一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法

摘要

本发明公开了一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，首先通过Maxwell对常导型磁共振磁体建模，建立成像区域球体；参数化建模极头；进行Maxwell仿真得出球面上最大值和最小值和均值。编写遗传算法目标函数，满足条件后停止迭代，参数自动变为最优值。本发明采用这样的遗传优化设计方法，在满足常导型磁共振磁体的使用要求的基础上提高了初始场的均匀性，减少了匀场时在极头上放置永磁片的数量，进而提高了匀场效率，且永磁片数量减少，受温度影响小，提高了稳定性。

权利要求

1.一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，其其特征在于：具体步骤如下：步骤一：通过Maxwell建模常导型磁共振磁体，建立成像区域球体；

步骤二：参数化建模极头，对极头1 (2×n+1)层进行划分，n为自然数，划分区域为硅钢~片参数化区域；

步骤三：进行Maxwell仿真，得出球面磁场最大值、最小值和均值；

步骤四：设置初始样本数量、每次迭代样本数量、最大允许的帕累托百分比和最大迭代次数，设置遗传优化算法，分别设置1 (2×n+1)层参数高度和径向变化范围，编写遗传算法~目标函数，目标函数的计算公式为：

Objfun=w1×(Bmax‑Bmin)＋w2×(Bavg‑Bt)Objfun是目标函数，w1是球面最大值和最小值差值的权重；w2是球面平均磁场的权重；

Bmax和Bmin分别是球面的最大磁场值和最小磁场值，Bavg为球面磁场平均值，Bt为目标磁场值；

步骤五：Maxwell启动并按照设置自动进行迭代计算，满足条件后停止迭代，找出惩罚函数最小值，并显示计算结果，判断是否达到设计要求，如未达到设计要求，继续修改参数值，直至达到设计要求值；

步骤六：输出优化后的参数：1 (2×n+1)层的参数高度值与径向值，并运用到极头中，~完成极头优化设计。

2.根据权利要求1所述的常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，其特征在于：步骤一建立的成像区域球体直径为360mm。

3.根据权利要求2所述的常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，其特征在于：3≦n≦

5。

4.根据权利要求3所述的常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，其特征在于：步骤二所述的硅钢片化处理为：每隔360/a度建模1mm厚硅钢片，每一层建模a片硅钢片模型，a为自然数。

5.根据权利要求4所述的常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，其特征在于：12≦a≦72。

说明书

一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法

技术领域

[0001] 本发明涉及常导型磁共振磁体极头领域，特别是一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法。

背景技术

[0002] 磁体是磁共振成像设备的部件之一，其主要作用是在成像区域产生均匀主磁场。在磁共振成像（MRI）中，磁体产生均匀磁场是成像的基础。常导型磁共振磁体需要匀场后才能使用，一方面通过在极头中合适位置放置合适形状的匀场硅钢片来调整主磁场的均匀性；另一方面，通过在合适位置放置永磁片来调整初始磁场。硅钢片的形状不规则，影响匀场的效果和效率；永磁片受温度和震动影响较大，稳定性差。

[0003] 目前MRI磁体极头的设计方法是设计出初始磁场偏差大的磁体极头，随后通过永磁片匀场，主要是采用测试主磁场，通过测量结果初步调整硅钢片，达到要求数据后，采用永磁片细匀，工作量大，用时长，永磁片多。

发明内容

[0004] 本发明要解决的技术问题是提供一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，能在满足常导型磁共振磁体的使用要求的基础上提高匀场效率。

[0005] 为解决上述技术问题，本发明提供一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，具体步骤如下。

[0006] 步骤一：通过Maxwell建模常导型磁共振磁体，建立成像区域球体。

[0007] 步骤二：参数化建模极头，对极头1（2×n+1）进行划分，n为自然数，划分区域为硅~钢片参数化区域。

[0008] 步骤三：进行Maxwell仿真，得出球面磁场最大值、最小值和均值。

[0009] 步骤四：设置遗传优化算法，编写遗传算法目标函数，设置初始样本数量、每次迭代样本数量、最大允许的帕累托百分比和最大迭代次数，设置目标惩罚函数。

[0010] 步骤五：Maxwell启动并按照设置自动进行迭代计算，满足条件后停止迭代，找出惩罚函数最小值，并显示计算结果，判断是否达到设计要求，如未达到设计要求，继续修改参数值，直至达到设计要求值。

[0011] 步骤六：输出优化后的参数并运用到极头中，完成极头优化设计。

[0012] 为了进一步解决本发明所要解决的技术问题，本发明提供的一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法中，步骤一建立的成像区域球体直径为360mm；3≦n≦5；步骤二所述的硅钢片化处理为：每隔(360/a)度建模1mm厚硅钢片，每一层建模a片硅钢片模型，a为自然数；12≦a≦72。

[0013] 本发明采用这样的遗传优化设计方法，在满足常导型磁共振磁体的使用要求的基础上提高了初始场的均匀性，减少了匀场时在极头上放置永磁片的数量，进而提高了匀场效率，且永磁片数量减少，受温度影响小，提高了稳定性。

附图说明

[0014] 下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

[0015] 图1是常导型磁共振磁体结构示意图。

[0016] 图2是本发明常导型磁共振磁体极头优化的设计方法流程图。

[0017] 图3是常导型磁共振磁体极头优化前成像区域最大值和最小值示意图。

[0018] 图4是应用本发明常导型磁共振磁体极头优化的设计方法后常导型磁共振磁体极头成像区域最大值和最小值示意图。

具体实施方式

[0019] 下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步说明。

[0020] 本发明基于常导型磁共振磁体，如图1所示，提出了一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，以下是本发明的具体实施例，其设计流程图如图2所示。

[0021] 本发明的具体步骤为：

[0022] 第一步：用电磁仿真软件Maxwell建模常导型磁共振磁体，进行边界、激励设置，建立成像区域球体。

[0023] 第二步：参数化建模极头，对极头1 7层位置进行划分，划分区域为硅钢片参数化~区域，每隔30度建模1mm厚硅钢片，每一层建模12片硅钢片模型。

[0024] 第三步，进行Maxwell磁场仿真，得出球面磁场最大值、最小值和均值，如图3所示。

[0025] 第四步，设置遗传优化算法，其设置方法如下：

[0026] 4.1分别设置遗传算法参数初始样本数量为100、每次迭代样本数量50、最大允许的帕累托百分比70、收敛稳定性百分比0.0001和最大迭代次数20。

[0027] 分别设置1‑7层参数高度和径向变化范围：

[0028] 第一层，r1变化范围30mm 50mm，h1高度为0.5mm 5mm；~ ~

[0029] 第二层，r2=r1+50mm，h2高度为0.5mm 5mm；~

[0030] 第三层，r3=r2+70mm，h3高度为0.5mm 5mm；~

[0031] 第四层，r4=r3+60mm，h4高度为0.5mm 5mm；~

[0032] 第五层，r5=288mm，h5高度为0.5mm 5mm；~

[0033] 第六层，r6=288mm 465mm，h6高度为0.5mm 3mm；~ ~

[0034] 第七层，r7=465mm 525mm，h7高度为0.25mm 4mm；~ ~

[0035] 其中r1 r7为第1层到第7层参数的径向变化范围，h1 h7为第1层 第7层参数的高~ ~ ~度变化范围。

[0036] 4.2 设置遗传优化算法，编写遗传算法目标函数，目标函数的计算公式为：

[0037] Objfun=w1×(Bmax‑Bmin)＋w2×(Bavg‑Bt)

[0038] Objfun是目标函数，w1是球面最大值和最小值差值的权重；w2是球面平均磁场的权重；Bmax和Bmin分别是球面的最大磁场值和最小磁场值，Bavg为球面磁场平均值，Bt为目标磁场值。

[0039] 第五步，Maxwell启动并按照设置自动进行迭代计算，计算完毕后，找出惩罚函数最小值，并显示计算结果，判断是否达到设计要求，如未达到设计要求，继续修改参数值，直至达到设计要求值。

[0040] 第六步，输出优化后的参数并运用到极头中，完成极头优化设计，优化后常导型磁共振磁体极头成像区域最大值和最小值示意图如图4所示。

[0041] 因此，本发明提供了一种常导型磁共振磁体极头优化的设计方法，在满足常导型磁共振磁体的使用要求的基础上提高了初始场的均匀性，减少了匀场时在极头上放置永磁片的数量，进而提高了匀场效率。

[0042] 最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其进行限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本发明技术方案的精神和范围。