显示装置及其制造方法、电子装置及其制造方法转让专利
申请号 : CN03800046.6
文献号 : CN1496667B
文献日 : 2010-05-05
发明人 : 关俊一 , 木村秀之 , 山本直树
申请人 : 精工爱普生株式会社
摘要 :
在多个电极之间形成一个梯形部分，在一个基体上形成多个电极。通过从多个喷嘴喷射组合物而实现在每个电极上形成功能层，通过在电极上形成的功能层之间设置梯形部分来制作显示器。沿主扫描方向上倾斜地设置有多个喷嘴的喷嘴阵列扫描该基体。喷射对各功能层初始喷射的组合物液滴，从而使其至少接触该梯形部分的一部分。根据本发明的显示器的制作方法，能实现具有较高质量的显示器，而不会产生对于每一象素的非均匀功能层。
权利要求 :
1.一种具有位于形成在电极上的功能层之间的梯形部分的显示装置的制造方法，包括：在一个基体上的多个电极周围形成一个梯形部分；以及通过从多个喷嘴喷射组合物，在每个电极上形成功能层，其中：在梯形部分中形成一被处理为亲液的区域和一被处理为防水的区域，具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角线方式在主扫描方向上扫描该基体，以及喷射对各功能层初始喷射的组合物液滴，从而使其至少接触该梯形部分的防水区域。
2.如权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中该梯形部分是由一被处理为亲液的第一梯形层和一被处理为防水的第二梯形层形成的，形成第一梯形层以覆盖电极的一部分。
3.如权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中所述显示装置由具有驱动电路的电子装置来驱动。
4.如权利要求2所述的显示装置的制造方法，其中所述显示装置由具有驱动电路的电子装置来驱动。
5.如权利要求1-4中任一个所述的显示装置的制造方法，其中功能层至少包括一空穴注入/传输层。
6.如权利要求1-4中任一个所述的显示装置的制造方法，其中该功能层至少包括一发光层。
7.如权利要求1-4中任一个所述的显示装置的制造方法，其中在上述功能层形成步骤中，通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落这些液滴的间隔大于液滴的直径。
8.如权利要求7所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对每个功能层执行两次以上扫描操作。
9.如权利要求7所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作使用不同喷嘴。
10.如权利要求9所述的显示装置的制造方法，其中在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，通过喷嘴阵列在子扫描方向上位移使用不同的喷嘴。
11.如权利要求1-4中任一个所述的显示装置的制造方法，其中在上述功能层形成步骤中，通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落这些液滴的间隔小于液滴的直径。
12.如权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对每个功能层执行一次扫描操作。
13.如权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对每个功能层执行两次以上扫描操作。
14.如权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作使用不同喷嘴。
15.如权利要求14所述的显示装置的制造方法，其中在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，通过喷嘴阵列在子扫描方向上位移使用不同的喷嘴。
16.一种根据权利要求1-15中任一个制造方法制造的显示装置。
17.一种显示装置的制造方法，在该显示装置中，在形成在一个基体上的多个电极中的每一个上都形成有功能层，在功能层之间具有梯形部分，该方法包括以下步骤：梯形部分形成步骤，用于形成梯形部分从而覆盖电极的一部分；
亲液步骤，用于将电极的至少一部分处理为亲液；
防水步骤，用于将梯形部分的一部分处理为防水；
功能层形成步骤，用于通过从多个喷嘴中喷射组合物，在每个电极上形成至少一个功能层；和对向电极形成步骤，用于在功能层上形成对向电极，其中，在功能层形成步骤中，当具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角方式在主扫描方向上扫描基体时，喷射向各功能层初始喷射的组合物液滴，从而使其至少接触梯形部分的一部分。
18.如权利要求17所述的显示装置的制造方法，其中该梯形部分是由在亲液步骤中被处理为亲液的一第一梯形层和在防水步骤中被处理为防水的一第二梯形层形成的，形成该第一梯形层以覆盖电极的一部分。
19.如权利要求17所述的显示装置的制造方法，其中所述显示装置由具有驱动电路的电子装置来驱动。
20.如权利要求18所述的显示装置的制造方法，其中所述显示装置由具有驱动电路的电子装置来驱动。
21.如权利要求17-20中任一个所述的显示装置的制造方法，其中功能层至少包括一空穴注入/传输层。
22.如权利要求17-20中任一个所述的显示装置的制造方法，其中该功能层至少包括一发光层。
23.如权利要求17-20中任一个所述的显示装置的制造方法，其中在上述功能层形成步骤中，通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落这些液滴的间隔大于液滴的直径。
24.如权利要求23所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对每个功能层执行两次以上扫描操作。
25.如权利要求23所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作使用不同喷嘴。
26.如权利要求25所述的显示装置的制造方法，其中在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，通过喷嘴阵列在子扫描方向上位移。
27.如权利要求17-20中任一个所述的显示装置的制造方法，其中在上述功能层形成步骤中，通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落这些液滴的间隔小于液滴的直径。
28.如权利要求27所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对每个功能层执行一次扫描操作。
29.如权利要求27所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对每个功能层执行两次以上扫描操作。
30.如权利要求27所述的显示装置的制造方法，其中喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作使用不同喷嘴。
31.如权利要求30所述的显示装置的制造方法，其中在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，通过喷嘴阵列在子扫描方向上位移。
32.一种根据权利要求17-31中任一个制造方法制造的显示装置。
说明书 :
技术领域
本发明涉及一种显示装置的制造方法、一种显示装置、一种电子装置的制造方法和一种电子装置。
背景技术
近年来，通过将用于功能材料(member)的制作图案的方法应用在墨水喷射方法中，即将例如有机荧光材料这样的功能材料液化，从而将它注射在一个基础材料上，使得具有将一功能材料形成的功能层夹在一对电极之间的彩色显示装置，特别是使用例如有机发光材料这样的功能材料的有机电致发光(下文称为EL)显示装置不断发展。
在上述的功能材料的图案形成方法中，在一个像素电极的周围形成一个梯形部分，该像素电极是由，例如形成在基体上的ITO制成的，然后对该像素电极和邻近该像素电极的梯形部分(bank section)的一部分进行亲液(lyophilically)处理，并对梯形部分的其余部分进行处理使其变得易挥发，随后，将包括功能层中含有的材料的组合物注入像素电极的近似中心，然后干燥；这样就在像素电极上形成功能层。
在该传统方法中，如果注入的组合物从梯形部分中溢出，则注入的组合物不会在被处理为防水的梯形部分中的区域处扩散开，并流到相邻的像素电极处；因此可以很精确的执行制作图案操作。
但是，在传统方法中，注入的组合物将从像素电极的中心均匀的向其附近的周围扩散；因此注入的组合物很难扩散到梯形部分的一个被处理为亲液的部分。因此，存在当像素电极中功能层中的均匀性不能实现的情况。考虑到该梯形部分中被处理为亲液的一部分是像素电极周围很小的区域；因此该组合物不会由于表面张力等原因扩散。
在上述的功能材料的图案形成方法中，在一个像素电极的周围形成一个梯形部分，该像素电极是由，例如形成在基体上的ITO制成的，然后对该像素电极和邻近该像素电极的梯形部分(bank section)的一部分进行亲液(lyophilically)处理，并对梯形部分的其余部分进行处理使其变得易挥发，随后，将包括功能层中含有的材料的组合物注入像素电极的近似中心，然后干燥；这样就在像素电极上形成功能层。
在该传统方法中，如果注入的组合物从梯形部分中溢出，则注入的组合物不会在被处理为防水的梯形部分中的区域处扩散开，并流到相邻的像素电极处；因此可以很精确的执行制作图案操作。
但是，在传统方法中，注入的组合物将从像素电极的中心均匀的向其附近的周围扩散；因此注入的组合物很难扩散到梯形部分的一个被处理为亲液的部分。因此，存在当像素电极中功能层中的均匀性不能实现的情况。考虑到该梯形部分中被处理为亲液的一部分是像素电极周围很小的区域；因此该组合物不会由于表面张力等原因扩散。
发明内容
本发明是考虑到上述情况而提出的。本发明的一个目的是提供一种显示装置和制造它的方法，从而可以在不会造成每个像素电极的功能层中的非均匀性的同时，实现更好的显示质量。
为了实现上述目的，本发明使用了下面的结构。
用于根据本发明的显示装置的制造方法特征在于该显示装置的制造方法在功能层之间具有一个梯形部分，这些功能层通过在形成在一个基体上的多个电极周围形成一个梯形部分而形成在电极上，该方法通过从多个喷嘴喷射组合物而实现在每个电极上形成功能层，具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角线方式在主扫描方向上扫描该基体，并对各功能层喷射初始喷射的组合物液滴，从而使其至少接触该梯形部分的一部分。
根据这种显示装置的制造方法，对各功能层初始喷射的组合物液滴至少接触梯形部分的一部分，这些液滴从梯形部分运动到电极的表面；从而使组合物液滴优先均匀的提供到电极的周围。因此，可以形成基本具有均匀厚度的功能层。
而且，本发明用于显示装置的制造方法特征在于在梯形部分中形成一被处理为亲液的区域和一被处理为防水的区域，组合物的液滴接触该防水区域.
通过这种显示装置的制造方法，组合物的液滴接触梯形部分中被处理为亲液的区域；然后该液滴可从该梯形部分快速运动到电极的表面；从而可实现组合物的液滴优先在电极周围扩散。
而且，本发明用于显示装置的制造方法的特征在于：该梯形部分是由一被处理为亲液的第一梯形层和一被处理为防水的第二梯形层形成的，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据显示装置的这样的制造方法，被处理为亲液的第一梯形层覆盖电极的一部分；组合物在该第一梯形层上扩散的速度大于在电极上扩散的速度。因此，可以实现均匀的提供组合物。
一种用于根据本发明的显示装置的制造方法，其中在形成在一个基体上的多个电极中的每一个上都形成有功能层，在功能层之间具有梯形部分，该方法的特征在于包括以下步骤：梯形部分形成步骤，用于形成梯形部分从而覆盖电极的一部分；亲液步骤，用于将电极的至少一部分处理为亲液的；防水步骤，用于将梯形部分的一部分处理为防水；功能层形成步骤，用于通过从多个喷嘴中喷射组合物，在每个电极上形成至少一个功能层；和对向电极形成步骤，用于在功能层上形成对向电极。在功能层形成步骤中，当具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角方式在主扫描方向上扫描基体时，喷射向各功能层初始喷射的组合物液滴，从而至少接触梯形部分的一部分。
根据显示装置的这种制造方法，向各功能层喷射的初始组合物液滴至少接触该梯形部分的一部分，该液滴从梯形部分运动到电极表面。因此，可以实现优先均匀的向电极周围提供组合物液滴。因此，可以形成具有均匀厚度的功能层。
而且，根据本发明的显示装置的制造方法的特征在于该梯形部分是由在亲液步骤中被处理为亲液的一第一梯形层和在防水步骤中被处理为防水的一第二梯形层形成的，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据该显示装置的制造方法，被处理为亲液的第一梯形层覆盖电极的一部分；因此组合物在该第一梯形层上扩散的速度大于在电极上扩散的速度。因此可以均匀的提供组合物。
而且，根据本发明的显示装置的制造方法的特征在于：功能层至少包括一空穴注入/传输层。
而且，根据本发明的显示装置的制造方法的特征在于：该功能层至少包括一发光层。
根据该显示装置的制造方法，该功能层包括一空穴注入/传输层或一发光层；因此可以形成具有基本均匀厚度的空穴注入/传输层或发光层。
而且，在上述功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔应当小于液滴的直径。在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作可以只发生一次。
而且，在功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔应当大于液滴的直径.在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作应当为一次或两次以上.在执行多次扫描操作的情况中，喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作最好使用不同的喷嘴.
这里，对于使用不同喷嘴的方法，在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，喷嘴阵列能够在子扫描方向上位移。
根据该显示装置的制造方法，每次扫描操作应当使用喷嘴阵列中的不同喷嘴。这样，可以减小每个喷嘴的组合物喷射量的不均匀；这样，可以降低功能层厚度的不均匀。因此，可以制造出具有更好的显示质量的显示装置。
另外，本发明的显示装置的特征在于：它是按照根据本发明任何一个方面的显示装置的制造方法来制造的。
该显示装置是根据上述显示装置的制造方法来制造的；因此可以降低功能层的厚度中的不均匀并形成均匀的功能层。因此，可以提高显示装置的显示质量。
本发明的显示装置的制造方法的特征在于：在功能层之间具有一梯形部分；通过从多个喷嘴喷射组合物实现在各电极上形成功能层；以及一个具有用于驱动显视装置的驱动电路的电子装置，其中通过在多个电极周围形成一梯形部分而在电极上形成功能层，该多个电极形成在一个基体上。具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角方式在主扫描方向上对该基体进行扫描，对各功能层喷射初始的组合物液滴，使其至少接触梯形部分的一部分。
根据一电子装置的制造方法，向各功能层初始喷射的液滴至少接触梯形部分的一部分。这样，液滴将从梯形部分运动到电极表面，从而可以实现优先均匀的在电极周围提供组合物的液滴。因此，可能形成具有均匀厚度的功能层。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于：在梯形部分中形成一被处理为亲液的区域和一被处理为防水的区域，组合物液滴接触该防水区域。
根据一电子装置的制造方法，该组合物液滴接触被处理为防水的梯形部分的区域。因此，液滴可以快速从梯形部分运动到电极的表面。而且，可能实现使组合物液滴在电极周围优先快速的扩散。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法，特征在于梯形部分是由一被处理为亲液的第一梯形层和一被处理为防水的第二梯形层形成，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据该电子装置的制造方法，被处理为亲液的第一梯形部分覆盖电极的一部分，因此组合物在第一梯形层上扩散的速度大于在电极上的速度，因此可以均匀的提供组合物。
而且，一种显示装置的制造方法，其中功能层在形成在一个基体上的多个电极中的每一个上形成，在功能层之间设有梯形部分，和一具有用于驱动显示装置的驱动电路的电子装置，该方法的特征在于包括以下步骤：梯形部分形成步骤，用于形成梯形部分从而覆盖电极的一部分；亲液步骤，用于将电极的至少一部分处理为亲液的；防水步骤，用于将梯形部分的一部分处理为防水；功能层形成步骤，用于通过从多个喷嘴中喷射组合物，在每个电极上形成至少一个功能层；和对向电极(facing electrodes)形成步骤，用于在功能层上形成对向电极。在功能层形成步骤中，当具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角方式在主扫描方向上扫描基体时，向各功能层喷射初始的组合物液滴，从而使其至少接触梯形部分的一部分。
根据电子装置的这种制造方法，向各功能层喷射的初始组合物液滴至少接触该梯形部分的一部分，这样该液滴从梯形部分运动到电极表面.因此，可以实现优先均匀的向电极周围提供组合物液滴.因此，可以形成具有均匀厚度的功能层.
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于该梯形部分是由在亲液步骤中被处理为亲液的一第一梯形层和在防水步骤中被处理为防水的一第二梯形层形成的，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据该电子装置的制造方法，被处理为亲液的第一梯形层覆盖电极的一部分；因此组合物在该第一梯形层上扩散的速度大于在电极上扩散的速度。因此可以均匀的提供组合物。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于：功能层至少包括一空穴注入/传输层。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于：该功能层至少包括一发光层。
根据该电子装置的制造方法，该功能层包括一空穴注入/传输层或一发光层；因此可以形成具有基本均匀厚度的空穴注入/传输层或发光层。
而且，在上述功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔应当小于液滴的直径。在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作可以只执行一次。
而且，在功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔最好大于液滴的直径。在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作应当为一次或两次或更多。在执行多次扫描操作的情况中，喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作最好使用不同的喷嘴。
这里，对于使用不同喷嘴的方法，在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，喷嘴阵列能在子扫描方向上位移。
根据该电子装置的制造方法，每次扫描操作能使用喷嘴阵列中的不同喷嘴。这样，可以减小每个喷嘴的组合物喷射量的不均匀；这样，可以降低功能层厚度的不均匀。因此，可以制造出具有更好的显示质量的显示装置。
另外，本发明的电子装置的特征在于：它是按照根据本发明任何一个方面的电子装置的制造方法来制造的。
根据这种电子装置，可以降低各功能层的厚度的非均匀性，并形成均匀的功能层。因此，可以提高显示装置的显示质量。
为了实现上述目的，本发明使用了下面的结构。
用于根据本发明的显示装置的制造方法特征在于该显示装置的制造方法在功能层之间具有一个梯形部分，这些功能层通过在形成在一个基体上的多个电极周围形成一个梯形部分而形成在电极上，该方法通过从多个喷嘴喷射组合物而实现在每个电极上形成功能层，具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角线方式在主扫描方向上扫描该基体，并对各功能层喷射初始喷射的组合物液滴，从而使其至少接触该梯形部分的一部分。
根据这种显示装置的制造方法，对各功能层初始喷射的组合物液滴至少接触梯形部分的一部分，这些液滴从梯形部分运动到电极的表面；从而使组合物液滴优先均匀的提供到电极的周围。因此，可以形成基本具有均匀厚度的功能层。
而且，本发明用于显示装置的制造方法特征在于在梯形部分中形成一被处理为亲液的区域和一被处理为防水的区域，组合物的液滴接触该防水区域.
通过这种显示装置的制造方法，组合物的液滴接触梯形部分中被处理为亲液的区域；然后该液滴可从该梯形部分快速运动到电极的表面；从而可实现组合物的液滴优先在电极周围扩散。
而且，本发明用于显示装置的制造方法的特征在于：该梯形部分是由一被处理为亲液的第一梯形层和一被处理为防水的第二梯形层形成的，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据显示装置的这样的制造方法，被处理为亲液的第一梯形层覆盖电极的一部分；组合物在该第一梯形层上扩散的速度大于在电极上扩散的速度。因此，可以实现均匀的提供组合物。
一种用于根据本发明的显示装置的制造方法，其中在形成在一个基体上的多个电极中的每一个上都形成有功能层，在功能层之间具有梯形部分，该方法的特征在于包括以下步骤：梯形部分形成步骤，用于形成梯形部分从而覆盖电极的一部分；亲液步骤，用于将电极的至少一部分处理为亲液的；防水步骤，用于将梯形部分的一部分处理为防水；功能层形成步骤，用于通过从多个喷嘴中喷射组合物，在每个电极上形成至少一个功能层；和对向电极形成步骤，用于在功能层上形成对向电极。在功能层形成步骤中，当具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角方式在主扫描方向上扫描基体时，喷射向各功能层初始喷射的组合物液滴，从而至少接触梯形部分的一部分。
根据显示装置的这种制造方法，向各功能层喷射的初始组合物液滴至少接触该梯形部分的一部分，该液滴从梯形部分运动到电极表面。因此，可以实现优先均匀的向电极周围提供组合物液滴。因此，可以形成具有均匀厚度的功能层。
而且，根据本发明的显示装置的制造方法的特征在于该梯形部分是由在亲液步骤中被处理为亲液的一第一梯形层和在防水步骤中被处理为防水的一第二梯形层形成的，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据该显示装置的制造方法，被处理为亲液的第一梯形层覆盖电极的一部分；因此组合物在该第一梯形层上扩散的速度大于在电极上扩散的速度。因此可以均匀的提供组合物。
而且，根据本发明的显示装置的制造方法的特征在于：功能层至少包括一空穴注入/传输层。
而且，根据本发明的显示装置的制造方法的特征在于：该功能层至少包括一发光层。
根据该显示装置的制造方法，该功能层包括一空穴注入/传输层或一发光层；因此可以形成具有基本均匀厚度的空穴注入/传输层或发光层。
而且，在上述功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔应当小于液滴的直径。在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作可以只发生一次。
而且，在功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔应当大于液滴的直径.在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作应当为一次或两次以上.在执行多次扫描操作的情况中，喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作最好使用不同的喷嘴.
这里，对于使用不同喷嘴的方法，在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，喷嘴阵列能够在子扫描方向上位移。
根据该显示装置的制造方法，每次扫描操作应当使用喷嘴阵列中的不同喷嘴。这样，可以减小每个喷嘴的组合物喷射量的不均匀；这样，可以降低功能层厚度的不均匀。因此，可以制造出具有更好的显示质量的显示装置。
另外，本发明的显示装置的特征在于：它是按照根据本发明任何一个方面的显示装置的制造方法来制造的。
该显示装置是根据上述显示装置的制造方法来制造的；因此可以降低功能层的厚度中的不均匀并形成均匀的功能层。因此，可以提高显示装置的显示质量。
本发明的显示装置的制造方法的特征在于：在功能层之间具有一梯形部分；通过从多个喷嘴喷射组合物实现在各电极上形成功能层；以及一个具有用于驱动显视装置的驱动电路的电子装置，其中通过在多个电极周围形成一梯形部分而在电极上形成功能层，该多个电极形成在一个基体上。具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角方式在主扫描方向上对该基体进行扫描，对各功能层喷射初始的组合物液滴，使其至少接触梯形部分的一部分。
根据一电子装置的制造方法，向各功能层初始喷射的液滴至少接触梯形部分的一部分。这样，液滴将从梯形部分运动到电极表面，从而可以实现优先均匀的在电极周围提供组合物的液滴。因此，可能形成具有均匀厚度的功能层。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于：在梯形部分中形成一被处理为亲液的区域和一被处理为防水的区域，组合物液滴接触该防水区域。
根据一电子装置的制造方法，该组合物液滴接触被处理为防水的梯形部分的区域。因此，液滴可以快速从梯形部分运动到电极的表面。而且，可能实现使组合物液滴在电极周围优先快速的扩散。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法，特征在于梯形部分是由一被处理为亲液的第一梯形层和一被处理为防水的第二梯形层形成，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据该电子装置的制造方法，被处理为亲液的第一梯形部分覆盖电极的一部分，因此组合物在第一梯形层上扩散的速度大于在电极上的速度，因此可以均匀的提供组合物。
而且，一种显示装置的制造方法，其中功能层在形成在一个基体上的多个电极中的每一个上形成，在功能层之间设有梯形部分，和一具有用于驱动显示装置的驱动电路的电子装置，该方法的特征在于包括以下步骤：梯形部分形成步骤，用于形成梯形部分从而覆盖电极的一部分；亲液步骤，用于将电极的至少一部分处理为亲液的；防水步骤，用于将梯形部分的一部分处理为防水；功能层形成步骤，用于通过从多个喷嘴中喷射组合物，在每个电极上形成至少一个功能层；和对向电极(facing electrodes)形成步骤，用于在功能层上形成对向电极。在功能层形成步骤中，当具有多个喷嘴的喷嘴阵列以对角方式在主扫描方向上扫描基体时，向各功能层喷射初始的组合物液滴，从而使其至少接触梯形部分的一部分。
根据电子装置的这种制造方法，向各功能层喷射的初始组合物液滴至少接触该梯形部分的一部分，这样该液滴从梯形部分运动到电极表面.因此，可以实现优先均匀的向电极周围提供组合物液滴.因此，可以形成具有均匀厚度的功能层.
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于该梯形部分是由在亲液步骤中被处理为亲液的一第一梯形层和在防水步骤中被处理为防水的一第二梯形层形成的，该第一梯形层覆盖电极的一部分。
根据该电子装置的制造方法，被处理为亲液的第一梯形层覆盖电极的一部分；因此组合物在该第一梯形层上扩散的速度大于在电极上扩散的速度。因此可以均匀的提供组合物。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于：功能层至少包括一空穴注入/传输层。
而且，根据本发明的电子装置的制造方法的特征在于：该功能层至少包括一发光层。
根据该电子装置的制造方法，该功能层包括一空穴注入/传输层或一发光层；因此可以形成具有基本均匀厚度的空穴注入/传输层或发光层。
而且，在上述功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔应当小于液滴的直径。在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作可以只执行一次。
而且，在功能层形成步骤中，可通过多次喷射组合物液滴来形成各功能层，滴落该液滴的间隔最好大于液滴的直径。在这种情况下，上述喷嘴阵列对各功能层的扫描操作应当为一次或两次或更多。在执行多次扫描操作的情况中，喷嘴阵列对各功能层的每次扫描操作最好使用不同的喷嘴。
这里，对于使用不同喷嘴的方法，在喷嘴阵列对各功能层的各扫描操作中，喷嘴阵列能在子扫描方向上位移。
根据该电子装置的制造方法，每次扫描操作能使用喷嘴阵列中的不同喷嘴。这样，可以减小每个喷嘴的组合物喷射量的不均匀；这样，可以降低功能层厚度的不均匀。因此，可以制造出具有更好的显示质量的显示装置。
另外，本发明的电子装置的特征在于：它是按照根据本发明任何一个方面的电子装置的制造方法来制造的。
根据这种电子装置，可以降低各功能层的厚度的非均匀性，并形成均匀的功能层。因此，可以提高显示装置的显示质量。
附图说明
图1为根据本发明第一实施例的显示装置的布线结构的平面图；
图2A和2B示出根据本发明第一实施例的显示装置。图2A为一平面图，图2B为图2A中的线AB的截面图。
图3示出根据本发明第一实施例的显示装置的重要部分。
图4示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图5示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图6示出用于制造根据本发明第一实施例的显示装置的等离子处理装置的平面图。
图7示出图6所示的等离子处理装置中的第一等离子处理腔的内部结构。
图8示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图9示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图10示出用于制造根据本发明第一实施例的显示装置的等离子处理装置的其他例子的平面图。
图11示出用于制造本发明第一实施例的显示装置的头部(head)的平面图。
图12示出用于制造本发明第一实施例的显示装置的墨水喷射装置的平面图。
图13示出用于制造本发明第一实施例的显示装置的墨水喷射头的一个例子的透视图。
图14A和14B示出图13所示的墨水喷射头的内部结构。图14A为一透视图，图14B为图14A中线J-J的截面图。
图15示出面对基体的墨水喷射头的位置情况的平面图。
图16示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图
图17A-17C示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的视图。图17A为示出喷射初始液滴的情况的截面图。图17B为说明在喷射初始液滴后喷射的液滴的情况的其他例子的截面图。图17C为示出在第二次以后喷射液滴的情况的其他例子的截面图。
图18示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图19示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图20示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图21示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图22示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图23示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图24示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图25A-25C示出本发明第二实施例中的电子装置的透视图。
图26示出根据本发明其它实施例的显示装置的截面图。
图27示出根据本发明其它实施例的显示装置的截面图。
图28A-28C示出发光层的布置的平面图。图28A示出条纹布置。图28B示出镶嵌布置。图28C示出三角布置。
最佳实施例
第一实施例
下面参照附图说明根据本发明第一实施例的显示装置及其制造方法。在说明本实施例的显示装置制造方法之前，首先说明根据本发明制造方法制造出来的显示装置。
在图1中示出说明根据本实施例的显示装置中的布线结构的平面图。在图2A和2B中，示出一个平面图和一个截面部分，以说明本发明的显示装置。
如图1所示，在根据本发明的显示装置1中，具有多个扫描线101，多个与扫描线101正交延伸的信号线102，和多个与信号线102平行延伸的电源线103.而且，一个像素区域A位于扫描线101和信号线102的交叉点.一个数据驱动电路104与信号线102连接，该信号驱动电路具有一个移位寄存器、一个电平移动器、一个视频线、和一个模拟开关.一个扫描驱动电路105与扫描线101连接，该扫描驱动电路具有一个移位寄存器和一个电平移动器.
另外，在各像素区域A中还提供有：一个开关薄膜晶体管112，用于通过扫描线101向门电极提供扫描信号；一个保持电容cap，用于保持由信号线102通过开关薄膜晶体管112提供的像素信号；和一个驱动薄膜晶体管123，用于将保持在保持电容cap中的像素信号提供给门电极；一个像素电极(电极)111，当像素电极111通过电驱动薄膜晶体管123与电源线103连接时，从电源线103向该像素电极111流入驱动电流；和一个功能层110，它夹在像素电极111和阴极(对向电极)12之间。发光元件是由电极111、对向电极12和功能层110制成的。
通过这种结构，当驱动扫描线101并打开开关薄膜晶体管112后，信号线102中的临时电势被保持在保持电容cap中。驱动薄膜晶体管123的开/关状态是由保持电容cap的状态来决定的。电流从电源线103通过驱动薄膜晶体管123的沟道流到像素电极111，另外，电流通过功能层110流入阴极12中。功能层110根据流入的电流的量发光。
然后，如图2A和2B所示，根据本实施例的显示装置1具有一玻璃制成的透明基体2、一排列为矩阵形式的发光元件、和一密封基板。该形成在基体2上的发光元件是由下面将说明的像素电极、一功能层和一阴极12形成的。
该基体2是例如透明玻璃基板，它被分成为一显示区域2a和一非显示区域，该显示区域位于基体2的中央，该非显示区域位于显示区域的外侧、围绕基体2的周边。
该显示区域2a是由发光元件形成的，该发光元件为作为有效显示区域的矩阵的形式。非显示区域2b形成在显示区域的外侧。在非显示区域2b中形成紧邻显示区域2a的伪(dummy)显示器2d。
而且，如图2B所示，在发光元件部分11和基体2之间形成电路元件部分14，该发光元件部分11由发光元件和梯形部分形成。该电路元件部分14具有前述的扫描线、信号线、保持电容、开关薄膜晶体管、和驱动薄膜晶体管123。
而且，阴极12的一端与一阴极配线12a连接，该阴极配线12a形成在基体2上，一端部12b与一柔性基板5上的配线5a连接。而且，该配线5a与一驱动IC(驱动电路)6连接，该驱动IC位于柔性基板5上。
而且，如图2A和2B所示，电源线103(103R，103G，103B)位于电路元件14中的非显示区域2b中。
扫描驱动电路105、105位于图2A所示的显示区域2a的两端。该扫描驱动电路105和105位于伪(dummy)区域2d下面的电路元件部分14中。另外，在电路元件部分14中具有一电路驱动控制信号配线105a和一驱动电路电源线105b，该电路驱动控制信号配线105a与扫描驱动电路105和105连接。
另外，如图2A所示，在显示区域2a的上部区域上具有检查电路106。它可以在显示装置的制造过程对显示装置的质量进行检查以制造没有缺陷的成品。
而且，如图2B所示，在发光元件11上具有一密封部分3。该密封部分3由提供在基体2上的密封树脂603a和一罐状密封基板604形成。该密封树脂603为热凝固树脂或紫外线固化树脂。特别的，密封树脂603最好由环氧树脂形成，这种环氧树脂是一种热固化树脂。
该密封树脂603利用例如微扩散形成围绕基体2的环状配置。该密封树脂603使基体2与密封罐604粘接。该密封树脂604可防止水或氧气从基体2和罐密封基板604之间进入罐密封基板604内部。该密封树脂604还可以防止图中未示出的发光层或发光元件部分11被氧化，该发光层形成在阴极12中。
该罐密封基板604为玻璃或金属制成。该罐密封基板604通过密封树脂603与基体连接。在该罐密封基体604的内部形成用于容纳显示元件10的凹入部分604a。在凹入部分604a上粘接一用于吸收水和氧气的吸气部件605，从而吸收进入罐密封基板604中的水或氧气。这里，省略该吸气部件605也是可以的。
下面，图3是显示装置中显示区域的截面放大图。在图3中，示出三个像素区域A。在显示装置1的基板2上，电路元件部分14和发光元件部分11为不同的层，其中电路元件部分14上形成有电路例如TFT，发光元件部分11上形成有功能层110。
在显示装置1中，从功能层110向基体2发射的光传输通过电路元件部分14和基体2，从而在基体2的下面发射(向观看者)。而且，从功能层110向与基体2的相反方向发射的光由阴极12反射，并传输经过电路元件部分14和基体2，从而从基体2的下面传输出来(向观看者)。
这里，如果使用透明阴极12，则可能出现从阴极发射的光。对于这种透明部件，可以采用ITO、Pt、Ir、Ni或Pd。厚度最好为75nm。厚度越小越好。
在基板2上的电路元件部分14中形成由氧化硅层制成的基础保护层2c。在该基础保护层2c上形成由多晶硅制成的岛(island)半导体层141。这里，通过高密度P离子注入在半导体层141上形成一源区域141a和一漏区域141b。这里，没有引入P的区域为沟道区域141c。
另外，在电路元件区域14中形成一透明门绝缘层142，它覆盖基础保护层2c和半导体层141。在基础绝缘层142上形成由金属，例如Al、Mo、Ta、Ti和W制成的门电极143(扫描线101)。在门电极143和门绝缘层142上形成一透明第一内层绝缘层144a和一第二内层绝缘层144b。该门电极143位于对应于半导体层141中的沟道区域141c的位置。
而且，形成接触孔145和146，它们穿过第一和第二内层绝缘层114a和144b，并分别与半导体层141中的源区域和半导体141的漏区域连接。
通过制作图案操作，在第二内层绝缘层144b上形成具有预定形状的透明像素电极111，该电极由ITO等制成。一个接触孔145与像素电极111连接。
而且，接触孔146与电源线103连接。
这样，在电路元件部分14中形成一驱动薄膜晶体管123，该驱动薄膜晶体管123与各像素电极111连接。
这里，虽然在电路元件部分14中形成了前面已经说明的保持电容cap和开关薄膜晶体管112，但图3中并未示出他们。
下面，如图3所示，发光元件部分11主要是由功能层110、梯形部分112和阴极12形成，其中功能层110覆盖在多个像素电极111上，梯形部分112位于各像素电极和功能层110之间，从而分离各功能层110，阴极12(第二电极)形成在功能层110上。发光元件是由像素元件(第一元件)111、功能层110、和阴极(第二电极)形成的。
这里，像素电极111是由，例如金属，如ITO制成的.像素电极111通过制作图案操作形成为平面示图大体为矩形的形状.像素电极111的厚度最好在50-200nm之间，特别在150nm左右最佳.梯形部分112位于各像素电极111a和111之间.
如图3所示，梯形部分112是由一无机梯形层112a(第一梯形层)和一有机梯形层112b形成的，其中该无机梯形层112a离基体2较近，有机梯形层112b9离基体2更远。
形成该无机梯形层和有机梯形层(112a和112b)以覆盖像素电极111的周边。在平面示图中，像素电极111的周边与无机梯形层112a交叠。而且，该有机梯形层112b具有相同的结构；因此，梯形层112覆盖了像素电极111的一部分。而且，无机梯形层112a比有机梯形层112b形成在像素电极111的更中心的位置。这样，在像素电极111的内部形成各无机梯形层112a中的第一层部分112e。这样，安排一个较低的开口部分112c，从而对应于像素电极111的位置。
而且，在有机梯形层112b中形成一上部开口部分112d。该上部开口部分112d对应于像素电极111和下部开口部分112c的位置。如图3所示，使上部开口部份112d比较低开口部份112c大，并且比像素电极111狭窄。而且，存在这种情况，即上部开口部份112d的一较上部分的位置和像素电极111的一端基本相同。此时，如图3所示，有机梯形层112b中的上部开口部分112d的截面部分为对角线。
另外，通过贯通下部开口部份112c和上部开口部份112d，在梯形部分112中形成穿过无机梯形层112a和有机梯形层112b的开口部份112。
而且，无机梯形层112a最好是无机材料，例如SiO2或TiO2。无机梯形层112a的厚度最好在50-200nm之间，最佳为150nm。如果厚度小于50nm，则无机梯形层的厚度将小于上述的空穴注入/传输层；因而，由于不可能实现空穴注入/传输层的平坦，因此不是优选的。而且，如果无机梯形层112a厚度大于200nm，则由下部开口部份112c形成的间隙将更大；这样不可能实现下面将说明的覆盖在空穴注入/传输层上的发光层的平坦。因此，也不是最好的。
另外，有机梯形层112b是由绝热和不易溶解的抗蚀剂，例如丙烯树脂、聚酰亚胺树脂制成。有机梯形层112b的厚度最好在0.1-3.5um的范围内，最佳为2um左右。如果厚度小于0.1um，则有机梯形层112b将变得比上述的空穴注入/传输层和发光层的总厚度要小；这样，考虑到发光层溢出上部开口部分112d，因此不是优选。而且，如果厚度大于3.5um，则由上部开口部份112d形成的缝隙将变得更大；这样，由于在有机梯形层112b上的阴极12不能产生阶段有效区(step coverage)，因此也不是优选。而且如果有机梯形层112b厚度大于2um，则由于可能提高驱动薄膜晶体管123的绝缘性，因此是可以的。
而且，在梯形部分112中形成呈现亲液特性的区域和呈现防水特性的区域。
呈现亲液特性的区域为无机梯形层112a中的第一层部分112e和像素电极111的表面111a。通过利用一种处理气体，例如氧气执行等离子处理操作，可以将这些区域的表面处理为亲液性。表现出防水特性的区域为上部开口部分112d的侧壁表面和有机梯形层112的上部表面112f。通过利用一种处理气体，例如四氟代甲烷(tetrafluoromethane)(防水)执行等离子处理操作，可以处理这些区域的表面。
下面，如图3所示，利用覆盖在像素电极111上的空穴注入/传输层110a和覆盖在空穴注入/传输层110a上的发光层110b形成功能层110。这里，也可进一步在发光层110b的上面形成具有例如电子注入传输层的功能的其它功能层。
空穴注入/传输层110a具有将空穴注入发光层110b并传输空穴注入/传输层110a中的空穴的功能。通过将这种空穴注入/传输层110a置于像素电极111和发光层110b之间，可以使发光层110b的性能，例如发光效率和寿命更佳。而且，从空穴注入/传输层110a注入的空穴和从阴极12注入的电子在发光层110b中再次结合；从而实现发光功能。
空穴注入/传输层110a是由在像素电极表面111a上的下部开口部分112c中形成的平坦部分110a1和在无机梯形层的第一层部分112e上的上部开口部分112d中形成的周边部分110a2形成的。而且，该空穴注入/传输层110a只在像素电极111上的无机梯形层110a(下部开口部分110c)之间形成；因此，这种配置是由它的结构决定的，空穴注入/传输层110a可以只形成在所述平坦部分上。
平坦部分110a1的厚度为常数，例如50-70n之间。
当形成周边部分110a2时，周边部分110a2位于第一层部分112e上，并与上部开口部分112d的侧壁表面，例如有机梯形层112b紧密接触。而且，周边部分110a2的厚度在电极表面111a附近很薄，并且在远离电极表面111a的方向上增加。周边部分11a2的厚度在下部开口部分112d的侧壁表面附近最厚。
该周边部分110a2具有不同的形状，这是因为空穴注入/传输层110a是通过将包括空穴注入/传输层形成材料和极化溶液的第一组合物注入开口部分112中，并去除极化溶液来形成的，而该极化溶液主要是蒸发在无机梯形层上的第一层部分112e上；因此空穴注入/传输层形成材料在第一层部分112e上浓缩并一起被提取出来。
而且，发光层110b在空穴注入/传输层110a的平坦部分110a1和周边部分110a2上形成。在平坦部分112a1上的发光层110b的厚度在50-80nm之间。
发光层具有三种色彩，例如用于发出红光(R)的红色发光层110b1，用于发出绿光(G)的绿色发光层110b2，和用于发出蓝光(B)的蓝光发光层110b3。发光层110b1-110b3是以条纹的形式排列的。
如上所述，空穴注入/传输层110a的周边部分110a2与上部开口部分112d的侧壁表面(有机梯形层112b)紧密接触；因此，发光层110b不会直接与有机梯形层112b接触。因此，可以防止有机梯形层112b中包含的杂质如水等通过外围部分112a2渗透入发光层；因此，可能防止发光层110b被氧化。
而且，具有非均匀厚度的周边部分110a2是在无机梯形层中的第一层部分112e上形成的。因此，周边部分110a2通过第一层部分112e与像素电极111绝缘。因此，空穴不会从周边部分110a2进入发光层110b。这样，从像素电极111流出的电流只流入平坦部分112a1中；因此，可以均匀地将空穴从平坦部分112a1传输到发光层110b。因此，可以实现只在发光层110b的中央区域发光，并均衡发光层110b中的发光量。
而且，无机梯形层112a通过无机梯形层112b使像素电极111更向内延伸。因此，可以通过无机梯形层112a实现对像素电极111和平坦部分110a1的连接部分的形状的修整；因此可以降低发光层110b之间的发光密度的非均匀性。
另外，像素电极111的表面111a和无机梯形层的第一层部分112e表现出亲液特性，因此功能层110紧密并均匀地与像素电极111和无机梯形层112a接触.因此，功能层110在无机梯形层112a上不会变得非常薄；因此可以防止像素电极111和阴极12之间发生短路.
而且，有机梯形层112b的上表面和上部开口部分112d的侧壁表面表现出防水特性，因此功能层110和有机梯形层112b之间的接触降低；因此不存在形成功能层从而使功能层110溢出开口部分112g的情况。
对于用于形成空穴注入/传输层的材料，可以使用例如聚噻吩衍生物，例如聚乙烯二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸的混合物。对于形成发光层110b的材料，可以使用聚芴衍生物，例如化合物1-5，或(聚)对-苯亚乙烯基衍生物，聚苯衍生物，聚芴衍生物，聚乙烯基咔唑，聚噻吩衍生物。而且，可以通过掺入例如二萘嵌苯染料，香豆素染料，玫瑰精染料，红荧烯，二萘嵌苯，9，10-二苯基蒽(diphenylanthracene)，四苯丁二烯，尼罗红(Nile-red)，香豆素6，喹吖(二)酮来使用上述的聚合体材料。
化合物1
化合物2
化合物3
化合物4
化合物5
然后，在发光元件11的整个表面上形成阴极12.阴极12与像素电极111耦合，从而使电流流到功能层110.电极12可通过将一钙层和一铝层层叠而形成.此时，最好将具有低功函数的该层或铝层置于阴极上，该阴极位于发光层附近.特别的，在本实施例中，阴极12用于通过直接接触发光层110b将电子注入发光层110b中.而且，在氟化锂中，在发光层110和阴极12之间可以形成一LiF，从而有效发光.
这里，红色发光层110b1和红色发光层110b2并不局限于氟化锂，还可以使用其他材料。因此，在这种情况下，由氟化锂制成的层只在蓝色(B)发光层110b3中形成，其他材料在红色发光层110b1和绿色发光层110b2中形成层。而且，只有钙而不是氟化锂可以形成在红色发光层110b1和绿色发光层110b2上。
这里，氟化锂的厚度最好在2-5nm的范围内，特别是2nm左右。而且，钙的厚度最好在2-50nm的范围内，特别是20nm左右。
而且，形成阴极12的铝将发光层110b发射的光射向基体2；因此，用于形成阴极12的铝最好是由Al层、Ag层和Al和Ag的层叠结构制成。而且，该厚度最好是在100-1000nm的范围内，特别是200nm左右。
另外，由金属制成的保护层，例如SiO、SiO2、SiN可以位于铝层上以防止氧化。
这里，密封罐604位于所形成的发光材料上。如图2B所示，该密封罐604通过一密封树脂603结合，从而形成显示装置1。
下面，将参照附图说明本发明实施例的显示装置的制造方法。
根据本实施例的显示装置1的制造方法包括以下步骤：(1)梯形部分形成处理，(2)等离子处理(包括亲液处理和防水处理)，(3)空穴注入/传输形成处理(功能层形成处理)，(4)发光层形成处理(功能层形成处理)，(5)面对对向电极形成处理和(6)密封处理。这里，本实施例中的制造处理并不局限于上述方法。根据需要还可以增减其它处理。
(1)梯形形成处理
在梯形形成处理中，在基体上的预定位置上形成一梯形部分112。该梯形部分112是由作为第一梯形层的无机梯形层112a和作为第二梯形层的有机梯形层112b形成的。
形成方法如下所述。
(1)-1形成无机梯形层
首先，如图4所示，在基体上的预定位置形成一无机梯形层112a。该无机梯形层112形成在一第二内层绝缘层114b和一电极(像素电极)111上。这里，在一电路元件部分14上形成第二内层绝缘层144b，该电路元件部分14上形成有一薄膜晶体管、一扫描线和一信号线。
对于无机梯形层112a，例如，可以使用SiO2或TiO2等无机层。这些部件可通过CVD方法、镀层方法、溅射方法或真空沉积方法来形成。
另外，无机梯形层112a的厚度最好是在50-200nm的范围内，特别是150nm。
该具有一开口部分的无机梯形层112是这样形成的，即在内层绝缘层114和像素电极111的整个表面上形成一无机层，并利用光刻方法等对该无机层执行制作图案操作。该开口部分对应于像素电极111的表面111a的位置。如图4所示，该开口部分设置为一下部开口部分112c。
在这种情况下，形成该无机梯形层112a，从而与像素电极111的周边部分(一部分)重叠.如图4所示，通过形成无机梯形层112a，并使该无机梯形层112a覆盖像素电极111的一部分，从而可以控制发光层110中的发光区域.
(1)-2形成有机梯形层112b
然后，形成作为第二梯形层的一有机梯形层112b。
如图5所示，在一无机梯形层112a上形成一无机梯形层112b。对于有机梯形层112b，可以使用具有绝热和防水的材料，例如丙烯酸(类)树脂或聚酰亚胺树脂。通过利用这些材料执行制作图案操作来形成有机梯形层112b。这里，在制作图案操作中，在有机梯形层112b中形成一上部开口部分112d。该上部开口部分112d的位置对应于像素电极的表面111a和下部开口部分112c。
如图5所示，该上部开口部分112最好比下部开口部分112c大，该下部开口部分112c在无机梯形层112a中形成。另外，有机梯形层112b的形状最好为锥形。有机梯形层的开口部分最好比像素电极111的宽度窄。而且，有机梯形层的开口部分的宽度最好近似于有机梯形层112b的最上部表面上的像素电极111的宽度。这样，围绕无机梯形层112a上的下部开口部分112c的第一层部分112e将在像素电极111中比有机梯形层112b更向中心延伸。
通过这种方法将有机梯形层112b上形成的上部开口部分112d和无机梯形层112a中形成的下部开口部分112c贯通，形成贯通无机梯形层112a和有机梯形层112b的开口部分112g。
这里，有机梯形层112b的厚度最好在0.1-3.5um的范围内，特别是2um左右。下面说明为什么这个范围是最好的。
那就是，如果该厚度小于0.1um，则有机梯形层112b的厚度小于空穴注入/传输层的总厚度；从而出现发光层110b溢出上部开口部分112d的情况，因此不是最好的。如果厚度大于3.5um，则由上部开口部分112d导致的缝隙将变得更大，则在上部开口部分112d中不可能获得阴极12的阶段覆盖；因此也不是最好的。如果有机梯形层112b的厚度大于2um，则可能提高阴极12和驱动薄膜晶体管123之间的绝缘性；因此是最佳的。
(2)等离子处理操作
然后，为了激活像素电极111的表面并对梯形部分112执行表面处理，将执行等离子处理操作。特别是，在激活操作中的目的是清洁像素电极111(ITO)并调节操作功能(operating function)。另外，该激活操作对像素电极111的表面执行亲液操作(亲液处理)并对梯形部分112的表面执行防水操作(防水处理)。
该等离子处理操作可分为例如以下几类：(2)-1预热处理，(2)-2激活处理(亲液处理)，(2)-3防水处理(亲液处理)，和(2)-4冷却处理。这里，等离子处理操作并不局限于这几类，还可以根据需要省略或加入其它操作。
首先，图6示出了用于执行等离子处理操作的等离子处理装置。图6所示的等离子处理装置50包括一预热腔51，一第一等离子处理腔52，一第二等离子处理腔53，一冷却处理腔54和一用于将基体2装卸到这些腔51-54的装卸装置。这些腔51-54以放射状方式围绕该装卸装置55放置。
下面利用这些装置来说明总操作处理。
在图6所示的预热处理腔51中执行预热处理。基体2中在经过梯形部分形成处理之后，在预热处理腔51中以预定温度进行加热。
在经过预热处理之后执行亲液处理和防水处理。即，将基体顺序转移到第一等离子处理腔52和第二等离子处理腔53中。在各腔中对梯形部分112执行等离子处理操作，使其亲液。在亲液处理后执行防水处理。在防水处理后将该基体转移到冷却处理腔中，在该冷却处理腔54中，将该基体冷却到室温。在冷却处理操作后，由装卸装置将该基体转移到下一处理，从而执行空穴注入/传输层形成处理。
下面将详细说明每个处理。
(2)-1预热处理
预热处理是在预热处理腔51中执行的。包括梯形部分112b的基体2在该预热处理腔51中被加热到预定温度。
预热处理腔51中的一加热器对该基体2进行加热，该加热器附着在一用于将基体安装在其上的平台上，从而加热该基体2和该平台。还可以采用其它加热方法。
在预热处理腔51中，在例如70℃-80℃的温度范围内加热该基体2。在下面的处理，例如等离子处理操作中也使用该温度。采用这个温度的目的是加热该基体2，从而对应下面处理的条件，并降低基体2的温度的不均衡。
如果没有预热处理，则该基体2在上述的温度中加热。在这种条件下，从开始到结束，在温度不断变化的同时，对该基体2执行等离子处理操作。在基体的温度不断变化的条件下，当执行等离子处理操作时，有机EL元件的特性将可能变得不均匀。因此，执行预加热处理，从而保持处理条件为恒定，并实现均匀的特性。
这里，当在基体2在等离子处理操作中安装在第一等离子处理装置52和第二等离子处理装置53中的样本平台的条件下，执行亲液处理和防水处理时，预热处理温度最好近似于执行亲液处理和防水处理的样本平台56的温度。
这里，在例如70℃-80℃的温度范围内对该基体2执行预加热，第一等离子处理装置52和第二等离子处理装置53的样本平台的温度将增加到该温度。因此，即使连续在很多基体上执行等离子处理操作，该等离子处理条件在等离子处理操作之前和之后也近似相同。这样，可以保持基体2的表面处理的条件，因此可以均衡梯形部分112对组合物的吸湿性。因此，可能制造具有恒定质量的显示装置。
而且，通过预先执行预热，可能缩短在下面执行的等离子处理操作中处理的时间。
(2)-2激活处理(亲液处理)
在该第一等离子处理腔52中执行激活处理。该激活处理包括例如调节和控制像素电极111中的功函数，清洁像素电极的表面，和对像素电极的表面执行亲液处理等处理。
在亲液处理中，等离子处理(O2等离子处理)利用氧气作为大气中的处理气体。在图7中，示出了等离子处理操作。如图7所示，包括梯形部分112的基体2安装在内部具有加热器的样本平台56上。该等离子放电电极57位于基体2的上表面上，从而面对该基体2并保持例如0.5-2mm的间隙距离。该基体2由样本平台56加热。同时，以预定速度，并按照图7所示的方向运送样本平台56。在该期间内，等离子状态的氧气被发射到基体2。
对于O2等离子处理，可以选用例如100-800kW的等离子电源，50-100ml/min的氧气气流，0.5-10mm/sec的板运送速度，70-90℃的基体温度这样的条件。样本平台56执行加热操作，从而将基体中的温度基本保持在预热处理执行的温度。
通过O2等离子处理，如图8所示，可以对像素电极111的表面111a、无机梯形层112a中的第一层部分112e、有机梯形层112b中的上部开口部分112d的侧壁表面和上部表面112f执行亲液处理.通过亲液处理，将羟基引入到各表面，从而实现亲液特性.
在图9中，虚线表示执行亲液处理的区域。
这里，O2等离子处理不仅给出亲液特性，还清洁了像素电极，例如ITO，并适当的调节了功函数。
(2)-3防水处理(防水操作)
然后，在第二等离子处理腔53中，在大气环境中利用处理气体如四氟代甲烷执行作为防水处理的等离子处理(CF4等离子处理)。该第二等离子处理腔53的内部结构与图7所示的第一等离子处理腔52的结构相似。即，基体2由样本平台加热，且在此期间，基体2和样本平台以相同速度被运送。在该期间内，将等离子状态下的四氟代甲烷射到基体2。
可以在例如100-800kW的等离子电源，50-100ml/min的氟代甲烷气流，0.5-10mm/sec的基体运送速度，70-90℃的基体温度这样的条件下来执行CF4等离子处理。与第一等离子处理腔52的情况相似，该加热平台为了将基体的温度保持到执行预热处理的温度，而对基体2加热。
这里，处理气体并不局限于四氟代甲烷。还可以选择其它碳氟化合物气体作为处理气体。
通过执行CF4等离子处理，如图9所示，对有机梯形层的上部开口部分112d的侧壁表面和上表面112f执行亲液处理。通过该亲液处理，将氟基引入到了各表面中；因此具有了防水特性。在图9中，表示防水特性的区域是由两点虚线来表示的。通过发射等离子状态的碳氟化合物，可以对有机部件，例如形成有机梯形层112b的丙烯酸(类)树脂和聚酰亚胺树脂执行亲液处理。这是通过执行O2等离子处理，氟材料可以更容易的在这些有机部件上形成的重要特征。该特征在本实施例中特别有效。
这里，像素电极111的表面111a和无机梯形层112a的第一层部分112e都受到CF4等离子处理的影响。但是，吸水性并没有被影响。在图9中，表现出亲液特性的区域是由一点的虚线表示的。
(2)-4冷却处理
在冷却处理中，利用冷却处理腔54将在等离子处理中被加热的基体2冷却到一操作温度。执行该处理从而将该基体2冷却到在下面将执行的墨水喷射处理(功能层形成处理)中使用的操作温度。
该冷却处理腔54具有一个放置基体2的板。在该板中内置一个水冷装置，以冷却该基体2。
而且，通过在等离子处理后将基体冷却到预定温度的室温(例如，执行墨水喷射处理的操作温度)，基体2中的温度在下面的处理，例如空穴注入/传输形成处理中变得恒定；这样，可以在基体2的温度不波动的情况下执行下面的操作。通过安排该冷却处理，可能形成一个部件，它是根据墨水喷射方法均匀的从一喷射装置中喷射出来的。
例如，当包括用于形成空穴注入/传输的部件的一第一组合物被喷射时，可以以均匀的容量连续的喷射该第一组合物；因此可以形成均匀的空穴注入/传输层。
在上述等离子处理中，对由不同部件制成的有机梯形层112b和无机梯形层112a执行O2等离子处理和CFC4等离子处理，从而可能很容易的在梯形部分112上布置亲液区域和防水区域.
这里，在等离子处理中使用的等离子处理装置并不局限于图6所示的装置。例如，可以使用图10所示的等离子处理装置60。
图10所示的等离子处理装置包括一预热处理腔61，一第一等离子处理腔62，一第二等离子处理腔63，一冷却处理腔64和一用于将基体2运送到这些腔61-64的运送装置65。这些腔61-64置于该运送装置65的两侧(图中箭头的两侧)。
与图6所示的等离子处理装置50的情况相似，在等离子处理装置60中，经过梯形部分形成处理后而传输来的基体2被传送到预热处理腔61中，顺序执行第一等离子处理腔62、第二等离子处理腔63和冷却处理腔64，从而执行与上述相同的处理。然后，传送该基体2进行下一处理，例如空穴注入/传输层形成处理。
而且，对于上述的等离子处理装置，可以使用在真空条件下工作的装置来代替在大气压条件下工作的装置。
(3)空穴注入/传输层形成处理(功能层形成处理)
然后在发光层形成处理中，在电极(这里指像素电极111)上形成空穴注入/传输层。
在空穴注入/传输层形成处理中，通过使用液滴喷射装置，例如墨水喷射装置在像素电极的表面111a上喷射一第一组合物(组合物)，该第一组合物包括空穴注入/传输层形成材料。然后，执行烘干处理和热处理，从而在像素电极111和无机梯形层112a上形成空穴注入/传输层110a。这里，无机梯形层112a被称为第一层部分112e，在该无机梯形层112a上形成有空穴注入/传输层110a。
包括空穴注入/传输层形成处理的后面的处理最好在没有水分和氧气的环境中进行。例如，在氮气或氩气环境中最好。
这里，存在空穴注入/传输层110a不在第一层部分112e上形成的情况。即，空穴注入/传输层只在像素电极111上形成。
下面说明根据该墨水喷射方法的制造方法。
作为在本实施例的显示装置的制造方法中使用的墨水喷射头，可以采用图11所示的头H。如图11所示，头H主要包括多个墨水喷射头H1和一个用于支撑这些墨水喷射头H1的支撑基础板H7。
另外，该基体和头H的位置最好如图12所示。
在图12所示的墨水喷射装置中，附图标记1115表示用于在上面安装一基体2的平台。附图标记1116表示用于在图中的X轴方向(主扫描方向)引导该平台1115的导轨。而且，头H可以利用导轨1113通过支撑部件1111在y轴方向(子扫描方向)移动。另外，头H可以在θ轴方向旋转，从而使墨水喷射头H1在预定角度范围内向主扫描方向倾斜。
在图12所示的基体2中，在母底板上具有多个芯片.即，一个芯片所需的面积等于一个显示装置的面积.这里，形成三个显示区域，但本发明并不局限于这种配置.例如，当向图中基体2的左手区域中的显示区域2a提供组合物时，头H通过导轨1113移动到图中的左手区域.同时，基体2通过导轨1116向图中的上部方向移动.在此期间，在基体2被扫描的同时，提供该组合物.然后，基体2向图中的右手方向移动，从而向基体的中央内的显示区域2a提供组合物.与上述情况相似，向位于图中右手区域内的显示区域2a提供组合物.
这里，图12所示的头H和图15中所示的墨水喷射装置不仅可用于空穴注入/传输层形成处理中，还可用于发光层形成处理中。
图13是从喷射墨水的区域附近观看到的墨水喷射头H1的透视图。如图13所示，在墨水喷射头H1的墨水喷射表面(面向基体的表面)上，以在该头的纵向方向上和在头的宽度方向上具有间隔的阵列形式设置多个喷嘴n1。通过在一个阵列中布置多个喷嘴H2形成两个喷头阵列N2。在一个喷嘴阵列n2中包括有180个喷嘴n1，因此，在一个墨水喷射头H1中具有360个喷嘴。而且，喷嘴n1中的孔的直径为例如28um。喷嘴n1之间的间隔为，例如141um。
该喷墨头H1具有图14A和14B中所示的内部结构。更特别的，该墨水喷射头H1具有，例如一个由不锈钢制成的喷嘴板229，一个面对喷嘴板229的振动板231，和一个用于将该喷嘴板229和振动板231的隔开的隔离部件232。通过该隔离部件232，在喷嘴板229和振动板231之间形成多个组合物腔233和液体保存腔234。多个组合物腔233和液体保存腔234彼此之间通过路径238相通。
在振动板231上的适当位置形成组合物供应孔236。一组合物供应装置237与组合物供应孔236连接。该组合物供应装置237向组合物供应孔236提供第一组合物，该第一组合物包括空穴注入/传输层形成材料。所供应的第一组合物被注入液体保存腔234中。所供应的第一组合物通过路径238传输，从而注入组合物腔233中。
喷嘴n1位于喷嘴板229中，从而在喷射条件下从组合物腔233中喷射出第一组合物。而且，一组合物压缩部件239位于背表面上，并对应于组合物腔233，该被表面上形成有振动板231的组合物腔233。如图14B所示，该组合物压缩部件239具有一压电元件241和一对夹着该压电元件241的电极242a和242b。流到电极242a和242b的电流使该压电元件241变形，从而向外侧推出，如图中箭头C所示；因此组合物腔233的容积增加。随后，具有与该增加的容积相同容量的第一组合物通过路径238从液体保存腔234流入该组合物腔233。
然后，当流到压电元件241中的电流被切断时，该压电元件241和振动板231的形状恢复到初始形状。这样，该组合物腔233的形状恢复到初始形状。因此，处于该组合物腔233内部的第一组合物的压力增加，因此该第一组合物以液滴110c的形式从喷嘴n1向基体2喷射出来。
图15示出扫描到基体2的墨水喷射头H1。如图15所示，该墨水喷射头H1在沿图中X轴方向相对运动的同时喷射第一组合物。在此期间，喷嘴阵列n2的配置方向Z向主扫描方向(沿X轴方向的方向)倾斜。墨水喷射头H1中的喷嘴阵列n2位于相对于主扫描方向倾斜的位置。因此，可能配置喷嘴间距，并使其对应于像素区域A中的间距。而且，可能通过调节该倾斜角度来对应于像素区域A中的不同间距。
如图16所示，从在墨水喷射头H1中的多个喷嘴n1中喷射第一组合物，该第一组合物包括空穴注入/传输层形成材料。这里，通过扫描墨水喷射头H1来对各像素区域A进行补充该第一组合物。这种操作可通过扫描基体2来实现。另外，该第一组合物可通过相对移动墨水喷射头H1和基体2来进行补充。这里，在以后的使用墨水喷射头的处理中，按照与上述相同的方式执行。
墨水喷射头的喷射操作是这样执行的。即，在墨水喷射头H1中形成的一个喷射嘴H2的位置对着电极表面111a，且从喷嘴H2中喷射出该第一组合物。分开该开口部分112g的梯形112在像素电极111的周围形成。该墨水喷射头H1面对着开口部分112g。通过使墨水喷射头H1和基体2相对运动，实现将第一组合物液滴110c从喷射嘴H2喷射到图3所示的开口部分112g中，其中每滴液滴的量都是可控制的。喷射到开口部分112g中的液滴可为6滴到20滴。这个范围取决于像素的面积，因此液滴可以超出上述的范围。
这里，如图16和17A所示，喷射一初始液滴110c1，从而使其接触在有机梯形层112b中倾斜的侧壁表面112h，其中该初始液滴被喷射到一开口部分112g中。有机梯形层112b中的侧壁表面112h已在前面的防水处理中被处理为防水，因此，喷射的液滴110c1接触到侧壁表面112h并立刻被排斥。该液滴110c1在该侧壁112h上移动，从而落在第一层部分112e上。该第一层部分112e被处理为亲液，因此落下的初始液滴110c1应该在第一层部分112e上扩散。这里，该初始液滴110c1应当至少接触有机梯形层112b中的侧壁表面112h的一部分。而且，该被喷射的初始液滴110c1将同时与有机梯形层112f的侧壁表面112h和上表面112f接触。
然后，如图17B所示，在喷射液滴110c1后，间隔喷射液滴110c2，从而使它不会覆盖在前面的液滴110c1上。即，用于滴落液滴110c1和110c2的间隔D最好大于液滴的直径(D＞d)。因此，在这种情况下，在一个扫描操作中可喷射的液滴是有限的。因此，墨水喷射头H1最好多次扫描一个像素区域，从而形成具有足够厚度的空穴注入/传输层。
另外，当每次多次执行该墨水喷射头H1的扫描操作时，最好通过使墨水喷射头H1在垂直于主扫描方向的子扫描方向上稍微进行位移，利用其它喷嘴n1而不是由一个特定喷嘴n1来执行该喷射操作。因此，可能通过由多个喷嘴对一个像素区域A执行喷射操作，来实现误差扩散的效果，这样喷嘴中液滴量的误差将分散。因此，可以实现均匀厚度的空穴注入/传输层。
而且，如图17C所示，液滴110c2可以以这样一个间隔来喷射，即在初始液滴被喷射后，液滴110c2将覆盖初始液滴110c1。即，初始液滴110c1和液滴110c2之间的间隔D小于每个液滴的直径(D＜d)。因此，在这种情况下，在一个扫描操作中喷射的液滴是没有限制；因此，为了形成具有足够厚度的空穴注入/传输层，墨水喷射头H1可对一个像素区域A执行一次或多次扫描操作。在墨水喷射头H1执行多次扫描操作的情况下，与上次的情况相似，墨水喷射头H1在每次扫描操作时，在子扫描方向上进行位移，利用其它喷嘴n1而不是一个特定的喷嘴n1执行喷射操作。在利用多个喷嘴执行对像素区域A的喷射操作的情况下，由于与上面情况相似的误差扩散效应，在每个像素区域A上可以实现具有均匀厚度的空穴注入/传输层。
特别的，在墨水喷射头H1对一个像素区域A执行两次扫描操作的情况下，第一扫描方向和第二扫描方向是相反的。而且，第一扫描方向和第二扫描方向也可以相同。
在第一扫描方向和第二扫描方向相反的情况下，在第一扫描操作中在像素区域A的一半面积中喷射该第一组合物，在第二扫描操作中，在剩下的面积中喷射该第一组合物。而且，也可以执行第二扫描操作，从而覆盖在第一扫描操作中形成的区域。
另外，在第一扫描方向和第二扫描方向相同的情况下，在第一扫描操作中执行喷射操作，从而形成一个间隔使液滴不会彼此覆盖，然后在第二扫描操作中执行喷射操作，从而覆盖在前次喷射操作中留下的空白.当然，可以执行喷射操作从而将一个像素区域分为两个区域.
对于这里使用的第一组合物，例如将聚噻吩衍生物，例如聚乙烯二氧噻吩(PEDOT)和聚苯乙烯磺酸(PSS)的混合物溶解在极性溶剂中而形成的组合物。对于极性溶剂，可以选用例如异丙醇(IPA)、n-丁醇、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮(DMI)和它的衍生物、乙二醇酯例如卡必醇醋酸酯、和丁基卡必醇醋酸酯。
对于第一组合物的特别结构，可以采用例如PEDOT/PSS混合物(PEDOT/PSS＝1∶20)：12.52重量％，PSS：1.44重量％，IPA：10重量％，NMP：27.48重量％，DMI：50重量％的条件。这里第一组合物的粘性最好为2-20Ps，特别是15cPs。
通过使用上述的第一组合物，可以在不闭合喷射嘴H2的情况下稳定的执行喷射操作。
这里，可以使用用于空穴注入/传输层形成材料的通用材料来形成红(R)、绿(G)、蓝(B)色的发光层110b1-110b3。而且，也可以使用用于空穴注入/传输层形成材料的不同材料。
如图16所示，喷射的第一组合物的液滴110c最终在执行了亲液处理的电极表面111a和第一层部分112e上扩散，从而在下部开口部分112c和上部开口部分112d中进行补充喷射的第一组合物的液滴110c。如果第一组合物的液滴110c被喷射到上表面112f上，则第一组合物液体110c不会在上表面112f上扩散，其中该上表面是预定喷射位置的外侧；该被排斥的第一组合物液滴110c转移到下部开口部分112c和上部开口部分112d中。
喷射到电极表面111a上的第一组合物的总量是由例如下部开口部分112c的尺寸、上部开口部分112d的尺寸、空穴注入/传输层的厚度和空穴注入/传输层中第一组合物的密度等因素决定的。
然后，如图18所示，执行烘干处理。在烘干处理中，将喷射的第一组合物烘干，包含在该第一组合物中的极性溶剂蒸发，从而形成空穴注入/传输层110a。
在烘干处理中，包含在化合成液体110c中的极性溶剂在无机梯形层112a和有机梯形层112b附近蒸发。随着极性溶剂的蒸发，该空穴注入/传输层浓缩并析取出来。
因此，如图18所示，在第一层部分112e上形成由空穴注入/传输层制成的周边部分110a2。该周边部分110a紧密的附着在上部开口部分112d中的侧壁表面(有机梯形层112b)上。该周边部分110a2的厚度在电极表面111a附近很薄，在远离电极表面111a的有机梯形层112b附近很厚。
而且，同时，在烘干处理中，极性溶剂在电极表面111a上蒸发。因此，在电极表面111a上形成由空穴注入/传输层形成材料制成的平坦部分110a1。该极性溶剂在电极表面111a上的蒸发速度基本上是均匀的。因此，空穴注入/传输层1形成材料在电极表面111a上均匀的沉淀。这样，形成具有均匀厚度的平坦部分110a。
这样，形成由周边部分110a2和平坦部分110a1制成的空穴注入/传输层110a。
这里，空穴注入/传输层不仅可以在周边部分110a2上形成，也可在电极表面111a上形成。
上述的烘干处理是在例如室温下、压力为133.3Pa(1Torr)的氮气环境中执行的.如果压力太低，则由于第一组合物液滴沸腾，不是优选的.如果温度高于室温，则极性溶剂的蒸发速度变快，因此不可能形成平坦层.
在烘干处理后，最好在氮气环境或真空条件下，以200℃的温度进行10分钟左右的加热空穴注入/传输层110a，从而去除保存在空穴注入/传输层110a中的极性溶剂和水。
在上述空穴注入/传输层形成处理中，在下部开口部分112c和上部开口部分112d中补充喷射的第一合成液滴110c。另一方面，第一组合物在执行防水操作的有机梯形层112b中被排斥，从而传输到下部开口部分112c和上部开口部分112b中。因此，可能在下部开口部分112c和上部开口部分112d中补充该喷射的第一组合物液滴110c；因此，可能在电极表面111a上形成空穴注入/传输层110a。
在上述的空穴注入/传输层形成处理中，对于各像素电极A的初始喷射的第一组合物液滴110c1与有机梯形层112b中的侧壁112h接触。因此，液滴从侧壁表面112h转移到第一层部分112e和像素电极表面111a；因此，可能使该第一组合物液滴110c优先在像素电极111周围扩散，从而均匀的提供了第一组合物。因此，可能形成具有基本均匀厚度的空穴注入/传输层110a。
(4)发光层形成处理
发光层形成处理包括表面改善处理(refining process)、发光层形成材料喷射处理、和烘干处理。
首先，执行表面改善处理，从而改善空穴注入/传输层110a的表面。该处理将在以后说明。然后，通过与上述空穴注入/传输层形成处理的情况相似的墨水喷射方法，在空穴注入/传输层110a上喷射第二组合物。然后，将该喷射的第二组合物烘干(热处理)，从而在空穴注入/传输层110a上形成发光层110b。
在发光层形成处理中，使用在空穴注入/传输层110a中不可溶的非极性溶剂作为第二组合物，该第二组合物用于形成发光层，从而防止空穴注入/传输层110a再次溶解。
但是，另一方面，空穴注入/传输层110a对非极性溶剂的亲液特性不好。因此，即使包括非极性溶剂的第二组合物被喷射在空穴注入/传输层110a上或发光层110b不能均匀提供时，空穴注入/传输层110a和发光层110b也不能紧密接触。
相应的，最好在形成发光层之前执行表面改善处理，从而提高在空穴注入/传输层110a的表面和发光层形成材料中抗非极性溶剂的的亲液特性。现在，说明表面改善处理。
在表面改善处理中，通过墨水喷射方法(液滴喷射方法)、旋转涂层方法、或浸渍方法，将非极性溶剂和作为相当于或相似于上述非极性溶剂的表面改善材料提供在空穴注入/传输层110a上，然后执行烘干操作，其中，该非极性溶剂用于在发光层形成处理中使用的第一组合物。
在墨水喷射方法中，如图19所示，表面改善材料在墨水喷射头H3中补充。从墨水喷射头H3中形成的喷射嘴H4中喷射该表面改善材料。与上述空穴注入/传输层形成处理的情况相似，该喷射嘴H4面对基体2(在该基体2中形成空穴注入/传输层110a)。在使墨水喷射头H3和基体2相对运动的同时，从喷射嘴H4向空穴注入/传输层110a上喷射表面改善材料110d。
在该旋转涂层方法中，该基体2被安装在，例如一旋转平台上，表面改善材料从上面滴落在该基体2上.然后，旋转该基体2，从而使表面改善材料扩散在基体2上的空穴注入/传输层110a的整个表面上.这里，表面改善材料在上表面112f上扩散，其中对该上表面暂时执行亲液处理.但是，由于离心力，表面改善材料将被排斥；因此，表面改善材料只被提供在空穴注入/传输层110a上.
另外，在浸渍方法中，将基体2浸泡在例如表面改善材料中并被提起，从而使表面改善材料扩散在整个空穴注入/传输层110a上。在这种情况下，表面改善材料也暂时在进行过亲液处理的上表面112f上扩散。但是，当将该基体2提起时，表面改善材料脱离上表面112f，因此，表面改善材料只被提供在空穴注入/传输层110a上。
对于这里使用的与用于第二组合物的非极性溶剂相似的表面改善材料，可以使用环己苯、二氢苯并呋喃、三甲基苯、四甲基苯。对于相当于用于第二组合物的非极性溶剂的表面改善材料，可以采用例如甲苯和二甲苯。
特别的，在墨水喷射方法中，最好使用二氢苯并呋喃、三甲基苯、四甲基苯、环己苯和它们的混合物，特别情况下，采用与第二组合物相似的溶剂混合物。
在旋转涂层方法或浸渍方法中，最好选用甲苯和二甲苯。
然后，如图20中所示，将应用区域烘干。在墨水喷射方法的烘干处理中，基体2安装在一个热的板上，从而以例如200℃或更低的温度来被加热，从而烘干和脱水。在旋转涂层方法或浸渍方法中，最好将氮气吹向该基体，或者旋转该基体，从而在该基体2的表面上产生空气流动，从而烘干或脱水。
这里，在空穴注入/传输层形成处理中的烘干操作之后提供表面改善材料，在对其上所提供的表面改善材料干操处理之后，执行空穴注入/传输层形成过程中的加热操作。
通过执行这种表面改善处理，空穴注入/传出层110a的表面变得对非极性溶剂呈亲液性，因此，可以在下面的处理中实现将包括该发光层形成材料的第二组合物均匀的提供到空穴注入/传输层110a上。
这里，通常用于空穴传输材料的组合物可溶解在上述表面改善材料中，从而形成一组合物。通过墨水喷射方法将该组合物提供到空穴注入/传输层上，并将其烘干；因此可在空穴注入/传输层上形成非常薄的空穴传输层。
空穴注入/传输层的几乎整个部分都可溶解在发光层110b中，该发光层在下面的处理中提供。但是，空穴注入/传输层的一部分仍然以薄层的形式位于空穴注入/传输层110a和发光层110b之间。因此，可以降低空穴注入/传输层110a和发光层110b之间的能垒；因此可以很容易的使空穴移动。因此，可能提高发光效率。
然后，在发光层形成处理中，利用墨水喷射方法(液滴喷射方法)，将包括发光层形成材料的第二组合物喷射在空穴注入/传输层110a的上面。然后，执行烘干操作，从而在空穴注入/传输层110a上形成发光层110b。
图21示出利用墨水喷射器的喷射方法的全视图。如图21所示，该墨水喷射头H5和基体2相对移动。从喷射头中形成的喷射嘴H6中喷射第二组合物，该第二组合物包括各颜色(例如，蓝色(B))的发光层形成材料。
在喷射操作中，该喷射嘴面对空穴注入/传输层110a，所述空穴注入/传输层位于下部开口部分112c和上部开口部分112d中.在墨水喷射头H5和基体2相对运动的同时，喷射该第二组合物.可以对喷射嘴H6每次的液体喷射的量进行控制.因此，从喷射头喷射出的液体(第二组合物液体110e)的量.因此，该第二组合物液体110e被喷射在空穴注入/传输层110a上.
在发光层形成处理中，与空穴注入/传输层形成处理相似，喷射初始液滴，使其与梯形部分112接触。喷射第二液滴，使其覆盖该初始液滴。而且，喷射的第二液滴与该初始液滴具有一定间隔。另外，对于每个像素区域，可以将一个扫描操作分为两次操作。
即，与图16和17A所示的情况相似，向开口部分112g喷射该第二组合物的初始液滴，从而使其接触有机梯形部分112112b中的倾斜侧壁表面112h。在防水处理中，将有机梯形层112b中的侧壁表面112h处理为防水；因此，该喷射的液滴接触到侧壁表面112h，然后立刻被排斥，从而在该侧壁表面112h上运动，最终落在空穴注入/传输层110a上。在表面改善处理中，已经将该空穴注入/传输层110a处理为对于非极性溶剂具有亲液性；因此，运动并落在该空穴注入/传输层110a上的液滴将在它的表面扩散。因此，初始液滴将至少接触有机梯形层112b中的侧壁表面112h的一部分。而且，喷射该初始液滴，从而使其同时接触有机梯形层中的上表面112f和侧壁表面112h。
因此，与图17B所示的情况相似，在第二液滴之后被喷射的液滴应当不会覆盖前面的液滴。即，滴落的液滴之间的间隔D最好大于各液滴的直径(D＞d)。在这种情况下，喷射的液滴将局限在一个扫描操作中；因此，喷射头H5应当对于一个像素区域A执行多次扫描操作，从而形成具有足够厚度的发光层112b。
另外，当墨水喷射头H5执行多次扫描操作时，在各扫描操作中，该喷射头H5最好在垂直于主扫描方向的子扫描方向上稍微进行位移。最好利用其它喷嘴而不是由一个特定喷嘴来执行该喷射操作。因此，可以利用多个喷嘴对一个像素区域A执行喷射操作，这样，可以实现误差扩散的效果，其中液滴量的误差将分散。因此，可以实现形成具有均匀厚度的空穴注入/传输层。
而且，如图17C所示，在初始液滴被喷射后，经过一定间隔喷射另外液滴，该液滴将覆盖初始液滴。即，初始液滴和液滴之间的间隔D小于每个液滴的直径(D＜d)。因此，在这种情况下，在一个扫描操作中喷射的液滴是没有限制的；因此，为了形成具有足够厚度的发光层112b，墨水喷射头H5可对一个像素区域A执行一次或多次扫描操作。在墨水喷射头H5执行多次扫描操作的情况下，与上次的情况相似，墨水喷射头H5在每次扫描操作时，在子扫描方向上进行位移，利用其它喷嘴而不是一个特定的喷嘴执行喷射操作。在利用多个喷嘴执行对像素区域A的喷射操作的情况下，由于与上面情况相似的误差扩散效应，在每个像素区域A上可以实现具有均匀厚度的发光层112b。
特别的，在墨水喷射头H5对一个像素区域A执行两次扫描操作的情况下，第一扫描方向和第二扫描方向是相反的。而且，第一扫描方向和第二扫描方向也可以相同。
在第一扫描方向和第二扫描方向相反的情况下，在第一扫描操作中在像素区域A的一半面积中喷射该第一组合物，在第二扫描操作中，在剩下的面积中喷射该第一组合物。而且，也可以执行第二扫描操作，从而覆盖在第一扫描操作中形成的区域。
另外，在第一扫描方向和第二扫描方向相同的情况下，在第一扫描操作中执行喷射操作，从而使液滴具有间隔而不会彼此覆盖，然后在第二扫描操作中执行喷射操作，从而覆盖在前次喷射操作中留下的空白.可以肯定的是，可以执行喷射操作从而将一个像素区域分为两个区域.
对于发光层形成材料，可以选用上述的化合物1-5中所示的聚芴衍生物，(聚-)对-苯亚基乙烯基衍生物，聚苯基衍生物，聚乙烯基咔唑，聚噻吩衍生物，二萘嵌苯染料，香豆素染料，玫瑰精染料。还可以将有机EL材料加入到上述用于发光层形成材料的聚合体中。例如，可将红荧烯，二萘嵌苯，9，10-二苯基蒽，四苯丁二烯，尼罗红，香豆素6，喹吖(二)酮加入到上述聚合体中。
非极性溶剂最好不溶解在空穴注入/传输层110a中。例如，可以使用环己基苯，二氢苯并呋喃，三甲基色氨酸苯，四甲基苯。
通过使用这种非极性溶剂用于发光层110b中的第二组合物，可以提供该第二组合物，而不会使空穴注入/传输层110a再次溶解。
如图21所示，喷射的第二组合物110e在空穴注入/传输层110a上扩散，并在下部开口部分112c和上部开口部分112d中补充喷射的第二组合物110e。另一方面，即使该第一组合物液滴110e偏离了预定喷射位置而喷射在防水上表面112f上，该上表面112f也不会被该第二组合物液滴110e弄湿；因此该第二组合物液滴110e在下部开口部分112c和上部开口部分112d中运动。
喷射在空穴注入/传输层110a上的第二组合物的量由例如下部开口部分112c的尺寸、上部开口部分112d的尺寸、希望形成的发光层110b的厚度和第二组合物中发光层的密度等因素决定的。
而且，第二组合物110e可以不只一次而是多次喷射在相同的空穴注入/传输层110a上。这种情况下，每次喷射中第二组合物的量可以相同。该第二组合物的液量在每次喷射中也可变化。另外，在每次喷射操作中，该第二组合物可以不用处于和喷射在空穴注入/传输层110a上的相同位置，而应当在该空穴注入/传输层110a中的不同位置。
然后，在预定位置喷射该第二组合物，然后，烘干该喷射的第二组合物液滴110e。从而形成发光层110b3。即，如图22所示，通过执行烘干操作，第二组合物中包括的非极性溶剂蒸发，形成蓝色(B)发光层110b3。这里，在图22中，只示出发射蓝光的一个发光层。如图1或其他图中所示，发光元件基本上呈矩形；因此应当理解为在图(对应蓝色)中形成无数发光层。
随后，如图23所示，与上述蓝色(B)发光层110b3的情况相似，以相同的处理形成红色(R)发光层110b1。最后形成绿色(G)发光层110b2。
这里，形成发光层的顺序并不局限于上述顺序。可以以任何形成顺序形成它们。例如，可以根据发光层形成材料来决定形成顺序。
对于发光层中的第二组合物的烘干条件，例如，可以采用氮气环境下、室温、133.3Pa(1Torr)压力的条件下进行5-10分钟。如果压力太低，则由于第二组合物将沸腾，不是很好。如果温度高于室温，则非极性溶剂的蒸发速度变快，很多发光层形成材料元件将粘附在上部开口部分112d中的侧壁表面；因此也不好。
而且，该绿色发光层110b2和红色发光层110b2具有很多用于发光层形成材料的组分，因此最好简单的烘干。例如，最好在40℃下进行5-10分钟的氮气吹气操作。
对于其它烘干条件，最好采用远红外辐射方法，高温氮气吹气方法等。
这样，就在像素电极111上形成空穴注入/传输层110a和发光层110b。
(5)对向电极(阴极)形成处理
然后，在图24所示的对向电极形成处理中，在发光层110b的整个表面和有机梯形层112b上形成阴极12(对向电极)。这里，该阴极12是通过将多种材料层叠而形成的。例如，具有小功函的材料最好在发光层附近形成。例如，可以采用Ca、Ba等。而且，存在在其下面形成很薄的LiF等的情况。而且，在上面(密封区域)存在具有比下面更高功函数的材料，例如Al。
这些阴极12最好通过，例如真空蒸发方法、溅射法和CVD法等来形成。特别的，最好通过真空蒸发方法形成它们，从而防止由于加热导致的发光层110b的损坏。
而且，氟化锂只形成在发光层110b上。另外，可以形成氟化锂，使其对应于特定的颜色。例如，可以只在蓝色(B)发光层110b3上形成氟化锂。在这种情况下，由钙制成的上阴极层12与红色(R)发光层110b1和绿色(G)发光层110b2接触。
而且，对于阴极的上面部分，最好采用真空蒸发方法、溅射方法，CVD方法等形成Al层或Ag层。而且，该阴极的上部部分的厚度最好在大约100-1000nm的范围内，特别是200-500nm左右。而且，为了防止氧化，最好在阴极12上形成保护层，例如SiO2，SiN等。
(6)密封处理
最后，在密封处理中，通过密封树脂3a将上面形成有发光材料的基体2和密封基板3b密封。例如，在基体2的整个表面上提供由热固化树脂或紫外线固化树脂制成的密封树脂3a。该密封基板3b层叠在密封树脂3a上。在该处理中，在基体2上形成密封部分3。
最好在惰性气体环境，例如氮气、氩气、氦气中执行密封处理。如果在大气中执行密封处理，则如果在阴极12上具有针孔之类的缺限，水分和氧气将进入阴极12中，这样阴极12将被氧化。因此，这不是优选的。
另外，如图2A-2C所示的例子，阴极12与基板5上的配线5a连接。而且，电路元件部分14中的配线与驱动IC6连接。这样，就得到了本实施例的显示装置1。
第二实施例
下面，将说明具有根据第一实施例的显示装置的电子装置的例子。
图25A示出作为例子的移动电话的透视图。在图25A中，附图标记600表示移动电话单元。附图标记601表示使用上述显示装置的显示部分。
图25B示出作为例子的移动信息处理装置，例如文字处理器和个人计算机的透视图。在图25B中，附图标记700表示一信息处理装置。附图标记701表示一输入部分，例如键盘。附图标记3表示一信息处理装置单元。附图标记702表示使用上述显示装置的显示部分。
图25C示出作为例子的电子表装置的透视图。在图25C中，附图标记800表示一表单元。附图标记801表示使用上述显示装置的显示部分。
图25A-25C所示的电子装置具有一显示部分，该显示部分具有根据上述第一实施例的显示装置；因此这些电子装置具有上述第一实施例的显示装置的特性。因此，这些电子装置具有高亮度和更好的显示质量。
通过按照与上述第一实施例相似的情况形成图2A和2B所示的具有驱动IC6(驱动电路)的显示装置1，并将该显示装置1装配到移动电话、移动信息处理装置和电子表装置中，从而制造出这些电子装置。
下面将参照详细实施例说明本发明。很明显本发明可以以很广泛的形式来实施，其中的一些可能与所公开的实施例非常不同。因此，这里所描述的特别结构和功能都仅仅是示意性的，并不对本发明范围进行限制。
图26示出作为根据本发明的另一例子的显示装置的截面图。图26所示的显示装置包括一基体2，一在该基体2上形成的显示元件10，一以环状形式环绕该基体的密封树脂603，以及在该显示元件10上的密封部分3。
该基体2和显示元件10与上述第一实施例中的基体2和显示元件10相同。该显示元件10主要包括一发光元件部分11和一阴极12，该阴极是在发光元件部分11上形成的。
而且，如图26所示，在发光元件部分11上具有密封部分3。通过将热固化树脂或紫外线固化树脂制成的密封树脂提供在阴极12和位于密封树脂3a上面的密封基板3b上，形成密封部分3。这里最好使用在硬化期间不会产生气体或溶剂的密封树脂3a。
形成该密封部分3以便至少几乎全部覆盖电极12，该电极12位于发光元件部分11上。这样，密封部分3将防止水或氧气进入包括阴极12和发光层的功能层中，从而防止阴极12和发光层被氧化。
这里，密封基板3b附着于密封树脂3a上，从而保护密封树脂3a。该密封基板3b最好为玻璃部件或金属部件。
而且，图27示出作为本发明另一实施例的显示装置的截面图。图27所示的显示装置包括一基体2、一在该基体2上形成的显示元件10，一施加在显示元件10的整个表面的密封树脂3a，以及在该密封树脂3a上的密封基板3b。
该基体2、显示元件10、密封树脂3a和密封基板3b与第一实施例中的基体2、显示元件10、密封树脂3a和密封基板3b相同。
而且，如图27所示，在密封部件3和阴极12之间形成保护层714。该保护层714是由厚度为100-200nm的SiO2、SiN等制成的。该保护层714可防止水或氧气进入阴极和包括发光层的功能层中；从而防止阴极12和发光层被氧化。
根据上述显示装置，可以有效的防止水和氧气的入侵；因此可以防止阴极12或发光层中的氧化。这样，可以实现更高的亮度并提高显示装置的寿命。
而且，在第一实施例中，说明了当发光层110b，例如R、B和G呈条纹设置的情况。但是，本发明并不局限于这种布置。在本发明中，还可以采用不同的布置结构。例如，除了图28A所示的条纹布置外，还可采用图28B中所示的镶嵌布置或图28C中所示的三角布置。
工业实用性
如上所述，根据本发明显示装置的制造方法，对于各功能层初始喷射的上述组合物的液滴将至少接触上述梯形部分的一部分。这样，液滴将从梯形部分运动到电极表面。因此，可以使组合物液滴优先在电极周围扩散；从而可以均匀的提供组合物。这样，就可以形成具有均匀厚度的功能层。
图2A和2B示出根据本发明第一实施例的显示装置。图2A为一平面图，图2B为图2A中的线AB的截面图。
图3示出根据本发明第一实施例的显示装置的重要部分。
图4示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图5示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图6示出用于制造根据本发明第一实施例的显示装置的等离子处理装置的平面图。
图7示出图6所示的等离子处理装置中的第一等离子处理腔的内部结构。
图8示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图9示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图10示出用于制造根据本发明第一实施例的显示装置的等离子处理装置的其他例子的平面图。
图11示出用于制造本发明第一实施例的显示装置的头部(head)的平面图。
图12示出用于制造本发明第一实施例的显示装置的墨水喷射装置的平面图。
图13示出用于制造本发明第一实施例的显示装置的墨水喷射头的一个例子的透视图。
图14A和14B示出图13所示的墨水喷射头的内部结构。图14A为一透视图，图14B为图14A中线J-J的截面图。
图15示出面对基体的墨水喷射头的位置情况的平面图。
图16示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图
图17A-17C示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的视图。图17A为示出喷射初始液滴的情况的截面图。图17B为说明在喷射初始液滴后喷射的液滴的情况的其他例子的截面图。图17C为示出在第二次以后喷射液滴的情况的其他例子的截面图。
图18示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图19示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图20示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图21示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图22示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图23示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图24示出说明根据本发明第一实施例的显示装置的制造方法的截面图。
图25A-25C示出本发明第二实施例中的电子装置的透视图。
图26示出根据本发明其它实施例的显示装置的截面图。
图27示出根据本发明其它实施例的显示装置的截面图。
图28A-28C示出发光层的布置的平面图。图28A示出条纹布置。图28B示出镶嵌布置。图28C示出三角布置。
最佳实施例
第一实施例
下面参照附图说明根据本发明第一实施例的显示装置及其制造方法。在说明本实施例的显示装置制造方法之前，首先说明根据本发明制造方法制造出来的显示装置。
在图1中示出说明根据本实施例的显示装置中的布线结构的平面图。在图2A和2B中，示出一个平面图和一个截面部分，以说明本发明的显示装置。
如图1所示，在根据本发明的显示装置1中，具有多个扫描线101，多个与扫描线101正交延伸的信号线102，和多个与信号线102平行延伸的电源线103.而且，一个像素区域A位于扫描线101和信号线102的交叉点.一个数据驱动电路104与信号线102连接，该信号驱动电路具有一个移位寄存器、一个电平移动器、一个视频线、和一个模拟开关.一个扫描驱动电路105与扫描线101连接，该扫描驱动电路具有一个移位寄存器和一个电平移动器.
另外，在各像素区域A中还提供有：一个开关薄膜晶体管112，用于通过扫描线101向门电极提供扫描信号；一个保持电容cap，用于保持由信号线102通过开关薄膜晶体管112提供的像素信号；和一个驱动薄膜晶体管123，用于将保持在保持电容cap中的像素信号提供给门电极；一个像素电极(电极)111，当像素电极111通过电驱动薄膜晶体管123与电源线103连接时，从电源线103向该像素电极111流入驱动电流；和一个功能层110，它夹在像素电极111和阴极(对向电极)12之间。发光元件是由电极111、对向电极12和功能层110制成的。
通过这种结构，当驱动扫描线101并打开开关薄膜晶体管112后，信号线102中的临时电势被保持在保持电容cap中。驱动薄膜晶体管123的开/关状态是由保持电容cap的状态来决定的。电流从电源线103通过驱动薄膜晶体管123的沟道流到像素电极111，另外，电流通过功能层110流入阴极12中。功能层110根据流入的电流的量发光。
然后，如图2A和2B所示，根据本实施例的显示装置1具有一玻璃制成的透明基体2、一排列为矩阵形式的发光元件、和一密封基板。该形成在基体2上的发光元件是由下面将说明的像素电极、一功能层和一阴极12形成的。
该基体2是例如透明玻璃基板，它被分成为一显示区域2a和一非显示区域，该显示区域位于基体2的中央，该非显示区域位于显示区域的外侧、围绕基体2的周边。
该显示区域2a是由发光元件形成的，该发光元件为作为有效显示区域的矩阵的形式。非显示区域2b形成在显示区域的外侧。在非显示区域2b中形成紧邻显示区域2a的伪(dummy)显示器2d。
而且，如图2B所示，在发光元件部分11和基体2之间形成电路元件部分14，该发光元件部分11由发光元件和梯形部分形成。该电路元件部分14具有前述的扫描线、信号线、保持电容、开关薄膜晶体管、和驱动薄膜晶体管123。
而且，阴极12的一端与一阴极配线12a连接，该阴极配线12a形成在基体2上，一端部12b与一柔性基板5上的配线5a连接。而且，该配线5a与一驱动IC(驱动电路)6连接，该驱动IC位于柔性基板5上。
而且，如图2A和2B所示，电源线103(103R，103G，103B)位于电路元件14中的非显示区域2b中。
扫描驱动电路105、105位于图2A所示的显示区域2a的两端。该扫描驱动电路105和105位于伪(dummy)区域2d下面的电路元件部分14中。另外，在电路元件部分14中具有一电路驱动控制信号配线105a和一驱动电路电源线105b，该电路驱动控制信号配线105a与扫描驱动电路105和105连接。
另外，如图2A所示，在显示区域2a的上部区域上具有检查电路106。它可以在显示装置的制造过程对显示装置的质量进行检查以制造没有缺陷的成品。
而且，如图2B所示，在发光元件11上具有一密封部分3。该密封部分3由提供在基体2上的密封树脂603a和一罐状密封基板604形成。该密封树脂603为热凝固树脂或紫外线固化树脂。特别的，密封树脂603最好由环氧树脂形成，这种环氧树脂是一种热固化树脂。
该密封树脂603利用例如微扩散形成围绕基体2的环状配置。该密封树脂603使基体2与密封罐604粘接。该密封树脂604可防止水或氧气从基体2和罐密封基板604之间进入罐密封基板604内部。该密封树脂604还可以防止图中未示出的发光层或发光元件部分11被氧化，该发光层形成在阴极12中。
该罐密封基板604为玻璃或金属制成。该罐密封基板604通过密封树脂603与基体连接。在该罐密封基体604的内部形成用于容纳显示元件10的凹入部分604a。在凹入部分604a上粘接一用于吸收水和氧气的吸气部件605，从而吸收进入罐密封基板604中的水或氧气。这里，省略该吸气部件605也是可以的。
下面，图3是显示装置中显示区域的截面放大图。在图3中，示出三个像素区域A。在显示装置1的基板2上，电路元件部分14和发光元件部分11为不同的层，其中电路元件部分14上形成有电路例如TFT，发光元件部分11上形成有功能层110。
在显示装置1中，从功能层110向基体2发射的光传输通过电路元件部分14和基体2，从而在基体2的下面发射(向观看者)。而且，从功能层110向与基体2的相反方向发射的光由阴极12反射，并传输经过电路元件部分14和基体2，从而从基体2的下面传输出来(向观看者)。
这里，如果使用透明阴极12，则可能出现从阴极发射的光。对于这种透明部件，可以采用ITO、Pt、Ir、Ni或Pd。厚度最好为75nm。厚度越小越好。
在基板2上的电路元件部分14中形成由氧化硅层制成的基础保护层2c。在该基础保护层2c上形成由多晶硅制成的岛(island)半导体层141。这里，通过高密度P离子注入在半导体层141上形成一源区域141a和一漏区域141b。这里，没有引入P的区域为沟道区域141c。
另外，在电路元件区域14中形成一透明门绝缘层142，它覆盖基础保护层2c和半导体层141。在基础绝缘层142上形成由金属，例如Al、Mo、Ta、Ti和W制成的门电极143(扫描线101)。在门电极143和门绝缘层142上形成一透明第一内层绝缘层144a和一第二内层绝缘层144b。该门电极143位于对应于半导体层141中的沟道区域141c的位置。
而且，形成接触孔145和146，它们穿过第一和第二内层绝缘层114a和144b，并分别与半导体层141中的源区域和半导体141的漏区域连接。
通过制作图案操作，在第二内层绝缘层144b上形成具有预定形状的透明像素电极111，该电极由ITO等制成。一个接触孔145与像素电极111连接。
而且，接触孔146与电源线103连接。
这样，在电路元件部分14中形成一驱动薄膜晶体管123，该驱动薄膜晶体管123与各像素电极111连接。
这里，虽然在电路元件部分14中形成了前面已经说明的保持电容cap和开关薄膜晶体管112，但图3中并未示出他们。
下面，如图3所示，发光元件部分11主要是由功能层110、梯形部分112和阴极12形成，其中功能层110覆盖在多个像素电极111上，梯形部分112位于各像素电极和功能层110之间，从而分离各功能层110，阴极12(第二电极)形成在功能层110上。发光元件是由像素元件(第一元件)111、功能层110、和阴极(第二电极)形成的。
这里，像素电极111是由，例如金属，如ITO制成的.像素电极111通过制作图案操作形成为平面示图大体为矩形的形状.像素电极111的厚度最好在50-200nm之间，特别在150nm左右最佳.梯形部分112位于各像素电极111a和111之间.
如图3所示，梯形部分112是由一无机梯形层112a(第一梯形层)和一有机梯形层112b形成的，其中该无机梯形层112a离基体2较近，有机梯形层112b9离基体2更远。
形成该无机梯形层和有机梯形层(112a和112b)以覆盖像素电极111的周边。在平面示图中，像素电极111的周边与无机梯形层112a交叠。而且，该有机梯形层112b具有相同的结构；因此，梯形层112覆盖了像素电极111的一部分。而且，无机梯形层112a比有机梯形层112b形成在像素电极111的更中心的位置。这样，在像素电极111的内部形成各无机梯形层112a中的第一层部分112e。这样，安排一个较低的开口部分112c，从而对应于像素电极111的位置。
而且，在有机梯形层112b中形成一上部开口部分112d。该上部开口部分112d对应于像素电极111和下部开口部分112c的位置。如图3所示，使上部开口部份112d比较低开口部份112c大，并且比像素电极111狭窄。而且，存在这种情况，即上部开口部份112d的一较上部分的位置和像素电极111的一端基本相同。此时，如图3所示，有机梯形层112b中的上部开口部分112d的截面部分为对角线。
另外，通过贯通下部开口部份112c和上部开口部份112d，在梯形部分112中形成穿过无机梯形层112a和有机梯形层112b的开口部份112。
而且，无机梯形层112a最好是无机材料，例如SiO2或TiO2。无机梯形层112a的厚度最好在50-200nm之间，最佳为150nm。如果厚度小于50nm，则无机梯形层的厚度将小于上述的空穴注入/传输层；因而，由于不可能实现空穴注入/传输层的平坦，因此不是优选的。而且，如果无机梯形层112a厚度大于200nm，则由下部开口部份112c形成的间隙将更大；这样不可能实现下面将说明的覆盖在空穴注入/传输层上的发光层的平坦。因此，也不是最好的。
另外，有机梯形层112b是由绝热和不易溶解的抗蚀剂，例如丙烯树脂、聚酰亚胺树脂制成。有机梯形层112b的厚度最好在0.1-3.5um的范围内，最佳为2um左右。如果厚度小于0.1um，则有机梯形层112b将变得比上述的空穴注入/传输层和发光层的总厚度要小；这样，考虑到发光层溢出上部开口部分112d，因此不是优选。而且，如果厚度大于3.5um，则由上部开口部份112d形成的缝隙将变得更大；这样，由于在有机梯形层112b上的阴极12不能产生阶段有效区(step coverage)，因此也不是优选。而且如果有机梯形层112b厚度大于2um，则由于可能提高驱动薄膜晶体管123的绝缘性，因此是可以的。
而且，在梯形部分112中形成呈现亲液特性的区域和呈现防水特性的区域。
呈现亲液特性的区域为无机梯形层112a中的第一层部分112e和像素电极111的表面111a。通过利用一种处理气体，例如氧气执行等离子处理操作，可以将这些区域的表面处理为亲液性。表现出防水特性的区域为上部开口部分112d的侧壁表面和有机梯形层112的上部表面112f。通过利用一种处理气体，例如四氟代甲烷(tetrafluoromethane)(防水)执行等离子处理操作，可以处理这些区域的表面。
下面，如图3所示，利用覆盖在像素电极111上的空穴注入/传输层110a和覆盖在空穴注入/传输层110a上的发光层110b形成功能层110。这里，也可进一步在发光层110b的上面形成具有例如电子注入传输层的功能的其它功能层。
空穴注入/传输层110a具有将空穴注入发光层110b并传输空穴注入/传输层110a中的空穴的功能。通过将这种空穴注入/传输层110a置于像素电极111和发光层110b之间，可以使发光层110b的性能，例如发光效率和寿命更佳。而且，从空穴注入/传输层110a注入的空穴和从阴极12注入的电子在发光层110b中再次结合；从而实现发光功能。
空穴注入/传输层110a是由在像素电极表面111a上的下部开口部分112c中形成的平坦部分110a1和在无机梯形层的第一层部分112e上的上部开口部分112d中形成的周边部分110a2形成的。而且，该空穴注入/传输层110a只在像素电极111上的无机梯形层110a(下部开口部分110c)之间形成；因此，这种配置是由它的结构决定的，空穴注入/传输层110a可以只形成在所述平坦部分上。
平坦部分110a1的厚度为常数，例如50-70n之间。
当形成周边部分110a2时，周边部分110a2位于第一层部分112e上，并与上部开口部分112d的侧壁表面，例如有机梯形层112b紧密接触。而且，周边部分110a2的厚度在电极表面111a附近很薄，并且在远离电极表面111a的方向上增加。周边部分11a2的厚度在下部开口部分112d的侧壁表面附近最厚。
该周边部分110a2具有不同的形状，这是因为空穴注入/传输层110a是通过将包括空穴注入/传输层形成材料和极化溶液的第一组合物注入开口部分112中，并去除极化溶液来形成的，而该极化溶液主要是蒸发在无机梯形层上的第一层部分112e上；因此空穴注入/传输层形成材料在第一层部分112e上浓缩并一起被提取出来。
而且，发光层110b在空穴注入/传输层110a的平坦部分110a1和周边部分110a2上形成。在平坦部分112a1上的发光层110b的厚度在50-80nm之间。
发光层具有三种色彩，例如用于发出红光(R)的红色发光层110b1，用于发出绿光(G)的绿色发光层110b2，和用于发出蓝光(B)的蓝光发光层110b3。发光层110b1-110b3是以条纹的形式排列的。
如上所述，空穴注入/传输层110a的周边部分110a2与上部开口部分112d的侧壁表面(有机梯形层112b)紧密接触；因此，发光层110b不会直接与有机梯形层112b接触。因此，可以防止有机梯形层112b中包含的杂质如水等通过外围部分112a2渗透入发光层；因此，可能防止发光层110b被氧化。
而且，具有非均匀厚度的周边部分110a2是在无机梯形层中的第一层部分112e上形成的。因此，周边部分110a2通过第一层部分112e与像素电极111绝缘。因此，空穴不会从周边部分110a2进入发光层110b。这样，从像素电极111流出的电流只流入平坦部分112a1中；因此，可以均匀地将空穴从平坦部分112a1传输到发光层110b。因此，可以实现只在发光层110b的中央区域发光，并均衡发光层110b中的发光量。
而且，无机梯形层112a通过无机梯形层112b使像素电极111更向内延伸。因此，可以通过无机梯形层112a实现对像素电极111和平坦部分110a1的连接部分的形状的修整；因此可以降低发光层110b之间的发光密度的非均匀性。
另外，像素电极111的表面111a和无机梯形层的第一层部分112e表现出亲液特性，因此功能层110紧密并均匀地与像素电极111和无机梯形层112a接触.因此，功能层110在无机梯形层112a上不会变得非常薄；因此可以防止像素电极111和阴极12之间发生短路.
而且，有机梯形层112b的上表面和上部开口部分112d的侧壁表面表现出防水特性，因此功能层110和有机梯形层112b之间的接触降低；因此不存在形成功能层从而使功能层110溢出开口部分112g的情况。
对于用于形成空穴注入/传输层的材料，可以使用例如聚噻吩衍生物，例如聚乙烯二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸的混合物。对于形成发光层110b的材料，可以使用聚芴衍生物，例如化合物1-5，或(聚)对-苯亚乙烯基衍生物，聚苯衍生物，聚芴衍生物，聚乙烯基咔唑，聚噻吩衍生物。而且，可以通过掺入例如二萘嵌苯染料，香豆素染料，玫瑰精染料，红荧烯，二萘嵌苯，9，10-二苯基蒽(diphenylanthracene)，四苯丁二烯，尼罗红(Nile-red)，香豆素6，喹吖(二)酮来使用上述的聚合体材料。
化合物1
化合物2
化合物3
化合物4
化合物5
然后，在发光元件11的整个表面上形成阴极12.阴极12与像素电极111耦合，从而使电流流到功能层110.电极12可通过将一钙层和一铝层层叠而形成.此时，最好将具有低功函数的该层或铝层置于阴极上，该阴极位于发光层附近.特别的，在本实施例中，阴极12用于通过直接接触发光层110b将电子注入发光层110b中.而且，在氟化锂中，在发光层110和阴极12之间可以形成一LiF，从而有效发光.
这里，红色发光层110b1和红色发光层110b2并不局限于氟化锂，还可以使用其他材料。因此，在这种情况下，由氟化锂制成的层只在蓝色(B)发光层110b3中形成，其他材料在红色发光层110b1和绿色发光层110b2中形成层。而且，只有钙而不是氟化锂可以形成在红色发光层110b1和绿色发光层110b2上。
这里，氟化锂的厚度最好在2-5nm的范围内，特别是2nm左右。而且，钙的厚度最好在2-50nm的范围内，特别是20nm左右。
而且，形成阴极12的铝将发光层110b发射的光射向基体2；因此，用于形成阴极12的铝最好是由Al层、Ag层和Al和Ag的层叠结构制成。而且，该厚度最好是在100-1000nm的范围内，特别是200nm左右。
另外，由金属制成的保护层，例如SiO、SiO2、SiN可以位于铝层上以防止氧化。
这里，密封罐604位于所形成的发光材料上。如图2B所示，该密封罐604通过一密封树脂603结合，从而形成显示装置1。
下面，将参照附图说明本发明实施例的显示装置的制造方法。
根据本实施例的显示装置1的制造方法包括以下步骤：(1)梯形部分形成处理，(2)等离子处理(包括亲液处理和防水处理)，(3)空穴注入/传输形成处理(功能层形成处理)，(4)发光层形成处理(功能层形成处理)，(5)面对对向电极形成处理和(6)密封处理。这里，本实施例中的制造处理并不局限于上述方法。根据需要还可以增减其它处理。
(1)梯形形成处理
在梯形形成处理中，在基体上的预定位置上形成一梯形部分112。该梯形部分112是由作为第一梯形层的无机梯形层112a和作为第二梯形层的有机梯形层112b形成的。
形成方法如下所述。
(1)-1形成无机梯形层
首先，如图4所示，在基体上的预定位置形成一无机梯形层112a。该无机梯形层112形成在一第二内层绝缘层114b和一电极(像素电极)111上。这里，在一电路元件部分14上形成第二内层绝缘层144b，该电路元件部分14上形成有一薄膜晶体管、一扫描线和一信号线。
对于无机梯形层112a，例如，可以使用SiO2或TiO2等无机层。这些部件可通过CVD方法、镀层方法、溅射方法或真空沉积方法来形成。
另外，无机梯形层112a的厚度最好是在50-200nm的范围内，特别是150nm。
该具有一开口部分的无机梯形层112是这样形成的，即在内层绝缘层114和像素电极111的整个表面上形成一无机层，并利用光刻方法等对该无机层执行制作图案操作。该开口部分对应于像素电极111的表面111a的位置。如图4所示，该开口部分设置为一下部开口部分112c。
在这种情况下，形成该无机梯形层112a，从而与像素电极111的周边部分(一部分)重叠.如图4所示，通过形成无机梯形层112a，并使该无机梯形层112a覆盖像素电极111的一部分，从而可以控制发光层110中的发光区域.
(1)-2形成有机梯形层112b
然后，形成作为第二梯形层的一有机梯形层112b。
如图5所示，在一无机梯形层112a上形成一无机梯形层112b。对于有机梯形层112b，可以使用具有绝热和防水的材料，例如丙烯酸(类)树脂或聚酰亚胺树脂。通过利用这些材料执行制作图案操作来形成有机梯形层112b。这里，在制作图案操作中，在有机梯形层112b中形成一上部开口部分112d。该上部开口部分112d的位置对应于像素电极的表面111a和下部开口部分112c。
如图5所示，该上部开口部分112最好比下部开口部分112c大，该下部开口部分112c在无机梯形层112a中形成。另外，有机梯形层112b的形状最好为锥形。有机梯形层的开口部分最好比像素电极111的宽度窄。而且，有机梯形层的开口部分的宽度最好近似于有机梯形层112b的最上部表面上的像素电极111的宽度。这样，围绕无机梯形层112a上的下部开口部分112c的第一层部分112e将在像素电极111中比有机梯形层112b更向中心延伸。
通过这种方法将有机梯形层112b上形成的上部开口部分112d和无机梯形层112a中形成的下部开口部分112c贯通，形成贯通无机梯形层112a和有机梯形层112b的开口部分112g。
这里，有机梯形层112b的厚度最好在0.1-3.5um的范围内，特别是2um左右。下面说明为什么这个范围是最好的。
那就是，如果该厚度小于0.1um，则有机梯形层112b的厚度小于空穴注入/传输层的总厚度；从而出现发光层110b溢出上部开口部分112d的情况，因此不是最好的。如果厚度大于3.5um，则由上部开口部分112d导致的缝隙将变得更大，则在上部开口部分112d中不可能获得阴极12的阶段覆盖；因此也不是最好的。如果有机梯形层112b的厚度大于2um，则可能提高阴极12和驱动薄膜晶体管123之间的绝缘性；因此是最佳的。
(2)等离子处理操作
然后，为了激活像素电极111的表面并对梯形部分112执行表面处理，将执行等离子处理操作。特别是，在激活操作中的目的是清洁像素电极111(ITO)并调节操作功能(operating function)。另外，该激活操作对像素电极111的表面执行亲液操作(亲液处理)并对梯形部分112的表面执行防水操作(防水处理)。
该等离子处理操作可分为例如以下几类：(2)-1预热处理，(2)-2激活处理(亲液处理)，(2)-3防水处理(亲液处理)，和(2)-4冷却处理。这里，等离子处理操作并不局限于这几类，还可以根据需要省略或加入其它操作。
首先，图6示出了用于执行等离子处理操作的等离子处理装置。图6所示的等离子处理装置50包括一预热腔51，一第一等离子处理腔52，一第二等离子处理腔53，一冷却处理腔54和一用于将基体2装卸到这些腔51-54的装卸装置。这些腔51-54以放射状方式围绕该装卸装置55放置。
下面利用这些装置来说明总操作处理。
在图6所示的预热处理腔51中执行预热处理。基体2中在经过梯形部分形成处理之后，在预热处理腔51中以预定温度进行加热。
在经过预热处理之后执行亲液处理和防水处理。即，将基体顺序转移到第一等离子处理腔52和第二等离子处理腔53中。在各腔中对梯形部分112执行等离子处理操作，使其亲液。在亲液处理后执行防水处理。在防水处理后将该基体转移到冷却处理腔中，在该冷却处理腔54中，将该基体冷却到室温。在冷却处理操作后，由装卸装置将该基体转移到下一处理，从而执行空穴注入/传输层形成处理。
下面将详细说明每个处理。
(2)-1预热处理
预热处理是在预热处理腔51中执行的。包括梯形部分112b的基体2在该预热处理腔51中被加热到预定温度。
预热处理腔51中的一加热器对该基体2进行加热，该加热器附着在一用于将基体安装在其上的平台上，从而加热该基体2和该平台。还可以采用其它加热方法。
在预热处理腔51中，在例如70℃-80℃的温度范围内加热该基体2。在下面的处理，例如等离子处理操作中也使用该温度。采用这个温度的目的是加热该基体2，从而对应下面处理的条件，并降低基体2的温度的不均衡。
如果没有预热处理，则该基体2在上述的温度中加热。在这种条件下，从开始到结束，在温度不断变化的同时，对该基体2执行等离子处理操作。在基体的温度不断变化的条件下，当执行等离子处理操作时，有机EL元件的特性将可能变得不均匀。因此，执行预加热处理，从而保持处理条件为恒定，并实现均匀的特性。
这里，当在基体2在等离子处理操作中安装在第一等离子处理装置52和第二等离子处理装置53中的样本平台的条件下，执行亲液处理和防水处理时，预热处理温度最好近似于执行亲液处理和防水处理的样本平台56的温度。
这里，在例如70℃-80℃的温度范围内对该基体2执行预加热，第一等离子处理装置52和第二等离子处理装置53的样本平台的温度将增加到该温度。因此，即使连续在很多基体上执行等离子处理操作，该等离子处理条件在等离子处理操作之前和之后也近似相同。这样，可以保持基体2的表面处理的条件，因此可以均衡梯形部分112对组合物的吸湿性。因此，可能制造具有恒定质量的显示装置。
而且，通过预先执行预热，可能缩短在下面执行的等离子处理操作中处理的时间。
(2)-2激活处理(亲液处理)
在该第一等离子处理腔52中执行激活处理。该激活处理包括例如调节和控制像素电极111中的功函数，清洁像素电极的表面，和对像素电极的表面执行亲液处理等处理。
在亲液处理中，等离子处理(O2等离子处理)利用氧气作为大气中的处理气体。在图7中，示出了等离子处理操作。如图7所示，包括梯形部分112的基体2安装在内部具有加热器的样本平台56上。该等离子放电电极57位于基体2的上表面上，从而面对该基体2并保持例如0.5-2mm的间隙距离。该基体2由样本平台56加热。同时，以预定速度，并按照图7所示的方向运送样本平台56。在该期间内，等离子状态的氧气被发射到基体2。
对于O2等离子处理，可以选用例如100-800kW的等离子电源，50-100ml/min的氧气气流，0.5-10mm/sec的板运送速度，70-90℃的基体温度这样的条件。样本平台56执行加热操作，从而将基体中的温度基本保持在预热处理执行的温度。
通过O2等离子处理，如图8所示，可以对像素电极111的表面111a、无机梯形层112a中的第一层部分112e、有机梯形层112b中的上部开口部分112d的侧壁表面和上部表面112f执行亲液处理.通过亲液处理，将羟基引入到各表面，从而实现亲液特性.
在图9中，虚线表示执行亲液处理的区域。
这里，O2等离子处理不仅给出亲液特性，还清洁了像素电极，例如ITO，并适当的调节了功函数。
(2)-3防水处理(防水操作)
然后，在第二等离子处理腔53中，在大气环境中利用处理气体如四氟代甲烷执行作为防水处理的等离子处理(CF4等离子处理)。该第二等离子处理腔53的内部结构与图7所示的第一等离子处理腔52的结构相似。即，基体2由样本平台加热，且在此期间，基体2和样本平台以相同速度被运送。在该期间内，将等离子状态下的四氟代甲烷射到基体2。
可以在例如100-800kW的等离子电源，50-100ml/min的氟代甲烷气流，0.5-10mm/sec的基体运送速度，70-90℃的基体温度这样的条件下来执行CF4等离子处理。与第一等离子处理腔52的情况相似，该加热平台为了将基体的温度保持到执行预热处理的温度，而对基体2加热。
这里，处理气体并不局限于四氟代甲烷。还可以选择其它碳氟化合物气体作为处理气体。
通过执行CF4等离子处理，如图9所示，对有机梯形层的上部开口部分112d的侧壁表面和上表面112f执行亲液处理。通过该亲液处理，将氟基引入到了各表面中；因此具有了防水特性。在图9中，表示防水特性的区域是由两点虚线来表示的。通过发射等离子状态的碳氟化合物，可以对有机部件，例如形成有机梯形层112b的丙烯酸(类)树脂和聚酰亚胺树脂执行亲液处理。这是通过执行O2等离子处理，氟材料可以更容易的在这些有机部件上形成的重要特征。该特征在本实施例中特别有效。
这里，像素电极111的表面111a和无机梯形层112a的第一层部分112e都受到CF4等离子处理的影响。但是，吸水性并没有被影响。在图9中，表现出亲液特性的区域是由一点的虚线表示的。
(2)-4冷却处理
在冷却处理中，利用冷却处理腔54将在等离子处理中被加热的基体2冷却到一操作温度。执行该处理从而将该基体2冷却到在下面将执行的墨水喷射处理(功能层形成处理)中使用的操作温度。
该冷却处理腔54具有一个放置基体2的板。在该板中内置一个水冷装置，以冷却该基体2。
而且，通过在等离子处理后将基体冷却到预定温度的室温(例如，执行墨水喷射处理的操作温度)，基体2中的温度在下面的处理，例如空穴注入/传输形成处理中变得恒定；这样，可以在基体2的温度不波动的情况下执行下面的操作。通过安排该冷却处理，可能形成一个部件，它是根据墨水喷射方法均匀的从一喷射装置中喷射出来的。
例如，当包括用于形成空穴注入/传输的部件的一第一组合物被喷射时，可以以均匀的容量连续的喷射该第一组合物；因此可以形成均匀的空穴注入/传输层。
在上述等离子处理中，对由不同部件制成的有机梯形层112b和无机梯形层112a执行O2等离子处理和CFC4等离子处理，从而可能很容易的在梯形部分112上布置亲液区域和防水区域.
这里，在等离子处理中使用的等离子处理装置并不局限于图6所示的装置。例如，可以使用图10所示的等离子处理装置60。
图10所示的等离子处理装置包括一预热处理腔61，一第一等离子处理腔62，一第二等离子处理腔63，一冷却处理腔64和一用于将基体2运送到这些腔61-64的运送装置65。这些腔61-64置于该运送装置65的两侧(图中箭头的两侧)。
与图6所示的等离子处理装置50的情况相似，在等离子处理装置60中，经过梯形部分形成处理后而传输来的基体2被传送到预热处理腔61中，顺序执行第一等离子处理腔62、第二等离子处理腔63和冷却处理腔64，从而执行与上述相同的处理。然后，传送该基体2进行下一处理，例如空穴注入/传输层形成处理。
而且，对于上述的等离子处理装置，可以使用在真空条件下工作的装置来代替在大气压条件下工作的装置。
(3)空穴注入/传输层形成处理(功能层形成处理)
然后在发光层形成处理中，在电极(这里指像素电极111)上形成空穴注入/传输层。
在空穴注入/传输层形成处理中，通过使用液滴喷射装置，例如墨水喷射装置在像素电极的表面111a上喷射一第一组合物(组合物)，该第一组合物包括空穴注入/传输层形成材料。然后，执行烘干处理和热处理，从而在像素电极111和无机梯形层112a上形成空穴注入/传输层110a。这里，无机梯形层112a被称为第一层部分112e，在该无机梯形层112a上形成有空穴注入/传输层110a。
包括空穴注入/传输层形成处理的后面的处理最好在没有水分和氧气的环境中进行。例如，在氮气或氩气环境中最好。
这里，存在空穴注入/传输层110a不在第一层部分112e上形成的情况。即，空穴注入/传输层只在像素电极111上形成。
下面说明根据该墨水喷射方法的制造方法。
作为在本实施例的显示装置的制造方法中使用的墨水喷射头，可以采用图11所示的头H。如图11所示，头H主要包括多个墨水喷射头H1和一个用于支撑这些墨水喷射头H1的支撑基础板H7。
另外，该基体和头H的位置最好如图12所示。
在图12所示的墨水喷射装置中，附图标记1115表示用于在上面安装一基体2的平台。附图标记1116表示用于在图中的X轴方向(主扫描方向)引导该平台1115的导轨。而且，头H可以利用导轨1113通过支撑部件1111在y轴方向(子扫描方向)移动。另外，头H可以在θ轴方向旋转，从而使墨水喷射头H1在预定角度范围内向主扫描方向倾斜。
在图12所示的基体2中，在母底板上具有多个芯片.即，一个芯片所需的面积等于一个显示装置的面积.这里，形成三个显示区域，但本发明并不局限于这种配置.例如，当向图中基体2的左手区域中的显示区域2a提供组合物时，头H通过导轨1113移动到图中的左手区域.同时，基体2通过导轨1116向图中的上部方向移动.在此期间，在基体2被扫描的同时，提供该组合物.然后，基体2向图中的右手方向移动，从而向基体的中央内的显示区域2a提供组合物.与上述情况相似，向位于图中右手区域内的显示区域2a提供组合物.
这里，图12所示的头H和图15中所示的墨水喷射装置不仅可用于空穴注入/传输层形成处理中，还可用于发光层形成处理中。
图13是从喷射墨水的区域附近观看到的墨水喷射头H1的透视图。如图13所示，在墨水喷射头H1的墨水喷射表面(面向基体的表面)上，以在该头的纵向方向上和在头的宽度方向上具有间隔的阵列形式设置多个喷嘴n1。通过在一个阵列中布置多个喷嘴H2形成两个喷头阵列N2。在一个喷嘴阵列n2中包括有180个喷嘴n1，因此，在一个墨水喷射头H1中具有360个喷嘴。而且，喷嘴n1中的孔的直径为例如28um。喷嘴n1之间的间隔为，例如141um。
该喷墨头H1具有图14A和14B中所示的内部结构。更特别的，该墨水喷射头H1具有，例如一个由不锈钢制成的喷嘴板229，一个面对喷嘴板229的振动板231，和一个用于将该喷嘴板229和振动板231的隔开的隔离部件232。通过该隔离部件232，在喷嘴板229和振动板231之间形成多个组合物腔233和液体保存腔234。多个组合物腔233和液体保存腔234彼此之间通过路径238相通。
在振动板231上的适当位置形成组合物供应孔236。一组合物供应装置237与组合物供应孔236连接。该组合物供应装置237向组合物供应孔236提供第一组合物，该第一组合物包括空穴注入/传输层形成材料。所供应的第一组合物被注入液体保存腔234中。所供应的第一组合物通过路径238传输，从而注入组合物腔233中。
喷嘴n1位于喷嘴板229中，从而在喷射条件下从组合物腔233中喷射出第一组合物。而且，一组合物压缩部件239位于背表面上，并对应于组合物腔233，该被表面上形成有振动板231的组合物腔233。如图14B所示，该组合物压缩部件239具有一压电元件241和一对夹着该压电元件241的电极242a和242b。流到电极242a和242b的电流使该压电元件241变形，从而向外侧推出，如图中箭头C所示；因此组合物腔233的容积增加。随后，具有与该增加的容积相同容量的第一组合物通过路径238从液体保存腔234流入该组合物腔233。
然后，当流到压电元件241中的电流被切断时，该压电元件241和振动板231的形状恢复到初始形状。这样，该组合物腔233的形状恢复到初始形状。因此，处于该组合物腔233内部的第一组合物的压力增加，因此该第一组合物以液滴110c的形式从喷嘴n1向基体2喷射出来。
图15示出扫描到基体2的墨水喷射头H1。如图15所示，该墨水喷射头H1在沿图中X轴方向相对运动的同时喷射第一组合物。在此期间，喷嘴阵列n2的配置方向Z向主扫描方向(沿X轴方向的方向)倾斜。墨水喷射头H1中的喷嘴阵列n2位于相对于主扫描方向倾斜的位置。因此，可能配置喷嘴间距，并使其对应于像素区域A中的间距。而且，可能通过调节该倾斜角度来对应于像素区域A中的不同间距。
如图16所示，从在墨水喷射头H1中的多个喷嘴n1中喷射第一组合物，该第一组合物包括空穴注入/传输层形成材料。这里，通过扫描墨水喷射头H1来对各像素区域A进行补充该第一组合物。这种操作可通过扫描基体2来实现。另外，该第一组合物可通过相对移动墨水喷射头H1和基体2来进行补充。这里，在以后的使用墨水喷射头的处理中，按照与上述相同的方式执行。
墨水喷射头的喷射操作是这样执行的。即，在墨水喷射头H1中形成的一个喷射嘴H2的位置对着电极表面111a，且从喷嘴H2中喷射出该第一组合物。分开该开口部分112g的梯形112在像素电极111的周围形成。该墨水喷射头H1面对着开口部分112g。通过使墨水喷射头H1和基体2相对运动，实现将第一组合物液滴110c从喷射嘴H2喷射到图3所示的开口部分112g中，其中每滴液滴的量都是可控制的。喷射到开口部分112g中的液滴可为6滴到20滴。这个范围取决于像素的面积，因此液滴可以超出上述的范围。
这里，如图16和17A所示，喷射一初始液滴110c1，从而使其接触在有机梯形层112b中倾斜的侧壁表面112h，其中该初始液滴被喷射到一开口部分112g中。有机梯形层112b中的侧壁表面112h已在前面的防水处理中被处理为防水，因此，喷射的液滴110c1接触到侧壁表面112h并立刻被排斥。该液滴110c1在该侧壁112h上移动，从而落在第一层部分112e上。该第一层部分112e被处理为亲液，因此落下的初始液滴110c1应该在第一层部分112e上扩散。这里，该初始液滴110c1应当至少接触有机梯形层112b中的侧壁表面112h的一部分。而且，该被喷射的初始液滴110c1将同时与有机梯形层112f的侧壁表面112h和上表面112f接触。
然后，如图17B所示，在喷射液滴110c1后，间隔喷射液滴110c2，从而使它不会覆盖在前面的液滴110c1上。即，用于滴落液滴110c1和110c2的间隔D最好大于液滴的直径(D＞d)。因此，在这种情况下，在一个扫描操作中可喷射的液滴是有限的。因此，墨水喷射头H1最好多次扫描一个像素区域，从而形成具有足够厚度的空穴注入/传输层。
另外，当每次多次执行该墨水喷射头H1的扫描操作时，最好通过使墨水喷射头H1在垂直于主扫描方向的子扫描方向上稍微进行位移，利用其它喷嘴n1而不是由一个特定喷嘴n1来执行该喷射操作。因此，可能通过由多个喷嘴对一个像素区域A执行喷射操作，来实现误差扩散的效果，这样喷嘴中液滴量的误差将分散。因此，可以实现均匀厚度的空穴注入/传输层。
而且，如图17C所示，液滴110c2可以以这样一个间隔来喷射，即在初始液滴被喷射后，液滴110c2将覆盖初始液滴110c1。即，初始液滴110c1和液滴110c2之间的间隔D小于每个液滴的直径(D＜d)。因此，在这种情况下，在一个扫描操作中喷射的液滴是没有限制；因此，为了形成具有足够厚度的空穴注入/传输层，墨水喷射头H1可对一个像素区域A执行一次或多次扫描操作。在墨水喷射头H1执行多次扫描操作的情况下，与上次的情况相似，墨水喷射头H1在每次扫描操作时，在子扫描方向上进行位移，利用其它喷嘴n1而不是一个特定的喷嘴n1执行喷射操作。在利用多个喷嘴执行对像素区域A的喷射操作的情况下，由于与上面情况相似的误差扩散效应，在每个像素区域A上可以实现具有均匀厚度的空穴注入/传输层。
特别的，在墨水喷射头H1对一个像素区域A执行两次扫描操作的情况下，第一扫描方向和第二扫描方向是相反的。而且，第一扫描方向和第二扫描方向也可以相同。
在第一扫描方向和第二扫描方向相反的情况下，在第一扫描操作中在像素区域A的一半面积中喷射该第一组合物，在第二扫描操作中，在剩下的面积中喷射该第一组合物。而且，也可以执行第二扫描操作，从而覆盖在第一扫描操作中形成的区域。
另外，在第一扫描方向和第二扫描方向相同的情况下，在第一扫描操作中执行喷射操作，从而形成一个间隔使液滴不会彼此覆盖，然后在第二扫描操作中执行喷射操作，从而覆盖在前次喷射操作中留下的空白.当然，可以执行喷射操作从而将一个像素区域分为两个区域.
对于这里使用的第一组合物，例如将聚噻吩衍生物，例如聚乙烯二氧噻吩(PEDOT)和聚苯乙烯磺酸(PSS)的混合物溶解在极性溶剂中而形成的组合物。对于极性溶剂，可以选用例如异丙醇(IPA)、n-丁醇、γ-丁内酯、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮(DMI)和它的衍生物、乙二醇酯例如卡必醇醋酸酯、和丁基卡必醇醋酸酯。
对于第一组合物的特别结构，可以采用例如PEDOT/PSS混合物(PEDOT/PSS＝1∶20)：12.52重量％，PSS：1.44重量％，IPA：10重量％，NMP：27.48重量％，DMI：50重量％的条件。这里第一组合物的粘性最好为2-20Ps，特别是15cPs。
通过使用上述的第一组合物，可以在不闭合喷射嘴H2的情况下稳定的执行喷射操作。
这里，可以使用用于空穴注入/传输层形成材料的通用材料来形成红(R)、绿(G)、蓝(B)色的发光层110b1-110b3。而且，也可以使用用于空穴注入/传输层形成材料的不同材料。
如图16所示，喷射的第一组合物的液滴110c最终在执行了亲液处理的电极表面111a和第一层部分112e上扩散，从而在下部开口部分112c和上部开口部分112d中进行补充喷射的第一组合物的液滴110c。如果第一组合物的液滴110c被喷射到上表面112f上，则第一组合物液体110c不会在上表面112f上扩散，其中该上表面是预定喷射位置的外侧；该被排斥的第一组合物液滴110c转移到下部开口部分112c和上部开口部分112d中。
喷射到电极表面111a上的第一组合物的总量是由例如下部开口部分112c的尺寸、上部开口部分112d的尺寸、空穴注入/传输层的厚度和空穴注入/传输层中第一组合物的密度等因素决定的。
然后，如图18所示，执行烘干处理。在烘干处理中，将喷射的第一组合物烘干，包含在该第一组合物中的极性溶剂蒸发，从而形成空穴注入/传输层110a。
在烘干处理中，包含在化合成液体110c中的极性溶剂在无机梯形层112a和有机梯形层112b附近蒸发。随着极性溶剂的蒸发，该空穴注入/传输层浓缩并析取出来。
因此，如图18所示，在第一层部分112e上形成由空穴注入/传输层制成的周边部分110a2。该周边部分110a紧密的附着在上部开口部分112d中的侧壁表面(有机梯形层112b)上。该周边部分110a2的厚度在电极表面111a附近很薄，在远离电极表面111a的有机梯形层112b附近很厚。
而且，同时，在烘干处理中，极性溶剂在电极表面111a上蒸发。因此，在电极表面111a上形成由空穴注入/传输层形成材料制成的平坦部分110a1。该极性溶剂在电极表面111a上的蒸发速度基本上是均匀的。因此，空穴注入/传输层1形成材料在电极表面111a上均匀的沉淀。这样，形成具有均匀厚度的平坦部分110a。
这样，形成由周边部分110a2和平坦部分110a1制成的空穴注入/传输层110a。
这里，空穴注入/传输层不仅可以在周边部分110a2上形成，也可在电极表面111a上形成。
上述的烘干处理是在例如室温下、压力为133.3Pa(1Torr)的氮气环境中执行的.如果压力太低，则由于第一组合物液滴沸腾，不是优选的.如果温度高于室温，则极性溶剂的蒸发速度变快，因此不可能形成平坦层.
在烘干处理后，最好在氮气环境或真空条件下，以200℃的温度进行10分钟左右的加热空穴注入/传输层110a，从而去除保存在空穴注入/传输层110a中的极性溶剂和水。
在上述空穴注入/传输层形成处理中，在下部开口部分112c和上部开口部分112d中补充喷射的第一合成液滴110c。另一方面，第一组合物在执行防水操作的有机梯形层112b中被排斥，从而传输到下部开口部分112c和上部开口部分112b中。因此，可能在下部开口部分112c和上部开口部分112d中补充该喷射的第一组合物液滴110c；因此，可能在电极表面111a上形成空穴注入/传输层110a。
在上述的空穴注入/传输层形成处理中，对于各像素电极A的初始喷射的第一组合物液滴110c1与有机梯形层112b中的侧壁112h接触。因此，液滴从侧壁表面112h转移到第一层部分112e和像素电极表面111a；因此，可能使该第一组合物液滴110c优先在像素电极111周围扩散，从而均匀的提供了第一组合物。因此，可能形成具有基本均匀厚度的空穴注入/传输层110a。
(4)发光层形成处理
发光层形成处理包括表面改善处理(refining process)、发光层形成材料喷射处理、和烘干处理。
首先，执行表面改善处理，从而改善空穴注入/传输层110a的表面。该处理将在以后说明。然后，通过与上述空穴注入/传输层形成处理的情况相似的墨水喷射方法，在空穴注入/传输层110a上喷射第二组合物。然后，将该喷射的第二组合物烘干(热处理)，从而在空穴注入/传输层110a上形成发光层110b。
在发光层形成处理中，使用在空穴注入/传输层110a中不可溶的非极性溶剂作为第二组合物，该第二组合物用于形成发光层，从而防止空穴注入/传输层110a再次溶解。
但是，另一方面，空穴注入/传输层110a对非极性溶剂的亲液特性不好。因此，即使包括非极性溶剂的第二组合物被喷射在空穴注入/传输层110a上或发光层110b不能均匀提供时，空穴注入/传输层110a和发光层110b也不能紧密接触。
相应的，最好在形成发光层之前执行表面改善处理，从而提高在空穴注入/传输层110a的表面和发光层形成材料中抗非极性溶剂的的亲液特性。现在，说明表面改善处理。
在表面改善处理中，通过墨水喷射方法(液滴喷射方法)、旋转涂层方法、或浸渍方法，将非极性溶剂和作为相当于或相似于上述非极性溶剂的表面改善材料提供在空穴注入/传输层110a上，然后执行烘干操作，其中，该非极性溶剂用于在发光层形成处理中使用的第一组合物。
在墨水喷射方法中，如图19所示，表面改善材料在墨水喷射头H3中补充。从墨水喷射头H3中形成的喷射嘴H4中喷射该表面改善材料。与上述空穴注入/传输层形成处理的情况相似，该喷射嘴H4面对基体2(在该基体2中形成空穴注入/传输层110a)。在使墨水喷射头H3和基体2相对运动的同时，从喷射嘴H4向空穴注入/传输层110a上喷射表面改善材料110d。
在该旋转涂层方法中，该基体2被安装在，例如一旋转平台上，表面改善材料从上面滴落在该基体2上.然后，旋转该基体2，从而使表面改善材料扩散在基体2上的空穴注入/传输层110a的整个表面上.这里，表面改善材料在上表面112f上扩散，其中对该上表面暂时执行亲液处理.但是，由于离心力，表面改善材料将被排斥；因此，表面改善材料只被提供在空穴注入/传输层110a上.
另外，在浸渍方法中，将基体2浸泡在例如表面改善材料中并被提起，从而使表面改善材料扩散在整个空穴注入/传输层110a上。在这种情况下，表面改善材料也暂时在进行过亲液处理的上表面112f上扩散。但是，当将该基体2提起时，表面改善材料脱离上表面112f，因此，表面改善材料只被提供在空穴注入/传输层110a上。
对于这里使用的与用于第二组合物的非极性溶剂相似的表面改善材料，可以使用环己苯、二氢苯并呋喃、三甲基苯、四甲基苯。对于相当于用于第二组合物的非极性溶剂的表面改善材料，可以采用例如甲苯和二甲苯。
特别的，在墨水喷射方法中，最好使用二氢苯并呋喃、三甲基苯、四甲基苯、环己苯和它们的混合物，特别情况下，采用与第二组合物相似的溶剂混合物。
在旋转涂层方法或浸渍方法中，最好选用甲苯和二甲苯。
然后，如图20中所示，将应用区域烘干。在墨水喷射方法的烘干处理中，基体2安装在一个热的板上，从而以例如200℃或更低的温度来被加热，从而烘干和脱水。在旋转涂层方法或浸渍方法中，最好将氮气吹向该基体，或者旋转该基体，从而在该基体2的表面上产生空气流动，从而烘干或脱水。
这里，在空穴注入/传输层形成处理中的烘干操作之后提供表面改善材料，在对其上所提供的表面改善材料干操处理之后，执行空穴注入/传输层形成过程中的加热操作。
通过执行这种表面改善处理，空穴注入/传出层110a的表面变得对非极性溶剂呈亲液性，因此，可以在下面的处理中实现将包括该发光层形成材料的第二组合物均匀的提供到空穴注入/传输层110a上。
这里，通常用于空穴传输材料的组合物可溶解在上述表面改善材料中，从而形成一组合物。通过墨水喷射方法将该组合物提供到空穴注入/传输层上，并将其烘干；因此可在空穴注入/传输层上形成非常薄的空穴传输层。
空穴注入/传输层的几乎整个部分都可溶解在发光层110b中，该发光层在下面的处理中提供。但是，空穴注入/传输层的一部分仍然以薄层的形式位于空穴注入/传输层110a和发光层110b之间。因此，可以降低空穴注入/传输层110a和发光层110b之间的能垒；因此可以很容易的使空穴移动。因此，可能提高发光效率。
然后，在发光层形成处理中，利用墨水喷射方法(液滴喷射方法)，将包括发光层形成材料的第二组合物喷射在空穴注入/传输层110a的上面。然后，执行烘干操作，从而在空穴注入/传输层110a上形成发光层110b。
图21示出利用墨水喷射器的喷射方法的全视图。如图21所示，该墨水喷射头H5和基体2相对移动。从喷射头中形成的喷射嘴H6中喷射第二组合物，该第二组合物包括各颜色(例如，蓝色(B))的发光层形成材料。
在喷射操作中，该喷射嘴面对空穴注入/传输层110a，所述空穴注入/传输层位于下部开口部分112c和上部开口部分112d中.在墨水喷射头H5和基体2相对运动的同时，喷射该第二组合物.可以对喷射嘴H6每次的液体喷射的量进行控制.因此，从喷射头喷射出的液体(第二组合物液体110e)的量.因此，该第二组合物液体110e被喷射在空穴注入/传输层110a上.
在发光层形成处理中，与空穴注入/传输层形成处理相似，喷射初始液滴，使其与梯形部分112接触。喷射第二液滴，使其覆盖该初始液滴。而且，喷射的第二液滴与该初始液滴具有一定间隔。另外，对于每个像素区域，可以将一个扫描操作分为两次操作。
即，与图16和17A所示的情况相似，向开口部分112g喷射该第二组合物的初始液滴，从而使其接触有机梯形部分112112b中的倾斜侧壁表面112h。在防水处理中，将有机梯形层112b中的侧壁表面112h处理为防水；因此，该喷射的液滴接触到侧壁表面112h，然后立刻被排斥，从而在该侧壁表面112h上运动，最终落在空穴注入/传输层110a上。在表面改善处理中，已经将该空穴注入/传输层110a处理为对于非极性溶剂具有亲液性；因此，运动并落在该空穴注入/传输层110a上的液滴将在它的表面扩散。因此，初始液滴将至少接触有机梯形层112b中的侧壁表面112h的一部分。而且，喷射该初始液滴，从而使其同时接触有机梯形层中的上表面112f和侧壁表面112h。
因此，与图17B所示的情况相似，在第二液滴之后被喷射的液滴应当不会覆盖前面的液滴。即，滴落的液滴之间的间隔D最好大于各液滴的直径(D＞d)。在这种情况下，喷射的液滴将局限在一个扫描操作中；因此，喷射头H5应当对于一个像素区域A执行多次扫描操作，从而形成具有足够厚度的发光层112b。
另外，当墨水喷射头H5执行多次扫描操作时，在各扫描操作中，该喷射头H5最好在垂直于主扫描方向的子扫描方向上稍微进行位移。最好利用其它喷嘴而不是由一个特定喷嘴来执行该喷射操作。因此，可以利用多个喷嘴对一个像素区域A执行喷射操作，这样，可以实现误差扩散的效果，其中液滴量的误差将分散。因此，可以实现形成具有均匀厚度的空穴注入/传输层。
而且，如图17C所示，在初始液滴被喷射后，经过一定间隔喷射另外液滴，该液滴将覆盖初始液滴。即，初始液滴和液滴之间的间隔D小于每个液滴的直径(D＜d)。因此，在这种情况下，在一个扫描操作中喷射的液滴是没有限制的；因此，为了形成具有足够厚度的发光层112b，墨水喷射头H5可对一个像素区域A执行一次或多次扫描操作。在墨水喷射头H5执行多次扫描操作的情况下，与上次的情况相似，墨水喷射头H5在每次扫描操作时，在子扫描方向上进行位移，利用其它喷嘴而不是一个特定的喷嘴执行喷射操作。在利用多个喷嘴执行对像素区域A的喷射操作的情况下，由于与上面情况相似的误差扩散效应，在每个像素区域A上可以实现具有均匀厚度的发光层112b。
特别的，在墨水喷射头H5对一个像素区域A执行两次扫描操作的情况下，第一扫描方向和第二扫描方向是相反的。而且，第一扫描方向和第二扫描方向也可以相同。
在第一扫描方向和第二扫描方向相反的情况下，在第一扫描操作中在像素区域A的一半面积中喷射该第一组合物，在第二扫描操作中，在剩下的面积中喷射该第一组合物。而且，也可以执行第二扫描操作，从而覆盖在第一扫描操作中形成的区域。
另外，在第一扫描方向和第二扫描方向相同的情况下，在第一扫描操作中执行喷射操作，从而使液滴具有间隔而不会彼此覆盖，然后在第二扫描操作中执行喷射操作，从而覆盖在前次喷射操作中留下的空白.可以肯定的是，可以执行喷射操作从而将一个像素区域分为两个区域.
对于发光层形成材料，可以选用上述的化合物1-5中所示的聚芴衍生物，(聚-)对-苯亚基乙烯基衍生物，聚苯基衍生物，聚乙烯基咔唑，聚噻吩衍生物，二萘嵌苯染料，香豆素染料，玫瑰精染料。还可以将有机EL材料加入到上述用于发光层形成材料的聚合体中。例如，可将红荧烯，二萘嵌苯，9，10-二苯基蒽，四苯丁二烯，尼罗红，香豆素6，喹吖(二)酮加入到上述聚合体中。
非极性溶剂最好不溶解在空穴注入/传输层110a中。例如，可以使用环己基苯，二氢苯并呋喃，三甲基色氨酸苯，四甲基苯。
通过使用这种非极性溶剂用于发光层110b中的第二组合物，可以提供该第二组合物，而不会使空穴注入/传输层110a再次溶解。
如图21所示，喷射的第二组合物110e在空穴注入/传输层110a上扩散，并在下部开口部分112c和上部开口部分112d中补充喷射的第二组合物110e。另一方面，即使该第一组合物液滴110e偏离了预定喷射位置而喷射在防水上表面112f上，该上表面112f也不会被该第二组合物液滴110e弄湿；因此该第二组合物液滴110e在下部开口部分112c和上部开口部分112d中运动。
喷射在空穴注入/传输层110a上的第二组合物的量由例如下部开口部分112c的尺寸、上部开口部分112d的尺寸、希望形成的发光层110b的厚度和第二组合物中发光层的密度等因素决定的。
而且，第二组合物110e可以不只一次而是多次喷射在相同的空穴注入/传输层110a上。这种情况下，每次喷射中第二组合物的量可以相同。该第二组合物的液量在每次喷射中也可变化。另外，在每次喷射操作中，该第二组合物可以不用处于和喷射在空穴注入/传输层110a上的相同位置，而应当在该空穴注入/传输层110a中的不同位置。
然后，在预定位置喷射该第二组合物，然后，烘干该喷射的第二组合物液滴110e。从而形成发光层110b3。即，如图22所示，通过执行烘干操作，第二组合物中包括的非极性溶剂蒸发，形成蓝色(B)发光层110b3。这里，在图22中，只示出发射蓝光的一个发光层。如图1或其他图中所示，发光元件基本上呈矩形；因此应当理解为在图(对应蓝色)中形成无数发光层。
随后，如图23所示，与上述蓝色(B)发光层110b3的情况相似，以相同的处理形成红色(R)发光层110b1。最后形成绿色(G)发光层110b2。
这里，形成发光层的顺序并不局限于上述顺序。可以以任何形成顺序形成它们。例如，可以根据发光层形成材料来决定形成顺序。
对于发光层中的第二组合物的烘干条件，例如，可以采用氮气环境下、室温、133.3Pa(1Torr)压力的条件下进行5-10分钟。如果压力太低，则由于第二组合物将沸腾，不是很好。如果温度高于室温，则非极性溶剂的蒸发速度变快，很多发光层形成材料元件将粘附在上部开口部分112d中的侧壁表面；因此也不好。
而且，该绿色发光层110b2和红色发光层110b2具有很多用于发光层形成材料的组分，因此最好简单的烘干。例如，最好在40℃下进行5-10分钟的氮气吹气操作。
对于其它烘干条件，最好采用远红外辐射方法，高温氮气吹气方法等。
这样，就在像素电极111上形成空穴注入/传输层110a和发光层110b。
(5)对向电极(阴极)形成处理
然后，在图24所示的对向电极形成处理中，在发光层110b的整个表面和有机梯形层112b上形成阴极12(对向电极)。这里，该阴极12是通过将多种材料层叠而形成的。例如，具有小功函的材料最好在发光层附近形成。例如，可以采用Ca、Ba等。而且，存在在其下面形成很薄的LiF等的情况。而且，在上面(密封区域)存在具有比下面更高功函数的材料，例如Al。
这些阴极12最好通过，例如真空蒸发方法、溅射法和CVD法等来形成。特别的，最好通过真空蒸发方法形成它们，从而防止由于加热导致的发光层110b的损坏。
而且，氟化锂只形成在发光层110b上。另外，可以形成氟化锂，使其对应于特定的颜色。例如，可以只在蓝色(B)发光层110b3上形成氟化锂。在这种情况下，由钙制成的上阴极层12与红色(R)发光层110b1和绿色(G)发光层110b2接触。
而且，对于阴极的上面部分，最好采用真空蒸发方法、溅射方法，CVD方法等形成Al层或Ag层。而且，该阴极的上部部分的厚度最好在大约100-1000nm的范围内，特别是200-500nm左右。而且，为了防止氧化，最好在阴极12上形成保护层，例如SiO2，SiN等。
(6)密封处理
最后，在密封处理中，通过密封树脂3a将上面形成有发光材料的基体2和密封基板3b密封。例如，在基体2的整个表面上提供由热固化树脂或紫外线固化树脂制成的密封树脂3a。该密封基板3b层叠在密封树脂3a上。在该处理中，在基体2上形成密封部分3。
最好在惰性气体环境，例如氮气、氩气、氦气中执行密封处理。如果在大气中执行密封处理，则如果在阴极12上具有针孔之类的缺限，水分和氧气将进入阴极12中，这样阴极12将被氧化。因此，这不是优选的。
另外，如图2A-2C所示的例子，阴极12与基板5上的配线5a连接。而且，电路元件部分14中的配线与驱动IC6连接。这样，就得到了本实施例的显示装置1。
第二实施例
下面，将说明具有根据第一实施例的显示装置的电子装置的例子。
图25A示出作为例子的移动电话的透视图。在图25A中，附图标记600表示移动电话单元。附图标记601表示使用上述显示装置的显示部分。
图25B示出作为例子的移动信息处理装置，例如文字处理器和个人计算机的透视图。在图25B中，附图标记700表示一信息处理装置。附图标记701表示一输入部分，例如键盘。附图标记3表示一信息处理装置单元。附图标记702表示使用上述显示装置的显示部分。
图25C示出作为例子的电子表装置的透视图。在图25C中，附图标记800表示一表单元。附图标记801表示使用上述显示装置的显示部分。
图25A-25C所示的电子装置具有一显示部分，该显示部分具有根据上述第一实施例的显示装置；因此这些电子装置具有上述第一实施例的显示装置的特性。因此，这些电子装置具有高亮度和更好的显示质量。
通过按照与上述第一实施例相似的情况形成图2A和2B所示的具有驱动IC6(驱动电路)的显示装置1，并将该显示装置1装配到移动电话、移动信息处理装置和电子表装置中，从而制造出这些电子装置。
下面将参照详细实施例说明本发明。很明显本发明可以以很广泛的形式来实施，其中的一些可能与所公开的实施例非常不同。因此，这里所描述的特别结构和功能都仅仅是示意性的，并不对本发明范围进行限制。
图26示出作为根据本发明的另一例子的显示装置的截面图。图26所示的显示装置包括一基体2，一在该基体2上形成的显示元件10，一以环状形式环绕该基体的密封树脂603，以及在该显示元件10上的密封部分3。
该基体2和显示元件10与上述第一实施例中的基体2和显示元件10相同。该显示元件10主要包括一发光元件部分11和一阴极12，该阴极是在发光元件部分11上形成的。
而且，如图26所示，在发光元件部分11上具有密封部分3。通过将热固化树脂或紫外线固化树脂制成的密封树脂提供在阴极12和位于密封树脂3a上面的密封基板3b上，形成密封部分3。这里最好使用在硬化期间不会产生气体或溶剂的密封树脂3a。
形成该密封部分3以便至少几乎全部覆盖电极12，该电极12位于发光元件部分11上。这样，密封部分3将防止水或氧气进入包括阴极12和发光层的功能层中，从而防止阴极12和发光层被氧化。
这里，密封基板3b附着于密封树脂3a上，从而保护密封树脂3a。该密封基板3b最好为玻璃部件或金属部件。
而且，图27示出作为本发明另一实施例的显示装置的截面图。图27所示的显示装置包括一基体2、一在该基体2上形成的显示元件10，一施加在显示元件10的整个表面的密封树脂3a，以及在该密封树脂3a上的密封基板3b。
该基体2、显示元件10、密封树脂3a和密封基板3b与第一实施例中的基体2、显示元件10、密封树脂3a和密封基板3b相同。
而且，如图27所示，在密封部件3和阴极12之间形成保护层714。该保护层714是由厚度为100-200nm的SiO2、SiN等制成的。该保护层714可防止水或氧气进入阴极和包括发光层的功能层中；从而防止阴极12和发光层被氧化。
根据上述显示装置，可以有效的防止水和氧气的入侵；因此可以防止阴极12或发光层中的氧化。这样，可以实现更高的亮度并提高显示装置的寿命。
而且，在第一实施例中，说明了当发光层110b，例如R、B和G呈条纹设置的情况。但是，本发明并不局限于这种布置。在本发明中，还可以采用不同的布置结构。例如，除了图28A所示的条纹布置外，还可采用图28B中所示的镶嵌布置或图28C中所示的三角布置。
工业实用性
如上所述，根据本发明显示装置的制造方法，对于各功能层初始喷射的上述组合物的液滴将至少接触上述梯形部分的一部分。这样，液滴将从梯形部分运动到电极表面。因此，可以使组合物液滴优先在电极周围扩散；从而可以均匀的提供组合物。这样，就可以形成具有均匀厚度的功能层。