基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体转让专利

申请号 : CN202310712788.8

文献号 : CN116454721B

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法律信息:

相似专利:

发明人 : 刘善德金义程李宽王培辅

申请人 : 山东科技大学

摘要 :

本发明公开了基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,属于激光技术领域,包括若干个周期性排列的结构单元,每个结构单元自上而下依次包括顶金电极、CaF2材料基底、金超表面微结构、石墨烯薄膜和底金电极,金超表面微结构为十字形,排列后形成的顶金电极层和底金电极层为回形结构。本发明可通过设计超表面的结构、形状、周期等参数,可精确调控超表面等离激元共振频率;与石墨烯等二维材料结合,通过外加偏置电压可调节超表面的等离激元共振效应,从而实现器件非线性光学特性的可调谐。

权利要求 :

1.基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,其特征在于,包括若干个周期性排列的结构单元,每个结构单元自上而下依次包括顶金电极、CaF2材料基底、金超表面微结构、石墨烯薄膜和底金电极;

所述金超表面微结构为十字形,其长度为0.3‑0.5μm,单边宽度为0.1‑0.2μm,厚度为

0.1μm,相邻的两个金超表面微结构之间的距离为0.5‑0.6μm;

若干个顶金电极和底金电极排列在一起,分别形成顶金电极层和底金电极层,对两者中间部分进行挖空,得到成回形结构的顶金电极层和底金电极层;

所述CaF2材料基底的折射率为1.43,边长为0.8‑1.2μm,厚度为4‑6μm;

将该可饱和吸收体放入激光谐振腔中,在顶金电极层和底金电极层上施加偏置电压,通过改变该偏置电压调节费米能级和介电常数,进而调节等离激元谐振频率和非平衡态电子及声子的运动,从而实现可饱和吸收体的非线性光学特性的可调谐,使可饱和吸收体共振频率位于3μm波段,从而获得3μm波段脉冲激光。

2.根据权利要求1所述的基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,其特征在于,所述金超表面微结构的长度为0.4μm,单边宽度为0.1μm,厚度为0.1μm,相邻两个金超表面之间的距离为0.6μm。

3.根据权利要求1所述的基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,其特征在于,所述CaF2材料基底的边长为1μm,厚度为5μm。

4.根据权利要求1所述的基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,其特征在于,所述石墨烯薄膜的边长为0.9‑1.1μm,厚度为0.4‑0.8μm。

5.根据权利要求4所述的基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,其特征在于,所述石墨烯薄膜的边长为1μm,厚度为0.5μm。

6.根据权利要求1所述的基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,其特征在于,所述顶金电极和底金电极的厚度为3‑4μm,边长为0.9‑1.1μm。

7.根据权利要求6所述的基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,其特征在于,所述顶金电极和底金电极的厚度为4μm,边长为1μm。

说明书 :

基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体

技术领域

[0001] 本发明属于激光技术领域,具体涉及基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体。

背景技术

[0002] 3μm波段超快激光已在环境监测、国防安全、中红外光学频率梳、超连续谱、高光子能量高次谐波产生、生物医学等方面展现出应用价值,发挥着不可替代作用。自2011年以来,Nature Photonics期刊多次推荐中红外激光研究方向,并在12年7月出版专刊“Mid‑infrared photonics”,将2‑20μm中红外激光看作是激光技术领域一个新的研究机遇。如何实现3μm波段超快激光的高功率运转对国防安全、民用及前沿基础科学研究等领域都有着极为重要的现实意义。
[0003] 目前,获得3μm波段超快激光的技术主要有以下三大类,第一类是通过非线性频率变换技术,将成熟的1μm波段超快激光变频到3μm波段,主要包括光参量振荡和差频技术。第3+ 3+ 3+
二类是基于Er 、Dy 及Ho 离子掺杂的氟化物光纤锁模激光技术。2018年,西安光机所沈炎龙等也用SESAM实现了Er:ZBLAN光纤锁模,输出功率达到3 W,但锁模状态仅仅持续十几分钟,究其原因是高功率激光导致SESAM受到损坏。与SESAM相比,以石墨烯为代表的二维材料具有宽带光响应、快电子弛豫等优良特性,国内南京大学、上海交通大学、南开大学、电子科
3+
技大学等单位利用不同二维材料作为可饱和吸收体分别实现Er :ZBLAN光纤的3μm波段锁模激光运转,但脉冲宽度仅为皮秒量级。目前3μm波段光纤锁模还存在许多需要解决的问
3+ 3+ 3+
题。如掺Er 、Dy 及Ho 离子的高质量氟化物光纤强烈依赖进口;没有性能稳定,损伤阈值高的中红外波段可饱和吸收体;受限于光纤的非线性效应及较低的损伤阈值,从光纤中实
3+ 3+
现大能量的锁模脉冲是比较困难的。第三类是Er 、Ho 等离子掺杂晶体为增益介质的大能量、高功率全固态锁模激光技术。相比于离子掺杂氟化物光纤的强烈依赖进口,国内许多单位如中科院上海光机所、硅酸盐所、安徽光机所、福建物构所、同济大学、宁波大学、江苏师
3+ 3+
大等单位都能够生长高质量的Er 、Ho 等掺杂的晶体或陶瓷,但目前还没有关于全固态连续波锁模激光的报道,因而一旦取得技术突破,结合晶体材料本身高损伤阈值、高热导率、可高掺杂等优势,可实现大能量、高功率的中红外超快激光输出。
[0004] 超表面是由亚波长长度的金属或介质微结构周期性排列形成的人工材料,通过设计优化微结构参数实现对入射电磁波的振幅、相位、极化状态等信息的操控。对于单个金属微结构而言,在外部电磁场驱动时,其表面的自由电子也会随之发生集体振荡并与附近的电磁场相互作用,会产生近场增强现象,这称之为表面等离激元共振。等离激元共振动力学主要是由非平衡态电子及声子的运动来控制,与块状材料相比,微结构的等离激光共振会产生较强的非线性光学效应。金超表面器件具有非常好的饱和吸收特性和快的响应时间,为超表面的非线性光学特性来自于微结构之间的等离激元谐振,故可以设计微观结构的尺寸、形状、周期等结构参数使其共振频率位于3μm波段。这种新颖的、可精确调控的超表面饱和吸收器件也迅速得到国内外的广泛关注。
[0005] 基于以上技术构想,本发明提出采用超表面作为饱和吸收体来实现3μm波段全固态、高功率锁模激光的新技术方案。揭示超表面结构与非线性可饱和吸收参数之间的内在联系,制备高损伤阈值、饱和吸收参数优良的超表面可饱和吸收体,并将其应用到3μm波段全固态锁模激光器中,实现高功率、高稳定性锁模脉冲输出,突破当前中红外波段可饱和吸收器件的制备技术复杂、损伤阈值低、可饱和参数无法精确控制等难题。

发明内容

[0006] 针对现有技术中存在的上述问题,本发明提出了基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,设计合理,解决了现有技术的不足,具有良好的效果。
[0007] 基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,包括若干个周期性排列的结构单元,每个结构单元自上而下依次包括顶金电极、CaF2材料基底、金超表面微结构、石墨烯薄膜和底金电极;
[0008] 所述金超表面微结构为十字形,其长度为0.3‑0.5μm,单边宽度为0.1‑0.2μm,厚度为0.1 μm,相邻的两个金超表面微结构之间的距离为0.5‑0.6μm。
[0009] 进一步地,若干个顶金电极和底金电极排列在一起,分别形成顶金电极层和底金电极层,对两者中间部分进行挖空,得到成回形结构的顶金电极层和底金电极层。
[0010] 进一步地,所述金超表面微结构的长度为0.4μm,单边宽度为0.1μm,厚度为0.1μm,相邻两个金超表面之间的距离为0.6μm。
[0011] 进一步地,所述CaF2材料基底的折射率为1.43,边长为0.8‑1.2μm,厚度为4‑6μm。
[0012] 进一步地,所述CaF2材料基底的边长为1μm,厚度为5μm。
[0013] 进一步地,所述石墨烯薄膜的边长为0.9‑1.1μm,厚度为0.4‑0.8μm。
[0014] 进一步地,所述石墨烯薄膜的边长为1μm,厚度为0.5μm。
[0015] 进一步地,所述顶金电极和底金电极的厚度为3‑4μm,边长为0.9‑1.1μm。
[0016] 进一步地,所述顶金电极和底金电极的厚度为4μm,边长为1μm。
[0017] 进一步地,将该可饱和吸收体放入激光谐振腔中,在顶金电极层和底金电极层上施加偏置电压,通过改变该偏置电压调节费米能级和介电常数,进而调节等离激元谐振频率和非平衡态电子及声子的运动,从而实现可饱和吸收体的非线性光学特性的可调谐,使可饱和吸收体共振频率位于3μm波段,从而获得3μm波段脉冲激光。
[0018] 本发明带来的有益技术效果:
[0019] (1)本发明可通过设计超表面的结构、形状、周期等参数,可精确调控超表面等离激元共振频率;与石墨烯等二维材料结合,通过外加偏置电压可调节超表面的等离激元共振效应,从而实现器件非线性光学特性的可调谐;
[0020] (2)本发明相对于应用于3μm波段的SESAM器件,具有高损伤阈值的优势,非常有助于获得高功率锁模的激光输出;
[0021] (3)石墨烯薄膜使用化学气相沉积法制备,具有高的沉淀速度,可以在常压或者真空条件下进行,相对于物理气相沉积法更简单、经济;
[0022] (4)本发明的各元件组合紧凑,体积小巧,有助于简化获得脉冲激光装置体积。

附图说明

[0023] 图1为本发明中单个结构单元的结构示意图;
[0024] 其中,1‑顶金电极;2‑CaF2材料基底;3‑金超表面微结构;4‑石墨烯薄膜;5‑底金电极。
[0025] 图2为本发明中可饱和吸收体的结构示意图;
[0026] 其中,6‑顶金电极层;7‑ CaF2材料基底层;8‑石墨烯薄膜层;9‑底金电极层。
[0027] 图3为本发明中多个金超表面微结构和石墨烯薄膜层的俯视图。
[0028] 图4为本发明中顶金电极层的俯视图。
[0029] 图5为本发明中十字形金超表面微结构的示意图。
[0030] 图6为本发明实施例1中可饱和吸收体对不同波长光透射系数。

具体实施方式

[0031] 下面结合具体实施例对本发明的具体实施方式做进一步说明:
[0032] 基于超表面的3μm波段功能可调的可饱和吸收体,包括若干个周期性排列的结构单元,如图1所示,每个结构单元自上而下依次包括顶金电极1、CaF2材料基底2、金超表面微结构3、石墨烯薄膜4和底金电极5;
[0033] 如图2所示,若干个结构单元排列在一起,自上而下依次形成顶金电极层6、CaF2材料基底层7、石墨烯薄膜层8和底金电极层9,如图3所示,石墨烯薄膜层上周期性排列有若干个金超表面微结构3,如图4所示,对顶金电极层6和底金电极层9中间部分进行挖空,得到成回形结构的顶金电极层6和底金电极层9。
[0034] 如图5所示,金超表面微结构3为十字形,其长度(单元周期)L为0.3‑0.5μm,单边宽度W为0.1‑0.2μm,厚度h1为0.1μm,相邻的两个金超表面微结构之间的距离d为0.5‑0.6μm。
[0035] CaF2材料基底2的折射率n为1.43,边长(单元周期)P为0.8‑1.2μm,厚度h2为4‑6μm。
[0036] 石墨烯薄膜4的边长(单元周期)P为0.9‑1.1μm,厚度h3为0.4‑0.8μm。
[0037] 顶金电极1和底金电极5(单元周期)的厚度h4为3‑4μm,边长P为0.9‑1.1μm。
[0038] 该饱和吸收体的参数如表1所示:
[0039] 表1可饱和吸收体的相关参数;
[0040] 。
[0041] 上述可饱和吸收体的制备方法具体为,使用掺杂的CaF2作为基底,在其上表面采用光刻或电子束曝光技术制备金超表面微结构,然后将石墨烯薄膜放置到金超表面上,最后石墨烯薄膜顶部和CaF2材料基底底部蒸镀上金电极,完成金‑石墨烯可饱和吸收体的制备。
[0042] 其工作方法为:将该可饱和吸收体放入激光谐振腔中,在顶金电极层和底金电极层上施加偏置电压,通过改变该偏置电压调节费米能级和介电常数,进而调节等离激元谐振频率和非平衡态电子及声子的运动,从而实现可饱和吸收体的非线性光学特性的可调谐,使可饱和吸收体共振频率位于3μm波段,从而获得3μm波段脉冲激光;
[0043] 其中,非平衡态就是除平衡态以外的定常状态,包括周期运动状态(即振荡态)、概周期状态(即遍历态)以及混沌态,声子(Phonon),即“晶格振动的简正模能量量子”。
[0044] 实施例1
[0045] 根据上述制备方法制备一个可饱和吸收体,金超表面微结构的长度L为0.4μm,单边宽度W为0.1μm,厚度h1=0.1μm,两十字形超表面微结构的间隔d为0.6μm,且沿着器件结构单元平行放置;CaF2材料基底的折射率n为1.43,边长P=1μm,厚度h2=5μm;石墨烯薄膜的边长P=1μm,厚度h3=0.3μm;顶金电极和底金电极的边长P=1μm,厚度h4=4μm。
[0046] 将结构单元呈矩形状排列,如图3所示,其中金超表面微结构间隔d为0.6μm,CaF2材料基底层边长为2cm,石墨烯薄膜层边长为2cm,顶金电极层和底金电极层为回形,外边长为2cm,内边长为1.5cm。
[0047] 该实施例中,可饱和吸收体在实现可饱和吸收功能时,对3μm波段光透过率为0.98,如图6所示。
[0048] 当然,上述说明并非是对本发明的限制,本发明也并不仅限于上述举例,本技术领域的技术人员在本发明的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换,也应属于本发明的保护范围。