熵合金靶材的第二预溅射,氮气与工作气体的比例在
1 4∶1之间。
~
为6mTorr 15mTorr、偏置电压为‑100V ‑600V、靶材功率密度为25W/cm 50W/cm。
~ ~ ~
Cu层130的厚度为30nm 70nm。
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中,控制真空度优于10 Torr、温度为300℃ 350℃,进行排气,以去除衬底110表面吸附的气
~
体。
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2 2
偏置电压为‑100V ‑800V,靶材功率密度为15W/cm 25W/cm的工艺条件下,进行高熵合金靶
~ ~
材的第一预溅射。随后,在保持腔体气体流入总量不变的情况下,即腔体内气体压强一定的
情况下,通入氮气,进行高熵合金靶材的第二预溅射,氮气与工作气体的比例在1 4∶1之间。
~
~
2 2
15mTorr、偏置电压为‑100V ‑800V、靶材功率密度为15W/cm 25W/cm。起始时氮气与工作气
~ ~
体的比例在1 4∶1之间,随后在保持气体总流入量不变的情况下逐渐降低流入气体中氮气
~
的比例,直至氮气的比例降为0,而后在工作气体气氛下继续溅射一定的时间,得到氮化物
含量逐渐降低的扩散阻挡层120。
~
2 2
偏置电压为‑100V ‑600V、靶材功率密度为25W/cm 50W/cm。
~ ~
真空度优于10 Torr、温度为300℃,进行排气,以去除衬底表面吸附的气体。
2 2
靶材功率密度为15W/cm 25W/cm的工艺条件下,进行高熵合金靶材的第一预溅射。随后,在
~
保持腔体气体流入总量不变的情况下,即腔体内气体压强一定的情况下,通入氮气,进行高
熵合金靶材的第二预溅射,氮气与工作气体的比例为2∶1。
2
500V、靶材功率密度为20W/cm 。起始时氮气与工作气体的比例为2∶1,随后在保持气体总流
入量不变的情况下逐渐降低流入气体中氮气的比例,直至氮气的比例降为0,而后在工作气
体气氛下继续溅射一定的时间,得到氮化物含量逐渐降低的扩散阻挡层。
2
率密度为50W/cm。
结果如图6所示,由图可见,扩散阻挡层经过850℃退火后,仍具有良好的扩散阻挡效果,优
于传统TiN、TaN扩散阻挡层的600℃ 700℃。
~
在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护
范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。