光阻涂布方法及其光阻涂布设备

摘要

本发明公开了一种光阻涂布设备，包括一光阻涂布装置、一清洁装置以及一平台。基板置放于平台之上。当涂布光阻时，清洁装置先清除基板表面的微粒，接着，光阻涂布装置将光阻均匀喷洒于基板的表面。

权利要求

1.一种光阻涂布设备，用以对一基板涂布一光阻，包括：一平台，用以置放该基板；

一清洁装置，在该平台上方移动，以真空吸力清除多个微粒；以及光阻涂布装置，对该基板喷洒该光阻，

其中，该清洁装置包括一吹气单元以及一吸气单元，该吹气单元朝该基板吹出一气体，以使所述多个微粒脱离该基板，该吸气单元以真空吸力清除该基板表面的所述多个微粒，其中，该吹气单元包括一吹气口，该吹气口为一狭缝，

其中，该吹气口的宽度约为1～2毫米。

2.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该清洁装置以扫描的方式清除该基板表面的所述多个微粒。

3.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该光阻涂布装置以扫描的方式将该光阻均匀喷洒于该基板之上。

4.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该吸气单元包括一吸气口，该吸气口为一狭缝。

5.根据权利要求4所述的光阻涂布设备，其中，该吸气口的宽度约为1～2毫米。

6.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该吹气单元的吹气压力约为12～14千帕。

7.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该吸气单元的吸气压力约为-12～-14千帕。

8.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该清洁装置包括两个吹气单元以及一吸气单元，所述吹气单元位于该吸气单元的两侧，所述吹气单元朝该基板吹出一气体，以使所述多个微粒脱离该基板，该吸气单元以真空吸力清除该基板表面的所述微粒。

9.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其中，该清洁装置包括一吹气单元以及两个吸气单元，所述吸气单元位于该吹气单元两侧，该吹气单元朝该基板吹出一气体，以使所述多个微粒脱离该基板，所述吸气单元以真空吸力清除该基板表面的所述多个微粒。

10.根据权利要求1所述的光阻涂布设备，其还包括一制作过程腔体，其中，该平台、该清洁装置以及该光阻涂布装置均设于该制作过程腔体之中。

11.一种光阻涂布方法，包括：

(a)提供如权利要求1所述的光阻涂布设备；

(b)将该基板置于该平台之上；以及

(c)同时将该清洁装置以及该光阻涂布装置从一第一位置朝一第一方向移动至一第二位置，此时，该清洁装置位于该光阻涂布装置的前方，该清洁装置预先清除该基板上的所述多个微粒，该光阻涂布装置随后对该基板喷洒该光阻。

12.根据权利要求11所述的光阻涂布方法，其中，在步骤(a)与步骤(b)之间，还包括以该清洁装置清除该平台上的所述多个微粒的步骤(d)。

13.根据权利要求12所述的光阻涂布方法，其中，在该步骤(d)中，该清洁装置沿一第二方向，从该第二位置移动至该第一位置，并同时清除该平台上的所述多个微粒。

14.根据权利要求13所述的光阻涂布方法，其中，在该步骤(c)之后，还包括将该光阻涂布装置沿该第二方向，从该第二位置移动至该第一位置的步骤(e)。

说明书

发明领域

本发明涉及一种光阻涂布设备和方法，具体地，涉及一种可控制微粒数量的光阻涂布设备和方法。

技术背景

目前一般应用于大尺寸液晶面板制作过程的光阻涂布设备，如图1a所显示的，是利用一光阻涂布装置10，以扫描的方式朝一第一方向x移动，将光阻2均匀喷洒涂布于基板1的表面。参照图1b，光阻涂布装置10包括喷头11，喷头11中央具有一狭缝12，而光阻(剂)2即从该狭缝12之间喷洒而出。这种类型的设计已见于东京应化工业(TOK)等公司所提供的光阻涂布设备之中。

在光阻涂布制作过程中，基板与传输设备所携带的微粒，以及光阻涂布设备本身所产生的微粒，都会随着时间逐渐于光阻涂布设备内累积，并可能会污染基板，降低产品的质量。

发明内容

本发明即为了欲解决上述现有技术的问题，而提供一种光阻涂布设备，包括一光阻涂布装置、一清洁装置以及一平台。其中，该清洁装置包括一吹气单元以及一吸气单元，该吹气单元朝该基板吹出一气体，以使所述多个微粒脱离该基板，该吸气单元以真空吸力清除该基板表面的所述多个微粒。其中，该吹气单元包括一吹气口，该吹气口为一狭缝，并且该吹气口的宽度约为1～2毫米。基板置放于平台之上。当涂布光阻时，清洁装置先清除基板表面的微粒，接着，光阻涂布装置将光阻均匀喷洒于基板的表面。
本发明可在光阻涂布之前，预先对基板进行清洁，因此可减少基板表面的微粒，提升产品的质量。此外，本发明同时对用于置放基板的平台进行清洁，以进一步清除光阻涂布设备内的微粒，因此，可有效控制光阻涂布设备之内的微粒数量。
附图简述
图1a是显示现有技术的光阻涂布设备的示意图；
图1b是显示光阻涂布装置的细部结构的示意图；
图2是显示本发明的光阻涂布设备的示意图；
图3a是显示图2中清洁装置的A-A方向截面图；
图3b是显示清洁装置的仰视图；
图3c是显示清洁装置的清洁情形的示意图；
图3d是显示本发明的清洁装置的变形例的示意图；
图3e是显示图3d中的清洁装置的清洁情形的示意图；以及
图4a、4b、4c和4d是显示本发明的清洁步骤的示意图。
符号说明
1～基板                    2～光阻
3～微粒                    10～光阻涂布装置
11～喷头                   12～狭缝
20～清洁装置               21、21’～吸气单元
22、22’～吹气单元         23～吸气口
24～吹气口                 30～平台
40～制作过程腔体           100～光阻涂布设备
发明详述
参照图2，其显示了本发明的光阻涂布设备100，包括一光阻涂布装置10、一清洁装置20、一平台30以及一制作过程腔体40。光阻涂布装置10、清洁装置20以及平台30均设于制作过程腔体40之中。基板1置放于平台30之上。当涂布光阻2时，清洁装置20先清除基板1表面的微粒，接着，光阻涂布装置10将光阻2均匀喷洒于基板1的表面。
参照图3a，其显示了图2中清洁装置20的A-A方向截面图。清洁装置20包括一吸气单元(吸气腔体)21以及两个吹气单元(吹气腔体)22，吹气单元22位于吸气单元21的两侧。吸气单元21具有吸气口23，吹气单元22具有吹气口24。参照图3b，其显示了清洁装置20的仰视图，吸气口23及吹气口24均为长条形的狭缝，其宽度约为1～2毫米。参照图3c，吹气单元22连接一吹气管路(未示出)，当进行清洁时，吹气单元22从吸气单元21两侧，朝基板1吹出一气体(空气)，以使基板1表面的微粒3脱离该基板1，同时，吸气单元21以真空吸力将微粒3吸入吸气单元21之中。吸气单元21连接一真空管路(未图标)，微粒3进入吸气单元21之后，可通过该真空管路而排出该光阻涂布设备100。该吹气单元22的吹气压力约为12～14千帕。该吸气单元21的吸气压力约为-12～-14千帕。当清洁装置20作用时，吸气单元21的吸气压力可略大于吹气单元22的吹气压力。
参照图3d，其显示了本发明的清洁装置的变形例，其特点在于，吸气单元21’位于吹气单元22’的两侧。参照图3e，吹气单元22’连接一吹气管路(未示出)，当进行清洁时，吹气单元22’朝基板1吹出一气体(空气)，以使基板1表面的微粒3脱离该基板1，同时，吸气单元21’于该吹气单元22’的两侧，以真空吸力将微粒3吸入吸气单元21’之中。吸气单元21’连接一真空管路(未示出)，微粒3进入吸气单元21’之后，可通过该真空管路而排出该光阻涂布设备100。
虽然在本发明之实施例中，吸气单元以及吹气单元均为腔体结构，吸气口及吹气口均为长条形的狭缝。然而，其并未限制本发明的实施方式，吸气单元以及吹气单元也可以为管路结构，而吸气口及吹气口也可以为孔状结构。或者单纯利用吸气单元移除微粒，而省略该吹气单元。
以下说明本发明的光阻涂布设备100的操作情形。参照图4a，首先，在该制作过程腔体40之中，该光阻涂布装置10位于一第一位置，该清洁装置20位于一第二位置。接着，如图4b所显示的，该清洁装置20沿一第二方向-x，从该第二位置移至该第一位置，并同时清除该平台30上的微粒。参照图4c，在清洁装置20清洁完该平台30并位于该第一位置之后，基板1被输送置放于该平台30之上。然后，如图4d所显示的，该光阻涂布装置10以及该清洁装置20同时朝该第一方向x，从该第一位置移动至该第二位置，此时，该清洁装置20位于该光阻涂布装置10的前方，该清洁装置20预先清除该基板1上的微粒，该光阻涂布装置10随后对该基板1喷洒光阻2。在光阻涂布完成之后，移除该基板，该清洁装置20停留在该第二位置，该光阻涂布装置10沿该第二方向-x，从该第二位置回到该第一位置，而恢复图4a的状态。
本发明可在光阻涂布之前，预先对基板进行清洁，因此可减少基板表面的微粒，提升产品的质量。此外，本发明同时对用于置放基板的平台进行清洁，以进一步清除光阻涂布设备内的微粒，因此，可有效控制光阻涂布设备之内的微粒数量。
虽然本发明已以具体的较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域普通技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，仍可做出许多更改和润饰，因此本发明的保护范围以所附的权利要求所界定的范围为准。