一种半导体光掩膜基板检测方法、系统、设备及存储介质

摘要

本申请提供了一种半导体光掩膜基板检测方法、系统、设备及存储介质，通过确定基板涂料光斜饱和图像，对基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像，确定基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，进而确定可变饱和收缩色彩强化因子，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值，当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库，可提高光掩膜基板的检测准确度。

权利要求

1.一种半导体光掩膜基板检测方法，其特征在于，包括如下步骤：

启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；

确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，其中，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像具体包括：将所述基板涂料光斜图像转换为基板涂料光斜HSV图像；

根据所述基板涂料光斜HSV图像确定基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；

确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，其中，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集具体包括：确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像划分窗口；

根据所述饱和收缩图像划分窗口对所述基板涂料光斜饱和收缩图像进行划分，得到多个饱和收缩图像子块；

将所有的饱和收缩图像子块的集合作为饱和收缩图像子块集；

选取一个饱和收缩图像子块，确定该饱和收缩图像子块的中心点，将该中心点的像素点作为该饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点，重复上述步骤，确定剩余饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点；

将所有的饱和收缩权阈点的集合作为饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，其中所述可变饱和收缩色彩强化因子可采用下述步骤确定：获取饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上第 行第 列的像素值 ；

获取饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值；

确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差 ；

确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总行数 ；

确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总列数 ；

根据所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上第 行第 列的像素值、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差 、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总行数 和所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总列数 确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，其中所述可变饱和收缩色彩强化因子采用下述公式确定：其中， 表示饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子， 表示自然对数的底数， 为常数， ， ；

根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；

当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像具体包括：确定所述基板涂料光斜饱和图像的光斜饱和极大值和光斜饱和极小值；

根据所述光斜饱和极大值和所述光斜饱和极小值对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像具体包括：选取所述饱和收缩图像子块集中一个饱和收缩图像子块，根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子对该个饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到该个饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；

重复上述步骤，对剩余饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到剩余饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；

将所有的基板涂料光斜细节加强图像子块组合成基板涂料光斜细节加强图像。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：当所述基板涂料检测界定值超过预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为不合格，并上传至涂料检测信息库。

5.一种半导体光掩膜基板检测系统，其采用权利要求1所述的方法进行检测，其特征在于，该半导体光掩膜基板检测系统包括：基板涂料光斜图像获取模块，用于启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；

基板涂料光斜饱和收缩图像获取模块，用于确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；

可变饱和收缩色彩强化因子确定模块，用于确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子；

基板涂料检测界定值确定模块，用于根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；

半导体光掩膜基板标判定模块，用于当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库。

6.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至4中任一项所述的半导体光掩膜基板检测方法的步骤。

7.一种计算机可读存储介质，所存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至4中任一项所述的半导体光掩膜基板检测方法的步骤。

说明书

一种半导体光掩膜基板检测方法、系统、设备及存储介质

技术领域

[0001] 本申请涉及半导体检测技术领域，特别是本申请涉及一种半导体光掩膜基板检测方法、系统、设备及存储介质。

背景技术

[0002] 半导体检测是指使用半导体器件和技术来检测、测量或测试电子、光学或其他物理性质的过程，这种检测通常涉及使用半导体传感器、探测器或其他半导体器件，以便获取关于被测物理现象的信息，半导体检测在科学研究、工程应用和工业生产中具有广泛的应用，如：光电探测、温度传感、辐射探测、压力和应变测量等。

[0003] 光掩膜基板是半导体制造中的一个关键工具，用于定义集成电路和其它微电子设备上的图案和结构，其是一个透明的玻璃或石英基板，上面覆盖有特定的图案，通过光刻技术将所需的图案投射到半导体晶片的表面，在制造半导体芯片时，以下是光掩膜基板的关键作用：质量控制、图案传递、分辨率和精度等，光掩膜基板是半导体工艺中不可或缺的组成部分，随着半导体在生活中广泛运用，半导体的质量要求也越来越高，进而如何提高光掩膜基板的检测准确度也成为了业界面临的难题。

发明内容

[0004] 基于此，有必要针对上述技术问题，本申请提供一种用以提高光掩膜基板的检测准确度的半导体光掩膜基板检测方法、系统、设备及存储介质。

[0005] 为解决上述技术问题，本申请采用如下技术方案：

[0006] 第一方面，本申请提供一种半导体光掩膜基板检测方法，包括如下步骤：

[0007] 启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；

[0008] 确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；

[0009] 确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子；

[0010] 根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；

[0011] 当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格。

[0012] 在一些实施例中，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像具体包括：

[0013] 将所述基板涂料光斜图像转换为基板涂料光斜HSV图像；

[0014] 根据所述基板涂料光斜HSV图像确定基板涂料光斜饱和图像。

[0015] 在一些实施例中，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像具体包括：

[0016] 确定所述基板涂料光斜饱和图像的光斜饱和极大值和光斜饱和极小值；

[0017] 根据所述光斜饱和极大值和所述光斜饱和极小值对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像。

[0018] 在一些实施例中，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集具体包括：

[0019] 确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像划分窗口；

[0020] 根据所述饱和收缩图像划分窗口对所述基板涂料光斜饱和收缩图像进行划分，得到多个饱和收缩图像子块；

[0021] 将所有的饱和收缩图像子块的集合作为饱和收缩图像子块集；

[0022] 选取一个饱和收缩图像子块，确定该饱和收缩图像子块的中心点，将该中心点的像素点作为该饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点，重复上述步骤，确定剩余饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点；

[0023] 将所有的饱和收缩权阈点的集合作为饱和收缩权阈点集。

[0024] 在一些实施例中，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子采用下述步骤实现：

[0025] 获取饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上第 行第 列的像素值；

[0026] 获取饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值 ；

[0027] 确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差 ；

[0028] 确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总行数 ；

[0029] 确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总列数 ；

[0030] 根据所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上第 行第 列的像素值 、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值 、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差 、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总行数 和所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总列数 确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，其中所述可变饱和收缩色彩强化因子可采用下述公式确定：

[0031]

[0032] 其中， 表示饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子， 表示自然对数的底数， 为常数， ， 。

[0033] 在一些实施例中，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像具体包括：

[0034] 选取所述饱和收缩图像子块集中一个饱和收缩图像子块，根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子对该个饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到该个饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；

[0035] 重复上述步骤，对剩余饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到剩余饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；

[0036] 将所有的基板涂料光斜细节加强图像子块组合成基板涂料光斜细节加强图像。

[0037] 在一些实施例中，还包括：当所述基板涂料检测界定值超过预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为不合格，并上传至涂料检测信息库。

[0038] 第二方面，本申请提供一种半导体光掩膜基板检测系统，包括：

[0039] 基板涂料光斜图像获取模块，用于启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；

[0040] 基板涂料光斜饱和收缩图像获取模块，用于确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；

[0041] 可变饱和收缩色彩强化因子确定模块，用于确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子；

[0042] 基板涂料检测界定值确定模块，用于根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；

[0043] 半导体光掩膜基板标判定模块，用于当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库。

[0044] 第三方面，本申请提供一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述任一项所述的半导体光掩膜基板检测方法的步骤。

[0045] 第四方面，本申请提供一种计算机可读存储介质，所存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述任一项所述的半导体光掩膜基板检测方法的步骤。

[0046] 本申请公开的实施例提供的技术方案具有以下有益效果：

[0047] 本申请提供的半导体光掩膜基板检测方法、系统、设备及存储介质中，首先启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值，当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库。

[0048] 该方案通过获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像，并根据所述基板涂料光斜图像中的阴影部分求取特征值对半导体光掩膜基板进行判定，有助于简化半导体光掩膜基板的检测步骤；从而通过确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，有助于增强基板涂料光斜图像的颜色饱和度和色彩均衡度；进而通过确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，并根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，有助于根据基板涂料光斜图像中不同区域的权重度对基板涂料光斜图像的色彩进行可变强化，突出了不同区域的颜色特性，有助于提高基板涂料光斜图像中的阴影部分特征值的准确度；最终通过确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值，并根据所述基板涂料检测界定值对该半导体光掩膜基板的涂料检测进行判定，从而有助于提高光掩膜基板的检测准确度。

附图说明

[0049] 图1为本申请一些实施例中半导体光掩膜基板检测方法的流程示意图；

[0050] 图2为本申请一些实施例中确定基板涂料光斜饱和图像的流程示意图；

[0051] 图3为本申请一些实施例中半导体光掩膜基板检测系统的结构框图；

[0052] 图4为本申请一些实施例中计算机设备的内部结构图。

具体实施方式

[0053] 本申请核心是启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值，当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库，该方案可通过对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像，从而确定确定可变饱和收缩色彩强化因子，进而根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，最终根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值，并根据所述基板涂料检测界定值对半导体光掩膜基板进行判定，与现有技术中根据人为的肉眼观察对半导体光掩膜基板进行判定相比，有助于提高光掩膜基板的检测准确度。

[0054] 为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。参考图1，该图是根据本申请一些实施例所示的半导体光掩膜基板检测方法的示例性流程图，该半导体光掩膜基板检测方法100主要包括如下步骤：

[0055] 在步骤101，启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像。

[0056] 具体实现时，启动半导体光掩膜基板的涂料检测，从半导体光掩膜基板的涂料检测数据库中获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像，所述基板涂料光斜图像可通过摄像机在黑暗条件下并采用一定频率的黄光按照指定角度照射半导体光掩膜基板完成涂料后的成品进行拍摄得到。

[0057] 在步骤102，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像。

[0058] 在一些实施例中，参考图2所示，该图是本申请一些实施例中确定基板涂料光斜饱和图像的流程示意图，本实施例中确定基板涂料光斜饱和图像可采用下述步骤实现[0059] 在步骤1021中，将所述基板涂料光斜图像转换为基板涂料光斜HSV图像；

[0060] 然后在步骤1022中，根据所述基板涂料光斜HSV图像确定基板涂料光斜饱和图像。

[0061] 具体实现时，可采用现有技术图像处理库（如：OpenCV）中的内置函数将所述基板涂料光斜图像转换为基板涂料光斜HSV图像；使用OpenCV中的cv2.split( )函数提取基板涂料光斜HSV图像在S通道下的图像，将该提取到的图像作为基板涂料光斜饱和图像。

[0062] 在一些实施例中，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像可采用下述步骤实现：

[0063] 确定所述基板涂料光斜饱和图像的光斜饱和极大值和光斜饱和极小值；

[0064] 根据所述光斜饱和极大值和所述光斜饱和极小值对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像。

[0065] 具体实现时，确定所述基板涂料光斜饱和图像的光斜饱和极大值和光斜饱和极小值，即：获取所述基板涂料光斜饱和图像中每个像素点的饱和度，将所以的饱和度的值均作为光斜饱和值，并通过比较每个光斜饱和值的大小，将最大的光斜饱和值作为光斜饱和极大值，将最小的光斜饱和值作为光斜饱和极小值。

[0066] 在一些实施例中，根据所述光斜饱和极大值和所述光斜饱和极小值对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像可采用下述公式确定：

[0067]

[0068] 其中， 表示基板涂料光斜饱和收缩图像中第 行第 列像素点的饱和收缩值， 表示基板涂料光斜饱和图像中第 行第 列像素点的光斜饱和值， 表示光斜饱和极小值， 表示光斜饱和极大值，由饱和收缩化后每个像素点的饱和收缩值生成基板涂料光斜饱和收缩图像。

[0069] 具体实现时，根据饱和收缩化后每个像素点的饱和收缩值对基板涂料光斜饱和图像中对应像素点的光斜饱和值进行替换，并将替换后的基板涂料光斜饱和图像作为基板涂料光斜饱和收缩图像。

[0070] 需要说明的是，本申请中的饱和收缩化减小基板涂料光斜饱和图像中白光点，通过收缩光斜饱和值的取值范围有助于提高基板涂料光斜饱和图像的鲜艳程度。

[0071] 在步骤103，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子。

[0072] 在一些实施例中，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集可采用下述步骤实现：

[0073] 确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像划分窗口；

[0074] 根据所述饱和收缩图像划分窗口对所述基板涂料光斜饱和收缩图像进行划分，得到多个饱和收缩图像子块；

[0075] 将所有的饱和收缩图像子块的集合作为饱和收缩图像子块集；

[0076] 选取一个饱和收缩图像子块，确定该饱和收缩图像子块的中心点，将该中心点的像素点作为该饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点，重复上述步骤，确定剩余饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点；

[0077] 将所有的饱和收缩权阈点的集合作为饱和收缩权阈点集。

[0078] 具体实现时，通过历史的基板涂料光斜饱和收缩图像划分数据对划分值进行设置，所述划分值一般为3，即，将图像行划分3次、列划分3次，总共划分为16个子块；根据划分值确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像划分窗口的大小，例：所述基板涂料光斜饱和收缩图像为4×4的图像，划分值为3，则饱和收缩图像划分窗口为1×1；根据所述饱和收缩图像划分窗口将所述基板涂料光斜饱和收缩图像划分为多个大小相等的饱和收缩图像子块；确定该饱和收缩图像子块的中心点，即：选取该饱和收缩图像子块在空间上的中心点。

[0079] 在一些实施例中，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子可采用下述步骤实现：

[0080] 获取饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上第 行第 列的像素值；

[0081] 获取饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值 ；

[0082] 确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差 ；

[0083] 确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总行数 ；

[0084] 确定饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总列数 ；

[0085] 根据所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上第 行第 列的像素值 、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的饱和收缩权阈点的像素值 、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差 、所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总行数 和所述饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块上像素点的总列数 确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，其中所述可变饱和收缩色彩强化因子可采用下述公式确定：

[0086]

[0087] 其中， 表示饱和收缩图像子块集中第 个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子， 表示自然对数的底数， 为常数， ， 。

[0088] 具体实现时，可以使用统计软件，如MATLAB确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块所有像素值的标准差； 可以根据实验需求进行设置，一般取值为0到3的常数。

[0089] 需要说明的是，本申请中的可变饱和收缩色彩强化因子表示可以根据不同区域的饱和收缩图像子块进行变化的饱和收缩色彩强化因子，所述可变饱和收缩色彩强化因子可以根据区域的不同对对应的饱和收缩图像子块进行相应的色彩进行改变。

[0090] 在步骤104，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值。

[0091] 在一些实施例中，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像可采用下述步骤实现：

[0092] 选取所述饱和收缩图像子块集中一个饱和收缩图像子块，根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子对该个饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到该个饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；

[0093] 重复上述步骤，对剩余饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到剩余饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块；

[0094] 将所有的基板涂料光斜细节加强图像子块组合成基板涂料光斜细节加强图像。

[0095] 其中，在一些实施例中，根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子对该个饱和收缩图像子块进行可变色彩强化，得到该个饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块可采用下述步骤实现：

[0096] 获取该个饱和收缩图像子块中每个像素点的像素值；

[0097] 根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子对每个像素点的像素值进行色彩强化，得到每个像素点的细节加强值；

[0098] 根据所有的细节加强值对对应像素点的像素值进行替换，并将替换后的所有像素点组成该个饱和收缩图像子块的基板涂料光斜细节加强图像子块。

[0099] 另外，在一些实施例中，根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子对每个像素点的像素值进行色彩强化，得到每个像素点的细节加强值可采用下述步骤实现：

[0100] 获取该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子 ；

[0101] 获取该个饱和收缩图像子块在 处像素点的行数值 和列数值 ；

[0102] 获取该个饱和收缩图像子块在中心像素点的行数值 和列数值 ；

[0103] 获取该个饱和收缩图像子块在第 行第 列的像素值 ；

[0104] 确定该个饱和收缩图像子块中像素点的总行数 ；

[0105] 确定该个饱和收缩图像子块中像素点的总列数 ；

[0106] 确定该个饱和收缩图像子块的像素距离影响因子 ；

[0107] 确定该个饱和收缩图像子块中所有像素值的子块像素变化系数 ；

[0108] 确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像中所有像素值的图像像素变化系数 ；

[0109] 根据该个饱和收缩图像子块对应的可变饱和收缩色彩强化因子 、该个饱和收缩图像子块在 处像素点的行数值 和列数值 、该个饱和收缩图像子块在中心像素点的行数值 和列数值 、该个饱和收缩图像子块在第 行第 列的像素值、该个饱和收缩图像子块中像素点的总行数 、该个饱和收缩图像子块中像素点的总列数 、该个饱和收缩图像子块的像素距离影响因子 、该个饱和收缩图像子块中所有像素值的子块像素变化系数 和所述基板涂料光斜饱和收缩图像中所有像素值的图像像素变化系数 确定每个像素点的细节加强值，其中每个像素点的细节加强值可采用下述公式确定：

[0110]

[0111] 其中， 表示基板涂料光斜细节加强图像子块中第 行第 列像素点的细节加强值， 表示自然对数的底数， ， 。

[0112] 具体实现时，可以使用统计软件MATLAB确定饱和收缩图像子块中每个像素点与中心像素点在空间上的距离标准差，将该距离标准差作为该个饱和收缩图像子块的像素距离影响因子；可以使用数学软件Mathematica计算该个饱和收缩图像子块中所有像素值的子块像素变化系数，所述子块像素变化系数的取值范围为0到logA，所述A为该个饱和收缩图像子块中像素值的总个数，也可以计算所述基板涂料光斜饱和收缩图像中所有像素值的图像像素变化系数，所述图像像素变化系数的取值范围为0到logB，所述B为所述基板涂料光斜饱和收缩图像中所有像素值的的总个数。

[0113] 需要说明的是，本申请中的像素距离影响因子反应了该个饱和收缩图像子块的重要程度，像素距离影响因子越大，则该个饱和收缩图像子块越重要；子块像素变化系数反应了该个饱和收缩图像子块中颜色的混乱程度，子块像素变化系数越大，则表示该个饱和收缩图像子块中颜色越混乱，即该个饱和收缩图像子块中不同像素值的数量越多；图像像素变化系数反应了所述基板涂料光斜饱和收缩图像中颜色的混乱程度，图像像素变化系数越大，则表示所述基板涂料光斜饱和收缩图像中颜色越混乱，即所述基板涂料光斜饱和收缩图像中不同像素值的数量越多。

[0114] 需要说明的是，本申请中的可变色彩强化表示根据基板涂料光斜饱和收缩图像中不同区域的饱和收缩图像子块进行不同的色彩强化。

[0115] 在一些实施例中，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值可采用下述步骤实现：

[0116] 将所述基板涂料光斜细节加强图像转换为基板涂料光斜序列；

[0117] 根据所述基板涂料光斜序列确定所述基板涂料光斜细节加强图像的细节加强差异序列；

[0118] 根据所述细节加强差异序列确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值。

[0119] 具体实现时，获取所述基板涂料光斜细节加强图像中所有的细节加强值，将所有的细节加强值按照从左往右、从上到下的顺序进行排列，将排列后的序列作为基板涂料光斜序列；将所述基板涂料光斜序列中第一个细节加强值与第二个细节加强值作差，将得到的差值作为细节加强差异序列中的第一个值，将所述基板涂料光斜序列中第二个细节加强值与第三个细节加强值作差，将得到的差值作为细节加强差异序列中的第二个值，依此类推，对所述基板涂料光斜序列中每一个细节加强值重复上述步骤，从而得到所述细节加强差异序列；根据预设的差异阈值对所述细节加强差异序列中每一个值进行筛查，即：若差值大于差异阈值，则保留，若小于差异阈值，则剔除，将剔除后的细节加强差异序列中差值的总数作为该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值。

[0120] 需要说明的是，本申请中的差异阈值可根据历史细节加强差异数据进行设置，取值为历史细节加强差异数据中所有差异值的平均值的1.3倍，在其它实施例中也可以采用其它方法进行设置，这里不做限定。

[0121] 需要说明的是，本申请中的基板涂料检测界定值反应了半导体光掩膜基板在完成涂料后该半导体光掩膜基板表面的平滑程度，基板涂料检测界定值越大，则该半导体光掩膜基板表面越粗糙，基板涂料检测界定值越小，则该半导体光掩膜基板表面越平滑。

[0122] 在步骤105，当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库。

[0123] 另外，在一些实施例中，当所述基板涂料检测界定值超过预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为不合格，并上传至涂料检测信息库。

[0124] 具体实现时，当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，将所述半导体光掩膜基板标记为合格产品，并上传至涂料检测信息库中；当所述基板涂料检测界定值超过预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为不合格，将所述半导体光掩膜基板标记为不合格产品，并上传至涂料检测信息库中。

[0125] 另外，本申请的另一方面，在一些实施例中，本申请提供一种半导体光掩膜基板检测系统，参考图3，该图是根据本申请一些实施例所示的半导体光掩膜基板检测系统的示例性硬件和/或软件的示意图，该半导体光掩膜基板检测系统300包括：基板涂料光斜图像获取模块301、基板涂料光斜饱和收缩图像获取模块302、可变饱和收缩色彩强化因子确定模块303、基板涂料检测界定值确定模块304和半导体光掩膜基板标判定模块305，分别说明如下：

[0126] 基板涂料光斜图像获取模块301，本申请中基板涂料光斜图像获取模块301主要用于启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像；

[0127] 基板涂料光斜饱和收缩图像获取模块302，本申请中基板涂料光斜饱和收缩图像获取模块302主要用于确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像；

[0128] 可变饱和收缩色彩强化因子确定模块303，本申请中可变饱和收缩色彩强化因子确定模块303主要用于确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子；

[0129] 基板涂料检测界定值确定模块304，本申请中基板涂料检测界定值确定模块304主要用于根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值；

[0130] 半导体光掩膜基板标判定模块305，本申请中半导体光掩膜基板标判定模块305主要用于当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库。

[0131] 上述半导体光掩膜基板检测系统中的各个模块可全部或部分通过软件、硬件及其组合来实现。上述各模块可以硬件形式内嵌于或独立于计算机设备中的处理器中，也可以以软件形式存储于计算机设备中的存储器中，以便于处理器调用执行以上各个模块对应的操作。

[0132] 另外，在一个实施例中，本申请提供了一种计算机设备，该计算机设备可以是服务器，其内部结构图可以如图4所示。该计算机设备包括通过系统总线连接的处理器、存储器和网络接口。其中，该计算机设备的处理器用于提供计算和控制能力。该计算机设备的存储器包括非易失性存储介质、内存储器。该非易失性存储介质存储有操作系统、计算机程序和数据库。该内存储器为非易失性存储介质中的操作系统和计算机程序的运行提供环境。该计算机设备的数据库用于存储半导体光掩膜基板检测数据。该计算机设备的网络接口用于与外部的终端通过网络连接通信。该计算机程序被处理器执行时以实现一种半导体光掩膜基板检测方法。

[0133] 本领域技术人员可以理解，图4中示出的结构，仅仅是与本申请方案相关的部分结构的框图，并不构成对本申请方案所应用于其上的计算机设备的限定，具体的计算机设备可以包括比图中所示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者具有不同的部件布置。

[0134] 在一个实施例中，还提供了一种计算机设备，包括存储器和处理器，存储器中存储有计算机程序，该处理器执行计算机程序时实现上述半导体光掩膜基板检测方法实施例中的步骤。

[0135] 在一个实施例中，提供了一种计算机可读存储介质，存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现上述半导体光掩膜基板检测方法实施例中的步骤。

[0136] 在一个实施例中，提供了一种计算机程序产品或计算机程序，该计算机程序产品或计算机程序包括计算机指令，该计算机指令存储在计算机可读存储介质中。计算机设备的处理器从计算机可读存储介质读取该计算机指令，处理器执行该计算机指令，使得该计算机设备执行上述半导体光掩膜基板检测方法实施例中的步骤。

[0137] 本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程，是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，所述的计算机程序可存储于一非易失性计算机可读取存储介质中，该计算机程序在执行时，可包括如上述各方法的实施例的流程。其中，本申请所提供的各实施例中所使用的对存储器、存储、数据库或其它介质的任何引用，均可包括非易失性和易失性存储器中的至少一种。非易失性存储器可包括只读存储器(Read‑Only Memory，ROM)、磁带、软盘、闪存或光存储器等。易失性存储器可包括随机存取存储器(Random Access Memory，RAM)或外部高速缓冲存储器。作为说明而非局限，RAM可以是多种形式，比如静态随机存取存储器(Static Random Access Memory，SRAM)或动态随机存取存储器(Dynamic Random Access Memory，DRAM)等。

[0138] 综上，本申请实施例公开的半导体光掩膜基板检测方法、系统、设备及存储介质中，首先，启动半导体光掩膜基板的涂料检测，获取半导体光掩膜基板的基板涂料光斜图像，确定所述基板涂料光斜图像的基板涂料光斜饱和图像，对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像，确定所述基板涂料光斜饱和收缩图像的饱和收缩图像子块集和饱和收缩权阈点集，根据所述饱和收缩权阈点集确定饱和收缩图像子块集中每个饱和收缩图像子块的可变饱和收缩色彩强化因子，根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值，当所述基板涂料检测界定值低于预设的基板涂料检测界定阈值时，将所述半导体光掩膜基板标判定为合格，并上传至涂料检测信息库，从而该方案通过对所述基板涂料光斜饱和图像进行饱和收缩化，得到基板涂料光斜饱和收缩图像，从而确定确定可变饱和收缩色彩强化因子，进而根据所有的可变饱和收缩色彩强化因子对所述饱和收缩图像子块集进行可变色彩强化，得到基板涂料光斜细节加强图像，最终根据所述基板涂料光斜细节加强图像确定该半导体光掩膜基板的基板涂料检测界定值，并根据所述基板涂料检测界定值对半导体光掩膜基板进行判定，与现有技术中根据人为的肉眼观察对半导体光掩膜基板进行判定相比，有助于提高光掩膜基板的检测准确度。

[0139] 以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

[0140] 以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。