一种水平液相外延生长石墨舟

摘要

本发明公开了一种水平液相外延生长石墨舟。该水平液相外延生长石墨舟包括底座，设有母液排放槽；衬底放置件，衬底放置件包括放置件本体和衬底夹具，放置件本体设置有夹具安装槽，衬底夹具在竖直方向滑动设置于夹具安装槽，衬底夹具设有用于放置衬底的衬底槽，放置件本体与底座连接并在放置件本体与底座之间形成滑动空间；母液容纳件，滑动设置于滑动空间，母液容纳件设有用于放置母液的母液槽；夹具安装槽和母液排放槽在竖直方向上偏移设置，母液容纳件滑动至第一预设位置时，夹具安装槽与母液槽连通；母液容纳件滑动至第二预设位置时，母液槽和母液排放槽连通。利用母液产生的浮力自动调整衬底水平，使水平液相外延生长薄膜的质量得到提升。

权利要求

1.一种水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，包括：

底座，设有母液排放槽；

衬底放置件，所述衬底放置件包括放置件本体和衬底夹具，所述放置件本体设置有夹具安装槽，所述衬底夹具在竖直方向滑动设置于所述夹具安装槽，所述衬底夹具设有用于放置衬底的衬底槽，所述放置件本体与所述底座连接并在所述放置件本体与所述底座之间形成滑动空间；

母液容纳件，滑动设置于所述滑动空间，且所述母液容纳件设有用于放置母液的母液槽；

其中，所述母液槽在平行于所述母液容纳件的滑动方向上的长度大于所述衬底夹具的最右侧至所述母液排放槽的右侧的长度，所述夹具安装槽和所述母液排放槽在竖直方向上偏移设置，所述母液容纳件滑动至第一预设位置时，所述夹具安装槽与所述母液槽连通；所述母液容纳件滑动至第二预设位置时，所述母液槽和所述母液排放槽连通；

其中，所述夹具安装槽设置有第一防脱结构，所述衬底夹具设置有第一配合结构，所述衬底夹具在所述夹具安装槽中滑动至预设高度时，所述第一防脱结构与所述第一配合结构接触限位。

2.根据权利要求1所述的水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，所述第一防脱结构为在所述夹具安装槽的边缘凹陷所形成的沉台，所述第一配合结构为自所述衬底夹具的边缘向远离所述衬底槽一侧折弯形成的凸缘。

3.根据权利要求1所述的水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，所述衬底槽的两相对端分别设第一开口和第二开口，所述第一开口位于所述衬底槽靠近所述母液容纳件的一侧；

其中，所述第一开口的尺寸小于衬底的尺寸，所述第二开口的尺寸大于衬底的尺寸；或者，所述衬底槽内设置第二防脱结构，所述第二防脱结构用于与所述衬底接触限位，防止所述衬底在所述衬底槽内脱落。

4.根据权利要求1所述的水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，所述母液槽的两端均开口，且所述母液槽的底部开口与所述底座的上表面抵接；

或者，所述母液槽底部设置导流结构，所述导流结构用于将所述母液槽中的母液导流至所述母液排放槽中。

5.根据权利要求1所述的水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，所述夹具安装槽内设置滑动导向结构，所述衬底夹具的外壁设置滑动配合结构，所述滑动导向结构和所述滑动配合结构滑动配合。

6.根据权利要求1所述的水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，所述底座设有滑动凹槽，所述母液容纳件滑动设置在所述滑动凹槽中。

7.根据权利要求1所述的水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，还包括盖板，所述盖板设置于所衬底放置件远离所述母液容纳件的一侧。

8.根据权利要求7所述的水平液相外延生长石墨舟，其特征在于，所述盖板、所述放置件本体和所述底座通过螺钉连接。

9.一种水平液相外延生长系统，其特征在于，包括如权利要求1至8任意一项所述的水平液相外延生长石墨舟。

说明书

一种水平液相外延生长石墨舟

技术领域

[0001] 本发明涉及石墨舟技术领域，尤其涉及一种水平液相外延生长石墨舟。

背景技术

[0002] 液相外延技术是一种成熟的Ⅲ‑Ⅴ或Ⅱ‑Ⅵ族化合物半导体单晶薄膜生长技术，近平衡态生长提供了外延层材料的晶体质量，生长的材料具有更高的迁移率和载流子寿命，制备的光电器件暗电流小，材料的沉积效率高，外延生长成本低。目前在HgCdTe等Ⅱ‑Ⅵ族和Ⅱ‑Ⅵ族化合物半导体材料制备过程中被广泛应用。

[0003] HgCdTe材料由负禁带的HgTe和正禁带的CdTe混合而成，它是具有直接带隙的(HgTe)1‑x(CdTe)x赝二元化合物材料，通过调整材料的组分x，HgCdTe禁带宽度所对应的光子波长可以覆盖整个红外波段，是一种理想的红外探测器材料。当前已经成为红外探测领域应用最广泛的探测器材料。目前已经能够采用LPE(液相外延)、MOVPE(金属有机物气相外延)以及MBE(分子束外延)等多种方法制备出许多高质量的Hg1‑xCdxTe外延薄膜和高性能的红外探测器件，但其中水平液相外延具有变化组分容易、组分及厚度控制能力强和可重复性好、技晶体质量高等优势，是目前技术最成熟、应用最广泛的薄膜材料制备方法，特别是对于长波及甚长波领域，仍然是最主要的探测器材料制备方式。

[0004] 采用水平液相外延技术生长薄膜材料的系统中，水平滑移石墨舟的使用十分普遍，其基本过程是：按照所需的薄膜组分的要求，先精确称量一定组分比的生长母液放于石墨舟的母液槽中，将石墨舟加热至母液完全融化均匀后，控制一定的降温速率使其缓慢降温，溶质在液态溶剂内的溶解度随温度的降低而减少，当达到饱和状态时，拉动石墨舟滑条，使衬底移动至母液正下方，然后降温使母液过冷并控制生长速率，就会在衬底表面结晶生长约几个到十几个微米厚度的薄膜材料，即可实现薄膜的外延生长。通过调节液相外延母液的配方，即可获得不同组分的液相外延膜材料。

[0005] 但是随着碲镉汞红外焦平面探测器朝着高密度、大面阵、高工作温度、高帧频及多色化的方向发展，对碲镉汞薄膜材料的均匀性提出了更高要求，主要包括厚度、组分、电学参数和位错分布的均匀性。其中，厚度与组分的均匀性有紧密联系，受外延生长过程中固液界面分布对各区域的生长速率影响；电学参数和位错分布的均匀性主要受组分分凝效应的影响，本质上也是由生长速率和分布的均匀性决定。而外延生长速率主要受石墨舟的温度场及溶液中的溶质分布梯度的影响，碲镉汞薄膜外延生长过程中，溶液中溶质含量的分布梯度、水平倾斜以及温场不均匀，影响碲镉汞“固‑液相”界面在衬底表面的分布均匀性，导致衬底表面不同区域的过冷度和生长速率的不一致，从而影响碲镉汞薄膜材料的均匀性。

[0006] 现有的水平液相外延石墨舟将衬底放置于碲镉汞母液的下方，为保证薄膜质量，需要石墨舟有较好的水平放置度，而且受母液对流和重力等因素的影响非常明显，势必造成大面积材料的外延厚度分布差异较大，降低薄膜质量；另外，基于生长温度高，母液流动性强，液相外延生长过程中容易发生母液大面积残留在薄膜表面的情况，通常设置刮刀等结构去除残留母液，在去除残留母液过程中，经常发生薄膜表面被划伤的现象，降低了薄膜合格率。

[0007] 因此，如何提升水平液相外延生长薄膜的质量和合格率，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

发明内容

[0008] 有鉴于此，本发明的目的在于提供一种水平液相外延生长石墨舟，以提升水平液相外延生长薄膜的质量和合格率。

[0009] 为了实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：

[0010] 一种水平液相外延生长石墨舟，包括：

[0011] 底座，设有母液排放槽；

[0012] 衬底放置件，所述衬底放置件包括放置件本体和衬底夹具，所述放置件本体设置有夹具安装槽，所述衬底夹具在竖直方向滑动设置于所述夹具安装槽，所述衬底夹具设有用于放置衬底的衬底槽，所述放置件本体与所述底座连接并在所述放置件本体与所述底座之间形成滑动空间；

[0013] 母液容纳件，滑动设置于所述滑动空间，且所述母液容纳件设有用于放置母液的母液槽；

[0014] 其中，所述夹具安装槽和所述母液排放槽在竖直方向上偏移设置，所述母液容纳件滑动至第一预设位置时，所述夹具安装槽与所述母液槽连通；所述母液容纳件滑动至第二预设位置时，所述母液槽和所述母液排放槽连通。

[0015] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，所述夹具安装槽设置有第一防脱结构，所述衬底夹具设置有第一配合结构，所述衬底夹具在所述夹具安装槽中滑动至预设高度时，所述第一防脱结构与所述第一配合结构接触限位。

[0016] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，所述第一防脱结构为在所述夹具安装槽的边缘凹陷所形成的沉台，所述第一配合结构为自所述衬底夹具的边缘向远离所述衬底槽一侧折弯形成的凸缘。

[0017] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，所述衬底槽的两相对端分别设第一开口和第二开口，所述第一开口位于所述衬底槽靠近所述母液容纳件的一侧；

[0018] 其中，所述第一开口的尺寸小于衬底的尺寸，所述第二开口的尺寸大于衬底的尺寸；或者，所述衬底槽内设置第二防脱结构，所述第二防脱结构用于与所述衬底接触限位，防止所述衬底在所述衬底槽内脱落。

[0019] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，所述母液槽的两端均开口，且所述母液槽的底部开口与所述底座的上表面抵接；

[0020] 或者，所述母液槽底部设置导流结构，所述导流结构用于将所述母液槽中的母液导流至所述母液排放槽中。

[0021] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，所述夹具安装槽内设置滑动导向结构，所述衬底夹具的外壁设置滑动配合结构，所述滑动导向结构和所述滑动配合结构滑动配合。

[0022] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，所述底座设有滑动凹槽，所述母液容纳件滑动设置在所述滑动凹槽中。

[0023] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，还包括盖板，所述盖板设置于所衬底放置件远离所述母液容纳件的一侧。

[0024] 可选地，在上述水平液相外延生长石墨舟中，所述盖板、所述放置件本体和所述底座通过螺钉连接。

[0025] 一种水平液相外延生长系统，包括如上所述的水平液相外延生长石墨舟。

[0026] 使用本发明所提供的水平液相外延生长石墨舟时，由于放置件本体与底座连接并在放置件本体与底座之间形成滑动空间，母液容纳件滑动设置于滑动空间中，因此，将底座放置于承载面上后，底座、母液容纳件和衬底放置件呈自下而上逐层设置；外延工艺生长之前，将衬底夹具放置于放置件本体的夹具安装槽中，衬底放置于衬底夹具的衬底槽中并使衬底的生长面朝下，母液放置于母液容纳件的母液槽中，然后拉动母液容纳件，使母液容纳件在滑动空间内滑动，待母液槽滑动至夹具安装槽远离母液排放槽的一侧，亦即母液槽和母液排放槽位于衬底的两侧时，再对该水平液相外延生长石墨舟进行加热；待母液完全融化均匀后，对该水平液相外延生长石墨舟进行初步降温，当温度降低至母液的平衡温度点时，初次拉动母液容纳件，使母液槽朝向衬底的方向滑动，由于夹具安装槽和所述母液排放槽在竖直方向上偏移设置，初始拉动状态时，母液槽和母液排放槽位于衬底的两侧，因此，随着母液容纳件的滑动，母液容纳件首先滑动至第一预设位置，使夹具安装槽与母液槽连通，由于母液容纳件和衬底放置件自下而上设置，因此，母液槽位于夹具安装槽的下方，当夹具安装槽与母液槽连通后，衬底夹具在自重作用下沿竖直方向向下坠落滑动，使衬底夹具中的衬底下表面浸入母液槽中的母液并生长薄膜，利用母液密度大的特点，使母液对衬底产生浮力，该浮力能自动调整并保持衬底的水平状态；根据外延生长薄膜的目标厚度和生长速率等参数，对水平液相外延生长石墨舟进行二次降温，待达到外延生长薄膜的目标厚度后，二次拉动母液容纳件，使得母液容纳件滑动至第二预设位置，母液槽和母液排放槽连通，由于底座和母液容纳件自下而上设置，因此，母液排放槽位于母液槽的下方，母液槽中的母液会在重力作用下流入母液排放槽，直至母液与衬底完全分离，衬底上残留的母液也会在重力的作用下滴落，生长过程中衬底表面粘附的母液被完全清除，不需要再采取去除母液的后续措施。

[0027] 由此可见，本发明所提供的水平液相外延生长石墨舟颠覆了传统的将母液设置在衬底上方的外延生长方式，使母液位于衬底下方，利用母液产生的浮力自动调整衬底水平，同时薄膜材料生长的方向也从一般传统液相外延的向上生长方向变为向下生长，有助于减小外延过程中溶质梯度分布及重力对外延均匀性的影响，从而提高外延生长薄膜材料的均匀性，使水平液相外延生长薄膜的质量得到提升；并且，由于母液始终位于衬底下方，外延生长结束后可以直接利用重力实现将母液从衬底表面完全去除的效果，不需要再增加现有传统结构所采取的各种残留母液去除的刮刀等结构，减少了因刮除母液所导致的薄膜表面划伤现象，提升了薄膜合格率。

附图说明

[0028] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

[0029] 图1为本发明实施例所提供的一种水平液相外延生长石墨舟的分解结构示意图；

[0030] 图2为本发明实施例所提供的一种放置件本体的结构示意图；

[0031] 图3为本发明实施例所提供的一种衬底夹具的结构示意图；

[0032] 图4为本发明实施例所提供的一种衬底夹具内放置衬底的结构示意图；

[0033] 图5为本发明实施例所提供的一种设置有衬底夹具的放置件本体的结构示意图；

[0034] 图6为本发明实施例所提供的一种水平液相外延生长石墨舟在外延工艺生长之前的剖面结构示意图。

[0035] 其中，100为底座，101为母液排放槽，200为衬底放置件，201为放置件本体，2011为夹具安装槽，2012为第一防脱结构，202为衬底夹具，2021为衬底槽，2022为第一配合结构，300为母液容纳件，301为母液槽，400为盖板，500为衬底。

具体实施方式

[0036] 有鉴于此，本发明的核心在于提供一种水平液相外延生长石墨舟，以提升水平液相外延生长薄膜的质量和合格率。

[0037] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0038] 如图1至图6所示，本发明实施例公开了一种水平液相外延生长石墨舟，包括底座100、衬底放置件200和母液容纳件300。

[0039] 其中，底座100设有母液排放槽101；衬底放置件200包括放置件本体201和衬底夹具202，放置件本体201设置有夹具安装槽2011，衬底夹具202在竖直方向滑动设置于夹具安装槽2011，衬底夹具202设有用于放置衬底500的衬底槽2021，放置件本体201可拆卸设置于底座100的上方，且放置件本体201与底座100之间形成滑动空间；母液容纳件300滑动设置于滑动空间，且母液容纳件300设有用于放置母液的母液槽301；夹具安装槽2011和母液排放槽101在竖直方向上偏移设置，母液容纳件300滑动至第一预设位置时，夹具安装槽2011与母液槽301连通；母液容纳件300滑动至第二预设位置时，母液槽301和母液排放槽101连通。

[0040] 使用本发明所提供的水平液相外延生长石墨舟时，由于放置件本体201可拆卸设置于底座100的上方，且放置件本体201与底座100之间形成滑动空间，母液容纳件300滑动设置于滑动空间中，因此，将底座100放置于承载面上后，底座100、母液容纳件300和衬底放置件200自下而上逐层设置；外延工艺生长之前，将衬底夹具202放置于放置件本体201的夹具安装槽2011中，衬底500放置于衬底夹具202的衬底槽2021中并使衬底500的生长面朝下，母液放置于母液容纳件300的母液槽301中，然后拉动母液容纳件300，使母液容纳件300在滑动空间内滑动，待母液槽301滑动至夹具安装槽2011远离母液排放槽101的一侧，亦即母液槽301和母液排放槽101位于衬底500的两侧时，再对该水平液相外延生长石墨舟进行加热；待母液完全融化均匀后，对该水平液相外延生长石墨舟进行初步降温，当温度降低至母液的平衡温度点时，初次拉动母液容纳件300，使母液槽301朝向衬底500的方向滑动，由于夹具安装槽2011和所述母液排放槽101在竖直方向上偏移设置，初始拉动状态时，母液槽301和母液排放槽101位于衬底500的两侧，因此，随着母液容纳件300的滑动，母液容纳件
300首先滑动至第一预设位置，使夹具安装槽2011与母液槽301连通，由于母液容纳件300和衬底放置件200自下而上设置，因此，母液槽301位于夹具安装槽2011的下方，当夹具安装槽
2011与母液槽301连通后，衬底夹具202在自重作用下沿竖直方向向下坠落滑动，使衬底夹具202中的衬底500下表面浸入母液槽301中的母液并生长薄膜，利用母液密度大的特点，使母液对衬底500产生浮力，该浮力能自动调整并保持衬底500的水平状态；根据外延生长薄膜的目标厚度和生长速率等参数，对水平液相外延生长石墨舟进行二次降温，待达到外延生长薄膜的目标厚度后，二次拉动母液容纳件300，使得母液容纳件300滑动至第二预设位置，母液槽301和母液排放槽101连通，由于底座100和母液容纳件300自下而上设置，因此，母液排放槽101位于母液槽301的下方，母液槽301中的母液会在重力作用下流入母液排放槽101，直至母液与衬底500完全分离，衬底500上残留的母液也会在重力的作用下滴落，生长过程中衬底500表面粘附的母液被完全清除，不需要再采取去除母液的后续措施。

[0041] 由此可见，本发明所提供的水平液相外延生长石墨舟颠覆了传统的将母液设置在衬底500上方的外延生长方式，使母液位于衬底500下方，利用母液产生的浮力自动调整衬底500水平，同时薄膜材料生长的方向也从一般传统液相外延的向上生长方向变为向下生长，有助于减小外延过程中溶质梯度分布及重力对外延均匀性的影响，从而提高外延生长薄膜材料的均匀性，使水平液相外延生长薄膜的质量得到提升；并且，由于母液始终位于衬底500下方，外延生长结束后可以直接利用重力实现将母液从衬底500表面完全去除的效果，不需要再增加现有传统结构所采取的各种残留母液去除的刮刀等结构，减少了因刮除母液所导致的薄膜表面划伤现象，提升了薄膜合格率。

[0042] 需要说明的是，上述母液槽301在平行于母液容纳件300的滑动方向上的尺寸不宜过小，如图6所示，需要使母液槽301在平行于母液容纳件300的滑动方向上的长度大于衬底夹具202最右侧至母液排放槽101的右侧的长度，以便于在母液槽301由第一预设位置滑动至第二预设位置的过程中，亦即母液槽301由第一预设位置滑动至其左侧到达母液排放槽101上方并与母液排放槽101上下联通的过程中，衬底夹具202不会与母液槽301的右侧发生干涉。

[0043] 另外，上述夹具安装槽2011设置有第一防脱结构2012，衬底夹具202设置有第一配合结构2022，衬底夹具202在夹具安装槽2011中滑动至预设高度时，第一防脱结构2012与第一配合结构2022接触限位，以防止母液容纳件300滑动至第一预设位置，夹具安装槽2011与母液槽301连通时，衬底夹具202自夹具安装槽2011坠落至母液槽301的底部，导致衬底夹具202中的衬底500上表面和下表面均浸入母液中。

[0044] 通过调节上述母液槽301中的母液总量和衬底夹具202的高度尺寸能够调节衬底500浸入母液的深度，例如，增多母液总量，加高衬底夹具202尺寸，衬底500下表面浸入母液的深度就变大，因此，通过调节母液纵梁和衬底夹具202的高度尺寸使衬底500下表面正好浸入母液中，而衬底500的上表面则高过母液，利用母液密度较大的特点，通过母液对衬底
500产生的浮力作用，实现衬底500良好的水平放置和生长平面。

[0045] 应当理解，上述第一防脱结构2012可以是限位块或者凸台等类型结构，第一配合结构2022可以是抵接块或者凹槽等类型结构，只要是第一防脱结构2012和第一配合结构2022能够接触限位，防止衬底夹具202自夹具安装槽2011坠落至母液槽301的底部即可；可选地，本发明所提供的第一防脱结构2012为在夹具安装槽2011的边缘凹陷所形成的沉台，第一配合结构2022为自衬底夹具202的边缘向远离衬底槽2021一侧折弯形成的凸缘，以通过凸缘和陈台的搭接接触实现对衬底夹具202的限位。

[0046] 由此可见，本发明还可以通过调节沉台的下沉高度调节衬底500浸入母液的深度，例如，增大沉台的下沉高度，衬底夹具202的坠落滑动高度增大，衬底500浸入母液中的深度增大。

[0047] 进一步地，衬底槽2021的两相对端分别设第一开口和第二开口，第一开口位于衬底槽2021靠近母液容纳件300的一侧；其中，第一开口的尺寸小于衬底500的尺寸，第二开口的尺寸大于衬底500的尺寸，以便于从第二开口放入衬底500，通过第一开口对衬底500进行限位，防止衬底500自第一开口坠落至衬底夹具202的下方，使衬底500的下表面正好浸入母液中，而衬底500的上表面则高过母液，利用母液密度较大的特点，通过母液对衬底500产生的浮力作用，实现衬底500良好的水平放置和生长平面。

[0048] 需要说明的是，当采用上述第一开口直接对衬底500进行限位时，可以将衬底槽2021的内壁设计为上大下小的圆锥台结构、弧形台结构或者多棱锥结构等类型，只要是第一开口的尺寸小于衬底500的尺寸，第二开口的尺寸大于衬底500的尺寸，便于衬底500从第二开口放入，通过第一开口对衬底500进行限位即可。

[0049] 或者，衬底槽2021内设置第二防脱结构，第二防脱结构用于与衬底500接触限位，防止衬底500在衬底槽2021内坠落至衬底槽2021的下方，使衬底500的下表面正好浸入母液中，而衬底500的上表面则高过母液，利用母液密度较大的特点，通过母液对衬底500产生的浮力作用，实现衬底500良好的水平放置和生长平面。

[0050] 上述第二防脱结构可以自衬底槽2021的边缘向衬底槽2021内延伸的凸缘或者限位片等类型，只要是能够对衬底500进行限位的结构类型均属于本发明保护范围内；可选地，本发明实施例所提供的第二防脱结构为自衬底槽2021的边缘向其内部延伸形成的凸缘，以使得衬底500正面倒置边缘与该凸缘贴合，其余大部分区域完全露出，当母液槽301移动至夹具安装槽2011下方时，衬底夹具202就会在自重作用下向下移动，直至衬底夹具202边缘折弯所形成的凸缘与夹具安装槽2011的沉台搭接限位，确保衬底500的下表面落入母液槽301中的母液中，以便于在衬底500的下表面外延生长薄膜。

[0051] 另外，母液槽301的两端均开口，且母液槽301的底部开口与底座100的上表面抵接，以通过底座100的上表面和母液槽301的侧壁围合形成的空间容纳母液，待衬底500的下表面外延生长薄膜生长至目标厚度后，将母液容纳件300滑动至第二预设位置，母液槽301和母液排放槽101连通，使母液槽301中的母液在自重作用下进入母液排放槽101；或者，母液槽301底部设置导流结构，通过导流结构将母液槽301中的母液导流至母液排放槽101中，提高残留母液的清除效率。

[0052] 上述导流结构可以是倾斜设置的导流板或者漏斗等类型，只要是便于将残留母液导流至母液排放槽101的结构形式均属于本发明保护范围内。

[0053] 更进一步地，上述夹具安装槽2011内设置滑动导向结构，衬底夹具202的外壁设置滑动配合结构，滑动导向结构和滑动配合结构滑动配合，以通过滑动导向结构和滑动配合结构之间的滑动配合对衬底夹具202的坠落起到导向作用，防止衬底夹具202在坠落过程中发生歪斜，影响衬底500与母液的接触。

[0054] 上述滑动导向结构可以是导向槽、导轨或者导向杆等类型结构，滑动配合结构可以是滑块或者滑轮等类型零件，只要是能够满足使用要求的结构类型均属于本发明保护范围内。

[0055] 本发明所提供的底座100设有滑动凹槽，以便于使母液容纳件300的两侧滑动卡接在滑动凹槽中，使母液容纳件300滑动设置在滑动凹槽中，便于拉动母液容纳件300使其沿滑动凹槽滑动。

[0056] 另外，上述水平液相外延生长石墨舟还包括盖板400，盖板400设置于所衬底放置件200远离母液容纳件300的一侧，以使盖板400覆盖在衬底槽2021上。

[0057] 上述盖板400与衬底放置件200可以通过卡接或者螺钉连接等方式连接在一起，只要是能够满足连接要求的连接方式均属于本发明保护范围内；可选地，本发明实施例所提供的盖板400、放置件本体201和底座100均设有螺纹连接孔，螺钉依次贯穿盖板400、放置件本体201和底座100上的螺纹连接孔后将整个儿水平液相外延生长石墨舟固定起来。

[0058] 此外，本发明还公开了一种水平液相外延生长系统，包括如上所述的水平液相外延生长石墨舟，因此兼具了上述水平液相外延生长石墨舟的所有技术效果，本文在此不再一一赘述。

[0059] 本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”和“第二”等是用于区别不同的对象，而不是用于描述特定的顺序。此外术语“包括”和“具有”以及他们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有设定于已列出的步骤或单元，而是可包括没有列出的步骤或单元。

[0060] 对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。