一种具有高平整度、光泽度、超厚上下浮雕的瓷砖及其制备方法

摘要

本发明公开了一种具有高平整度、光泽度、超厚上下浮雕的瓷砖及其制备方法。该瓷砖包括凸出区域和凹进区域，凸出区域由胶水墨水层和干粒层形成，凹进区域由硅油墨水层形成；凸出区域和凹进区域的高度差为2.6mm‑5mm；硅油墨水层的原料由溶剂和硅油组成，溶剂选自脂肪酸、己二酸二己酯和油酸异丙酯中的一种或多种的组合；胶水墨水层的原料包括以重量百分比计的以下组分：丙烯酸聚合物10%‑20%、分散剂1%‑9%、氧化锌3%‑10%、硅灰石15%‑35%、有机溶剂45%‑68%；干粒层的原料为干粒，干粒为金属氧化物的混合物。本发明的瓷砖具有超厚的上下浮雕效果，且光泽度高，平整度高。

权利要求

1.一种具有上下浮雕效果的瓷砖，所述瓷砖包括坯体，其特征在于：所述瓷砖包括凸出区域和凹进区域，所述凸出区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的釉料层、胶水墨水层和干粒层，所述凹进区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的硅油墨水层和釉料层；所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为2.6mm‑5mm；所述硅油墨水层的原料由溶剂和硅油组成，所述溶剂为脂肪酸；所述胶水墨水层的原料包括以重量百分比计的以下组分：丙烯酸聚合物10%‑20%、分散剂1%‑9%、氧化锌3%‑10%、硅灰石15%‑35%、有机溶剂45%‑68%；所述干粒层的原料为干粒，所述干粒为金属氧化物的混合物；所述硅油墨水层的原料以重量百分比计，由70%‑85%的溶剂和15%‑30%的硅油组成，所述脂肪酸选自油酸、硬脂酸、月桂酸、亚油酸中的一种或多种的组合。

2.根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为3.2mm‑5mm。

3.根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述分散剂为多聚甲醛；所述有机溶剂选自脂肪酸、己二酸二己酯和油酸异丙酯中的一种或多种的组合。

4.根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述干粒包括以重量百分比计的以下组分：氧化硅55%‑75%、氧化钙5%‑20%、氧化钾6%‑15%、氧化铝3%‑12%、氧化锌6%‑16%。

5.根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：所述釉料层由釉料形成，所述釉料按照重量百分比计，含有以下组分：高岭土6%‑17%、哑光熔块25%‑45%、10%‑25%钠长石、硅酸锆10%‑23%、石英7%‑25%、氧化铝1%‑7%、氧化锌0%‑4%。

6.根据权利要求1所述的具有上下浮雕效果的瓷砖，其特征在于：按照标准GB/T3810.13‑2016，将所述瓷砖浸泡于体积分数为5%的乳酸水溶液中24小时进行耐化学腐蚀性测试，结果为GHA级别；按照标准GB/T3810.13‑2016，将所述瓷砖浸泡于体积分数为18%的盐酸水溶液中4天进行耐化学腐蚀性测试，结果为 GHA级别；按照标准GB/T3810.13‑2016，将所述瓷砖浸泡于质量浓度为100g/L的柠檬酸水溶液中4天进行耐化学腐蚀性测试，结果为 GLA级别；按照标准GB/T3810.13‑2016，将所述瓷砖浸泡于质量浓度为100g/L的氢氧化钾水溶液中4天进行耐化学腐蚀性测试，结果为 GHA级别。

7.权利要求1‑6任一项所述的具有上下浮雕效果的瓷砖的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：1）制备所述坯体；2）在目标凹进区域所对应的坯体上打印硅油墨水，得到所述硅油墨水层；3）在所述硅油墨水层以及目标凸出区域对应的坯体上施加釉料，得到所述釉料层；4）在目标凸出区域对应的釉料层上施加胶水墨水，得到所述胶水墨水层；

5）在所述胶水墨水层上施加所述干粒；6）在所述干粒上施加粘合剂，得到瓷砖前驱体；7）烧结所述瓷砖前驱体，得到所述瓷砖。

8.根据权利要求7所述的具有上下浮雕效果的瓷砖的制备方法，其特征在于：所述硅油

2 3

墨水相对于坯体表面积的施加量为5‑45g/m；所述釉料的密度为1.40‑1.60g/cm ，所述釉料2

相对于坯体表面积的施加量为330‑1250g/m。

9.根据权利要求7所述的具有上下浮雕效果的瓷砖的制备方法，其特征在于：所述胶水2

墨水相对于所述釉料层表面积的施加量为30‑110g/m；所述干粒相对于所述胶水墨水层表2

面积的施加量为220‑1500g/m；和/或，所述粘合剂为聚乙烯醇，所述粘合剂相对于所述干2

粒层表面积的施加量为90‑270g/m。

说明书

一种具有高平整度、光泽度、超厚上下浮雕的瓷砖及其制备

方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种具有高平整度、光泽度、超厚上下浮雕的瓷砖及其制备方法。

背景技术

[0002] 在装饰不同的空间时，大理石等奢侈品的需求量很高，但是大理石等优质石头制品成本非常高，且大理石资源有限，而且天然的大理石无法定制，导致其在装饰领域受到一定的限制。

[0003] 陶瓷行业的瓷砖可以为大理石等石头奢侈品提供替代品，但是普通的瓷砖和天然大理石在装饰效果上相差很大，普通瓷砖难以满足高端装饰的需求。普通瓷砖的表面通常是平坦的，没有凹凸浮雕等三维效果，对此，现有技术也采用数码打印方式在瓷砖的基础釉层上覆盖金属干粒，以制造凹凸上下浮雕效果的瓷砖，但是金属干粒一方面容易从釉层上脱落，另一方面金属干粒在瓷砖的烧结过程中，容易坍塌，导致制备得到的瓷砖无法获得凹凸上下厚度高的浮雕效果，且干粒表面非常不规则，瓷砖光泽度差，平整度差。

[0004] 中国专利CN112374914A公开了一种带有凹凸纹理的瓷砖结构，其凸纹图案的高度为1.5mm‑2.0mm之间，然而该高度还不够高，不能满足高厚度浮雕效果的高端需求。

[0005] 中国专利CN110627510A公开了一种图案立体感可调的陶瓷砖，其实施例制备得到的陶瓷砖的凹凸差最高值为2.5mm，然而该凸凹高度差还不够高，也不能满足高厚度浮雕效果的高端需求，且该陶瓷砖在制备时，需要先在坯体上施面釉，再依次打印颜色墨水，保湿墨水，胶水墨水，深刻墨水，再施加干粒和保护釉，该制备工艺较为繁琐，成本高，且陶瓷砖的光泽度也不高，凸出部分和凹进部分的平整度不高。

发明内容

[0006] 针对现有技术的缺点和不足，本发明提供了一种改进的瓷砖，其具有超厚的上下浮雕效果，且该瓷砖的光泽度高，在凸出区域和凹进区域的平整度高，同时瓷砖具有优异的耐酸性和耐碱性，能够满足高端装饰需求。

[0007] 为达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：

[0008] 一种具有上下浮雕效果的瓷砖，所述瓷砖包括坯体，所述瓷砖包括凸出区域和凹进区域，所述凸出区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的釉料层、胶水墨水层和干粒层，所述凹进区域还包括设置在所述坯体上的自下而上依次设置的硅油墨水层和釉料层；所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为2.6mm‑5mm；所述硅油墨水层的原料由溶剂和硅油组成，所述溶剂为脂肪酸；所述胶水墨水层的原料包括以重量百分比计的以下组分：丙烯酸聚合物10%‑20%、分散剂1%‑9%、氧化锌3%‑10%、硅灰石15%‑35%、有机溶剂45%‑68%；所述干粒层的原料为干粒，所述干粒为金属氧化物的混合物。

[0009] 本发明中，凸出区域是指瓷砖中高度较高的区域，凹进区域是指瓷砖中高度较低的区域，正是由于瓷砖具有凸出区域和凹进区域，使得其具有视觉上的上下浮雕效果。本发明中，凸出区域、凹进区域并不必然是物理位置上连续的区域，也可以是间断的区域，例如瓷砖具有多个凸出区域和/或多个凹进区域，凸出区域、凹进区域的具体设置可以依据目标图案来特定化定制，因此本发明的瓷砖具有可定制的上下浮雕效果。

[0010] 本发明中，凸出区域和凹进区域的高度差是指凸出区域的最高位置离凹进区域的最低位置的高度差。由于本发明的瓷砖在凸出区域和凹进区域均具有高的平整度，凸出区域和凹进区域均类似于平面状态，因此二者的高度差也可以看成是凸出平面和凹进平面的高度差。本发明的瓷砖的上述高度差很大，大于现有技术中凹凸纹理瓷砖的高度差，因此本发明的瓷砖具有超厚的上下浮雕效果，能够满足各种高端装饰需求，这是现有技术难以实现的。

[0011] 在一些实施方式中，所述硅油为液态硅油。所述硅油例如可以为聚二甲基硅氧烷。

[0012] 在一些实施方式中，所述凸出区域和所述凹进区域的高度差为3.2mm‑5mm。

[0013] 在一些实施方式中，所述硅油墨水层的原料以重量百分比计，由70%‑85%的溶剂和15%‑30%的硅油组成，所述脂肪酸选自油酸、硬脂酸、月桂酸、亚油酸中的一种或多种的组合。

[0014] 在一些实施方式中，所述分散剂为多聚甲醛；所述有机溶剂选自脂肪酸、己二酸二己酯和油酸异丙酯中的一种或多种的组合。

[0015] 在一些实施方式中，所述干粒包括以重量百分比计的以下组分：氧化硅55%‑75%、氧化钙5%‑20%、氧化钾6%‑15%、氧化铝3%‑12%、氧化锌6%‑16%。

[0016] 在一些实施方式中，所述釉料层由釉料形成，所述釉料按照重量百分比计，含有以下组分：高岭土6%‑17%、哑光熔块25%‑45%、10%‑25%钠长石、硅酸锆10%‑23%、石英7%‑25%、氧化铝1%‑7%、氧化锌0%‑4%。

[0017] 在一些实施方式中，所述釉料还包括以下重量百分比的组分：羧甲基纤维素钠0.1%‑0.3%、0.1%‑0.5%的三聚磷酸钠。

[0018] 在一些实施方式中，所述哑光熔块包括以下重量百分比的组分：二氧化硅40%‑60%、氧化钾2%‑6%、氧化铝5%‑20%、氧化锌5%‑10%、氧化钡5%‑20%、氧化钙5% ‑15%。

[0019] 在一些实施方式中，将所述瓷砖浸泡于体积分数为5%的乳酸水溶液中24小时进行耐化学腐蚀性测试，结果为GHA级别；将所述瓷砖浸泡于体积分数为18%的盐酸水溶液中4天进行耐化学腐蚀性测试，结果为 GHA级别；将所述瓷砖浸泡于质量浓度为100g/L的柠檬酸水溶液中4天进行耐化学腐蚀性测试，结果为 GLA级别；将所述瓷砖浸泡于质量浓度为100g/L的氢氧化钾水溶液中4天进行耐化学腐蚀性测试，结果为 GHA级别。可见本发明的瓷砖具有优异的耐酸性和耐碱性。

[0020] 本发明还提供了前述具有上下浮雕效果的瓷砖的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：1）制备所述坯体；2）在目标凹进区域所对应的坯体上打印硅油墨水，得到所述硅油墨水层；3）在所述硅油墨水层以及目标凸出区域对应的坯体上施加釉料，得到所述釉料层；4）在目标凸出区域对应的釉料层上施加胶水墨水，得到所述胶水墨水层；5）在所述胶水墨水层上施加所述干粒；6）在所述干粒上施加粘合剂，得到瓷砖前驱体；7）烧结所述瓷砖前驱体，得到所述瓷砖。

[0021] 在一些实施方式中，制备所述坯体的步骤包括压制坯体的步骤和干燥坯体的步骤。

[0022] 在一些实施方式中，所述制备方法还包括在打印硅油墨水之前对所述坯体施加底釉的步骤。该施加底釉的步骤为可选的步骤。

[0023] 当对坯体施加底釉时，所述底釉相对于所述坯体的施加量为300‑600g/cm2，可采用喷釉柜或者钟罩进行施加。

[0024] 在一些实施方式中，所述底釉按照重量百分比计，含有以下组分：高岭土6%‑17%、哑光熔块25%‑45%、10%‑25%钠长石、硅酸锆10%‑23%、石英7%‑25%、氧化铝1%‑7%、氧化锌0%‑4%。

[0025] 在一些实施方式中，所述底釉还包括以下重量百分比的组分：羧甲基纤维素钠0.1%‑0.3%、0.1%‑0.5%的三聚磷酸钠。

[0026] 在一些实施方式中，所述哑光熔块包括以下重量百分比的组分：二氧化硅40%‑60%、氧化钾2%‑6%、氧化铝5%‑20%、氧化锌5%‑10%、氧化钡5%‑20%、氧化钙5% ‑15%。

[0027] 在一些实施方式中，所述硅油墨水相对于坯体表面积的施加量为5‑45g/m2；所述3 2
釉料的密度为1.40‑1.60g/cm，所述釉料相对于坯体表面积的施加量为330‑1250g/m。

[0028] 在一些实施方式中，所述胶水墨水相对于所述釉料层表面积的施加量为30‑110g/2 2
m；所述干粒相对于所述胶水墨水层表面积的施加量为220‑1500g/m。

[0029] 在一些实施方式中，所述粘合剂为聚乙烯醇，所述粘合剂相对于所述干粒层表面2
积的施加量为90‑270g/m 。聚乙烯醇粘合剂在烧结过程中能够完全分解，既能起到固定干粒的作用，同时不影响瓷砖表面的最终效果，利于浮雕效果的清晰度，使得浮雕图案与目标图案重合度非常高。

[0030] 在一些实施方式中，所述制备方法还包括在所述烧结之前采用抽吸装置吸走未被所述胶水墨水粘住的干粒。

[0031] 在一些实施方式中，所述制备方法还包括在所述烧结之前对所述瓷砖前驱体进行烘干的步骤。

[0032] 在一些实施方式中，所述烘干的温度为80‑250℃，时间为30‑240s。

[0033] 在一些实施方式中，所述烧结的温度为1160‑1230℃，时间为60‑120min。

[0034] 在一些实施方式中，所述步骤5）中，采用干粒机进行施加所述干粒。

[0035] 在一些实施方式中，所述制备方法还包括在烧结之后进行抛光或者打磨的步骤。抛光可以使得干粒的表面平整，进一步辅助实现瓷砖凸出区域的高平整度。

[0036] 与现有技术相比，本发明具有如下优势：

[0037] 本发明将仅由溶剂和硅油组成的硅油墨水层设置在瓷砖坯体上，再在其上设置釉料层，最终得到瓷砖的凹进区域，该硅油墨水层中不含有传统的各种固体成分例如各种氧化物或者熔块等，可以增大瓷砖上下浮雕效果的程度，增加凸出区域和凹进区域的高度差。此外，本发明通过在胶水墨水层中加入特定含量的氧化锌成分，可以实现瓷砖凸出区域的高平整度，本发明采用特定组成的胶水墨水层，可以实现凸出区域与凹进区域的高度差进一步增大，且能提高凸出区域的平整度。本发明的瓷砖还具有优异的耐酸性和耐碱性。对于凸出区域和凹进区域的具体设置，可以根据瓷砖的实际需要来进行定制。本发明的瓷砖能够满足高端装饰的需求。

附图说明

[0038] 图1为实施例1制得的陶瓷砖的表面效果照片图；

[0039] 图2为实施例2制得的陶瓷砖的表面效果照片图。

具体实施方式

[0040] 本发明提供了一种改进的瓷砖，该瓷砖的主要创新之处在于采用仅由溶剂和硅油组成的硅油墨水层来制备瓷砖的凹进区域，该硅油墨水层为疏水的化学组分，具备疏水性，在硅油墨水层上再设置釉料层时，硅油墨水层会与釉料层中的水分和无机组分进行排斥，最终硅油墨水层对应的坯体部分会形成瓷砖的凹进区域，并且硅油组分与釉料层的组分之间的排斥力很强，硅油墨水层的涂墨量即使较小，也能实现凹进区域的明显凹进。且本发明不同于普通现有技术，本发明的硅油墨水层中不含有任何固体成分。现有技术中虽然会使用到凹陷的深刻墨水，但是深刻墨水中通常含有各种无机金属氧化物或者熔块等组分，这些固体成分在烧结时可以起到无机粘结剂的作用，利于深刻墨水上层组分的粘结，否则深刻墨水层和干粒层之间界面结合不牢固，而本发明的发明人意外发现当硅油墨水层中不含有固体成分时，可以使得最终得到的瓷砖的凹进区域与凸出区域的高度差明显提高，这是因为这些固体成分在烧结后，仍会留在凹进区域，造成浮雕高度差的降低，而本发明的硅油墨水层不含有任何固体，可以完全实现凹陷效果，且其中的硅油可以代替无机组分，实现对其上层组分的粘结，进而可以得到上下浮雕厚度超厚的瓷砖。该高度差和浮雕效果是现有技术难以实现的。此外，硅油墨水层中不含有任何固体成分，还可以保证打印硅油墨水层的打印机喷头不会产生堵塞等问题，进而可以明显降低生产和维修成本。

[0041] 本发明的另一创新之处在于采用特定组成的胶水墨水层来粘结干粒，胶水墨水层中含有大量的固体成分，包括特定含量的氧化锌和高含量的硅灰石。由于这两种组分的添加及特定含量，可以使得胶水墨水在保证高粘附干粒性能的同时，还能降低瓷砖烧结时胶水墨水层的熔化粘度以及烧结温度，有利于瓷砖凸出区域形成较高的平整度。当胶水墨水层中的氧化锌含量过低时，胶水墨水不容易熔化，不利于凸出区域和凹进区域高度差的提高；当胶水墨水层中的氧化锌含量过高时，其助熔效果会使得瓷砖烧结过程中沸点较低的釉料沸腾，导致瓷砖表面形成过多的针状小孔，使得瓷砖凸出区域的平整度降低，且当瓷砖最终设计含有粉色时，过量的氧化锌会影响瓷砖的发色情况，导致瓷砖最终的色彩失真。同时胶水墨水层作为凸出区域位置釉料层和干粒之间的界面，有助于控制脱气和减少常见的干粒缺陷，进一步提升凸出区域的平整度，且同时明显提高凸出区域的高度，进而配合硅油墨水层的设置，使得瓷砖凸出区域和凹进区域的高度差明显提高，瓷砖的上下浮雕效果进一步增加。

[0042] 下面结合实施例对本发明作进一步描述。但本发明并不限于以下实施例。实施例中采用的实施条件可以根据具体使用的不同要求做进一步调整，未注明的实施条件为本行业中的常规条件。本发明各个实施方式中所涉及到的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。实施例1

[0043] 本实施例提供一种具有上下浮雕效果的瓷砖，其制备过程如下：

[0044] 1）压制坯体，将坯体在190℃下烘干53分钟，制备干燥坯；

[0045] 2）按照浮雕目标设计图案，在干燥坯的目标凹进区域处打印硅油墨水层，按照重量百分比，硅油墨水层的组成为油酸83.9%和16.1%硅油。硅油墨水相对于干燥坯表面积的2
施加量为28g/m；

[0046] 3）在干燥坯的整个区域表面设置釉料层，采用喷釉柜进行喷釉，釉料的密度为3 3 2
1.52g/cm，喷釉柜的流量为2.03cm/s，釉料相对于干燥坯表面积的施加量为330g/m；

[0047] 4）在釉料层的目标凸出区域处施加胶水墨水。按照重量百分比计，胶水墨水的组成为：丙烯酸聚合物16%、分散剂多聚甲醛4.2%、氧化锌4.1%、硅灰石29.3%、油酸46.4%。胶水2
墨水相对于釉料层表面积的施加量为104g/m；

[0048] 5）采用干粒机在胶水墨水层上施加干粒，施加量为1190g/ m2，采用风扇吸走未被胶水墨水粘住的干粒；干粒的组成为：氧化硅55%、氧化钙20%、氧化钾10%、氧化铝3%、氧化锌12%；

[0049] 6）在干粒区域施加粘合剂，粘合剂为PVA，密度为1.03g/cm3；其相对于干燥坯表面2
积的施加量为228g/m；

[0050] 7）将干燥坯烘干，再在1195℃下进行烧结82min。

[0051] 制备得到的瓷砖表面的浮雕图案效果如图1所示，其中黑色狭长条状部分为凹进区域，其他区域为凸出区域，可见二者均较为平整，尤其凸出区域非常平整，且瓷砖的上下浮雕图案效果清晰，凸出区域和凹进区域的高度差为3.2mm。实施例2

[0052] 本实施例提供一种具有上下浮雕效果的瓷砖，其制备过程如下：

[0053] 1）压制坯体，将坯体在182℃下烘干55分钟，制备干燥坯；

[0054] 2）按照浮雕目标设计图案，在干燥坯的目标凹进区域处打印硅油墨水层，按照重量百分比，硅油墨水层的组成为硬脂酸80.6%和19.4%硅油。硅油墨水相对于干燥坯表面积2
的施加量为35g/m；

[0055] 3）在干燥坯的整个区域表面设置釉料层，采用喷釉柜进行喷釉，釉料的密度为3 3 2
1.47g/cm，喷釉柜的流量为2.03cm/s，釉料相对于干燥坯表面积的施加量为1072g/m；

[0056] 4）在釉料层的目标凸出区域处施加胶水墨水。按照重量百分比计，胶水墨水的组成为：丙烯酸聚合物17.9%、分散剂多聚甲醛2.1%、氧化锌5.7%、硅灰石21.8%、硬脂酸52.5%。2
胶水墨水相对于釉料层表面积的施加量为95g/m；

[0057] 5）采用干粒机在胶水墨水层上施加干粒，施加量为890g/ m2，采用风扇吸走未被胶水墨水粘住的干粒；干粒的组成为：氧化硅55%、氧化钙20%、氧化钾10%、氧化铝3%、氧化锌12%；

[0058] 6）在干粒区域施加粘合剂，粘合剂为PVA，密度为0.95g/cm3；其相对于干燥坯表面2
积的施加量为149g/m；

[0059] 7）将干燥坯烘干，再在1205℃下进行烧结71min。

[0060] 制备得到的瓷砖表面的浮雕图案效果如图2所示，其中光泽度更高更为平整的区域为凸出区域，其他区域为凹进区域，可见二者均较为平整，尤其凸出区域非常平整，且瓷砖的上下浮雕图案效果清晰，凸出区域和凹进区域的高度差为4mm。实施例3

[0061] 本实施例提供一种具有上下浮雕效果的瓷砖，其制备过程如下：

[0062] 1）压制坯体，将坯体在178℃下烘干60分钟，制备干燥坯；

[0063] 2）在干燥坯的表面上喷底釉，采用喷釉柜进行喷釉，釉料的密度为1.47g/cm3，喷3 2
釉柜的流量为2.03cm/s，釉料相对于干燥坯表面积的施加量为280g/m；

[0064] 3）按照浮雕目标设计图案，在干燥坯的目标凹进区域处打印硅油墨水层，按照重量百分比，硅油墨水层的组成为月桂酸72.2%和27.8%硅油。硅油墨水相对于干燥坯表面积2
的施加量为45g/m；

[0065] 4）在干燥坯的整个区域表面设置釉料层，采用喷釉柜进行喷釉，釉料的密度为3 3 2
1.87g/cm，喷釉柜的流量为2.03cm/s，釉料相对于干燥坯表面积的施加量为970g/m；

[0066] 5）在釉料层的目标凸出区域处施加胶水墨水。按照重量百分比计，胶水墨水的组成为：丙烯酸聚合物18.8%、分散剂多聚甲醛5.3%、氧化锌6.0%、硅灰石19.7%、月桂酸50.2%。2
胶水墨水相对于釉料层表面积的施加量为108g/m；

[0067] 6）采用干粒机在胶水墨水层上施加干粒，施加量为1432g/ m2，采用风扇吸走未被胶水墨水粘住的干粒；干粒的组成为：氧化硅55%、氧化钙20%、氧化钾10%、氧化铝3%、氧化锌12%；

[0068] 7）在干粒区域施加粘合剂，粘合剂为PVA，密度为1.15g/cm3；其相对于干燥坯表面2
积的施加量为242g/m；

[0069] 8）将干燥坯烘干，再在1215℃下进行烧结98min。

[0070] 制备得到的瓷砖表面的浮雕图案清晰，凸出区域和凹进区域均平整，凸出区域和凹进区域的高度差为5.0mm。实施例4

[0071] 本实施例提供一种具有上下浮雕效果的瓷砖，其制备过程如下：

[0072] 1）压制坯体，将坯体在187℃下烘干53分钟，制备干燥坯；

[0073] 2）在干燥坯的表面上喷底釉，采用喷釉柜进行喷釉，釉料的密度为1.89g/cm3，喷3 2
釉柜的流量为2.03cm/s，釉料相对于干燥坯表面积的施加量为410g/m；

[0074] 3）按照浮雕目标设计图案，在干燥坯的目标凹进区域处打印硅油墨水层，按照重量百分比，硅油墨水层的组成为亚油酸75.7%和24.3%硅油。硅油墨水相对于干燥坯表面积2
的施加量为23g/m；

[0075] 4）在干燥坯的整个区域表面设置釉料层，采用喷釉柜进行喷釉，釉料的密度为3 3 2
1.49g/cm，喷釉柜的流量为2.03cm/s，釉料相对于干燥坯表面积的施加量为584g/m；

[0076] 5）在釉料层的目标凸出区域处施加胶水墨水。按照重量百分比计，胶水墨水的组成为：丙烯酸聚合物11%、分散剂多聚甲醛2.0%、氧化锌3.3%、硅灰石30.7%、亚油酸53%。胶水2
墨水相对于釉料层表面积的施加量为58g/m；

[0077] 6）采用干粒机在胶水墨水层上施加干粒，施加量为387g/ m2，采用风扇吸走未被胶水墨水粘住的干粒；干粒的组成为：氧化硅55%、氧化钙20%、氧化钾10%、氧化铝3%、氧化锌12%；

[0078] 7）在干粒区域施加粘合剂，粘合剂为PVA，密度为1.01g/cm3；其相对于干燥坯表面2
积的施加量为118g/m；

[0079] 8）将干燥坯烘干，再在1182℃下进行烧结103min。

[0080] 制备得到的瓷砖表面的浮雕图案清晰，凸出区域和凹进区域均平整，凸出区域和凹进区域的高度差为2.8mm。

[0081] 对比例1

[0082] 本对比例提供一种对比的瓷砖，其制备过程基本同实施例1，区别仅在于：步骤4）中胶水墨水的组成替换为：丙烯酸聚合物16%、分散剂多聚甲醛4.2%、氧化锌0.8%、硅灰石29.3%、石英3.3%、油酸46.4%。即减少胶水墨水中氧化锌的含量，采用其他无机氧化物石英替换。

[0083] 最终得到的瓷砖表面的图案不清晰可见，凸出区域和凹进区域表面不平整，有很多针状小孔。后续对该瓷砖进行抛光，也无法使得凸出区域和凹进区域表面平整。凸出区域和凹进区域的高度差为2mm。

[0084] 可见，当胶水墨水层中氧化锌含量较少时，最终得到的瓷砖的凸出区域和凹进区域的高度差明显降低，无法得到超厚的上下浮雕效果，且凸出区域和凹进区域的平整度也明显降低。

[0085] 对比例2

[0086] 本对比例提供一种对比的陶瓷砖，其制备过程基本同实施例1，区别仅在于：步骤4）中胶水墨水的组成替换为：丙烯酸聚合物16%、分散剂多聚甲醛4.2%、氧化锌4.1%、石英
29.3%、石英3.3%、油酸46.4%。即胶水墨水中不采用硅灰石，采用其他无机氧化物石英替换。

[0087] 最终得到的瓷砖表面的图案不清晰可见，凸出区域和凹进区域的高度差为1.8mm。

[0088] 可见，当胶水墨水层中不采用硅灰石时，最终得到的瓷砖的凸出区域和凹进区域的高度差明显降低，无法得到超厚的上下浮雕效果。

[0089] 对比例3

[0090] 本对比例提供一种对比的陶瓷砖，其制备过程基本同实施例1，区别仅在于：步骤2）中硅油墨水层的组成替换为：油酸35.9%、16.1%硅油、分散剂4.5%和哑光熔块43.5%。即硅油墨水层中含有常规的固体无机物成分。

[0091] 最终得到的瓷砖表面的图案不清晰可见，凸出区域和凹进区域的高度差为2.1mm。相比于实施例1，该瓷砖的上下浮雕高度差明显降低，原因是因为硅油墨水层中的组分与釉料层中的组分发生反应，且瓷砖哑光度效果不逼真。

[0092] 对比例4

[0093] 本对比例提供一种对比的瓷砖，其制备过程基本同实施例1，区别仅在于：步骤4）中胶水墨水的组成替换为：丙烯酸聚合物16%、分散剂多聚甲醛4.2%、氧化锌12%、硅灰石21.4%、油酸46.4%。即胶水墨水中氧化锌含量过高。

[0094] 最终得到的瓷砖表面的图案不清晰可见，且凸出区域的表面形成了很多针状小孔，其平整度明显降低，无法实现瓷砖的高平整度，该瓷砖即使在后续抛光处理后也无法实现高光泽度。

[0095] 可见，当胶水墨水层中采用的氧化锌过多时，最终得到的瓷砖的凸出区域的平整度明显降低。

[0096] 按照标准GB/T3810.13‑2016（瓷砖试验方法第13部分：耐化学腐蚀性的测定）对实施例1‑6中的瓷砖的耐化学腐蚀性进行测试，其中化学物质分别为体积分数为18%的盐酸水溶液，体积分数为5%的乳酸水溶液，质量浓度为100g/L的柠檬酸水溶液，质量浓度为100g/L的氢氧化钾水溶液，其中乳酸测试时间为24小时，其他为4天。结果如下表1所示。

[0097] 表1实施例1‑6的陶瓷砖的耐化学腐蚀性结果

[0098]

[0099] 可见本发明的瓷砖具有优异的耐酸性和耐碱性。

[0100] 上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

[0101] 在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。