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91. 发明专利

JP2018150624A 3次元印刷のための装置、システム、および、方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018150624A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2018061485
申请日：2018-03-28
申请人：ヴェロ・スリー・ディー・インコーポレイテッド
发明人：ブラー,ベンヤミン , ミルシュタイン,エレル , シーリンガー,シャーマン , チュア,タイ・チェン , シメオニディス,キモン
IPC分类号： B22F3/105 , B33Y30/00 , B33Y10/00 , B29C64/214 , B29C64/153 , B29C64/40 , B29C64/218 , B29C64/209 , B22F3/16
CPC分类号： B23K26/346 , B22F3/003 , B22F3/004 , B22F3/105 , B22F3/1055 , B22F3/24 , B22F7/00 , B22F2003/1054 , B22F2003/1056 , B22F2003/1057 , B22F2003/1058 , B22F2003/1059 , B22F2003/248 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , B23K10/006 , B23K10/027 , B23K15/002 , B23K15/0026 , B23K15/0086 , B23K15/0093 , B23K15/02 , B23K26/0853 , B23K26/1224 , B23K26/123 , B23K26/144 , B23K26/16 , B23K26/22 , B23K26/32 , B23K26/342 , B23K26/70 , B23K26/702 , B23K2103/50 , B23K2103/52 , B28B1/001 , B28B17/0072 , B28B17/0081 , B29C64/106 , B29C64/153 , B29C64/165 , B29C64/171 , B29C64/188 , B29C64/194 , B29C64/20 , B29C64/255 , B29C64/264 , B29C64/35 , B29C64/386 , B29C64/40 , B29K2105/251 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/02 , B33Y70/00 , B33Y80/00 , C04B35/522 , C04B35/5626 , C04B35/565 , C04B35/64 , C04B2235/6026 , C22C38/00 , C22C38/02 , C22C38/44 , C22C38/58 , H05B6/68 , H05B6/80 , Y02P10/24 , Y02P10/295 , B22F2202/05 , B22F2201/20 , B22F2202/01
摘要：【課題】変形が回避できる3次元(3D)物体、3D印刷プロセス、ならびに3D物体の製作のための方法、装置、およびシステムの提供。【解決手段】造形テーブルに補助的な支持部を含んだ粉末材料2407の層を積層し、平準化部材を用いて支持部の表面近辺まで、粉末材料を取り除いて層を形成することにより変形の少ない3次元造形物を製造する。【選択図】図24

93. 发明专利

JP2017514701A ビームパルス内部の作業パラメータを変えることにより工作物に小孔を形成するための方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017514701A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2017500136
申请日：2015-03-19
申请人：プロ−ビームアクチェンゲゼルシャフトウントコンパニーコマンディトゲゼルシャフトアウフアクティーン , プロ−ビームアクチェンゲゼルシャフトウントコンパニーコマンディトゲゼルシャフトアウフアクティーン
发明人：ホーフナーミヒャエル , ホーフナーミヒャエル , ユルゲンススベン , ユルゲンススベン
IPC分类号： B23K15/00 , B23K15/02 , H01J37/30 , H01J37/305
CPC分类号： B23K15/085 , B23K15/0013 , B23K15/02 , B23K15/10
摘要：工作物(22)に特に円錐形の孔(48)を作製するための方法であって、以下のパラメータ群、即ちパルス長、ビーム径、ビーム電流、加速電圧、ビーム集束、電子ビーム(12)のビーム軸からの偏向、工作物(22)における電子ビーム(12)の運動速度から選択した1つ以上の作業パラメータを変えることによって孔(48)の輪郭形成と断面形状に影響を与えることができる。

94. 发明专利

JP6092465B1 3次元造形装置、3次元造形装置の制御方法および3次元造形装置の制御プログラム有权
标题翻译：三维建模装置，该控制方法的控制程序和3D建模装置的三维建模装置
公开(公告)号：JP6092465B1
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：JP2016510844
申请日：2015-12-07
申请人：技術研究組合次世代3D積層造形技術総合開発機構
发明人：後藤和也
IPC分类号： B22F3/16 , B33Y30/00 , B33Y10/00 , H01J37/147 , H01J37/30 , H01J37/305 , B22F3/105
CPC分类号： B23K15/0086 , B23K15/002 , B23K15/02 , B29C64/153 , B29C64/35 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , B22F2003/1056 , B22F3/1055
摘要：粉体が過熱されることを抑制し、粉体の意図しない溶融も抑制して、造形精度を向上させる。3次元造形装置であって、電子ビームを発生させる電子銃と、前記電子ビームを1次元偏向または2次元偏向させる少なくとも1つの第1偏向器と、前記電子銃と前記第1偏向器との間に設けられ、前記電子ビームを集束させる少なくとも1つのレンズと、前記電子銃と前記第1偏向器との間に設けられ、前記電子ビームを1次元偏向または2次元偏向させる第2偏向器と、前記第1偏向器および前記第2偏向器による偏向方向および走査速度を制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記第1偏向器による走査速度が所定速度以下の間、前記第2偏向器による偏向方向および走査速度を制御する。
摘要翻译：为了防止粉末过热时，粉末的无意熔化被抑制，从而提高成型精度。三维建模装置，电子枪之间，用于产生电子束，并且至少一个第一偏转器到所述电子束是一维偏转或二维偏转，并在电子枪和所述第一偏转器提供，用于聚焦电子束，在所述电子枪和所述第一偏转器之间的至少一个透镜，所述第二偏转器到电子束是一维偏转或二维偏转，以及控制装置，用于控制偏转方向和所述第一偏转器和所述第二偏转器的扫描速度，其中，所述第一偏转器的扫描速度期间比规定速度以下的情况下，第二控制偏转方向和偏转器的扫描速度。

95. 发明专利

JP6053745B2 照射システムを制御する方法及び制御装置有权
标题翻译：如何控制照明系统和控制器
公开(公告)号：JP6053745B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2014238339
申请日：2014-11-26
申请人：エスエルエムソルーションズグループアーゲー
发明人：ディーターシュヴァルツェ , ヘンナーショーンボーン
IPC分类号： B33Y30/00 , B33Y10/00 , B22F3/16 , B22F3/105 , B23K26/21 , B23K26/342 , B23K26/03 , B23K26/08 , B29C67/00
CPC分类号： B23K15/004 , B22F3/1055 , B23K15/00 , B23K15/0086 , B23K15/02 , B23K15/10 , B23K26/144 , B23K26/34 , B23K26/60 , B23K26/702 , B29C67/0077 , B33Y30/00 , B22F2003/1057 , Y02P10/295

97. 发明专利

JPS59147786A Control device for beam current 失效
标题翻译：光束电流控制装置
公开(公告)号：JPS59147786A
公开(公告)日：1984-08-24
申请号：JP2308183
申请日：1983-02-15
申请人： Nec Corp
发明人： KANEUCHI HOUHACHI
IPC分类号： G05F1/02 , B23K15/02 , G05F1/10
CPC分类号： B23K15/02
摘要： PURPOSE:To reduce the rise/fall time of beam current by stopping feedback control in the state of the rise and fall of the beam current when the beam is on and performing feedback control at the point of the time when the set value of the beam current is attained. CONSTITUTION:An output (*1) of an AND gate 24 is off and the output (*2) of a NOT gate 25 is on until a set signal Ss' and a detection signal Fs coincide, and since an analog switch 20 goes on, the output of a buffer 9 is not impressed on a differential amplifier 10. The output from a function generator 12 is impressed at it is on the amplifier 10 and therefore the beam current rises. When the beam current increases to fs=fs', a comparator 23 turns on and impresses the detection signal fs to the amplifier 10 via the buffer 9 and therefore the feedback control circuit is formed.
摘要翻译：目的：通过在光束接通时在光束电流上升和下降的状态下停止反馈控制来减小光束电流的上升/下降时间，并在光束的设定值的时间点执行反馈控制电流达到。构成：与门24的输出（* 1）关闭，非门25的输出（* 2）导通，直到设定信号Ss'和检测信号Fs一致，并且由于模拟开关20导通缓冲器9的输出不会印在差分放大器10上。来自功能发生器12的输出被放大在放大器10上，因此电流流过上升。当光束电流增加到fs = fs'时，比较器23导通，并且经由缓冲器9将检测信号fs加到放大器10，因此形成反馈控制电路。

98. 发明专利

JPS58212883A Electron beam welding method 失效
标题翻译：电子束焊接方法
公开(公告)号：JPS58212883A
公开(公告)日：1983-12-10
申请号：JP9097683
申请日：1983-05-23
申请人： Hitachi Ltd
发明人： OKAMURA HISANOBU , SHIDA TOMOHIKO , ITOU KUNIO
IPC分类号： B23K15/02 , B23K15/00
CPC分类号： B23K15/02
摘要： PURPOSE:To weld thick plates forming uniform penetration bead without causing welding defect, by detecting beam current penetrated to the back of a welded member and controlling the intensity of irradiated electron beam to become required penetration beam current. CONSTITUTION:When droplet transfer of a welding spot 12 is progressed and a proper penetration bead 16 is formed on the back of a welded member 10, a feed back signal 54 of a detector 36 becomes nearly the same with a set signal 56. When melting of the welded spot is further advanced, and strength of penetration beam 32 becomes large, the feed back signal 54 becomes larger than the set signal 56. Then, output of a comparator 40 is turned on, and controlling voltage is given to an automatic carrier 42. Phase angle is controlled and waveform shaped to steep pulse voltage. The signal 54 is signal insulated by a pulse transformer, and a thyristor amplifier 46 controls flow angle and performs power conversion. Output of a grid bias power source 52 is controlled by a converter 48, and proper grid voltage is impressed to a grid 50, and strength of penetration beam 32 becomes proper strength.
摘要翻译：目的：通过检测穿透到焊接部件背面的束电流并控制被照射的电子束的强度成为所需的穿透光束电流，焊接形成均匀穿透珠的厚板而不引起焊接缺陷。构成：当焊接点12的液滴转移进行并且在焊接构件10的背面上形成适当的穿透珠16时，检测器36的反馈信号54与设定信号56几乎相同。当熔化焊接点的进一步提高，穿透梁32的强度变大，反馈信号54变得比设定信号56大。然后，比较器40的输出导通，控制电压被赋予自动载体相位角被控制，波形整形成陡峭的脉冲电压。信号54由脉冲变压器信号绝缘，晶闸管放大器46控制流角并进行功率转换。栅极偏置电源52的输出由转换器48控制，并且正确的电网电压被施加到栅格50，并且穿透光束32的强度变成适当的强度。

99. 发明授权

EP3213854B1 METHOD, SYSTEM AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM FOR ENERGY DEPOSITION FOR PROCESSING GAS TURBINE ENGINE COMPONENTS 有权
公开(公告)号：EP3213854B1
公开(公告)日：2018-12-12
申请号：EP17153748.3
申请日：2017-01-30
申请人： Rolls-Royce Corporation
发明人： Ribic, Brandon , Shuck, Quinlan , Earle, Pavlo , Bader, Jacque
IPC分类号： B23K15/00 , B23K26/34 , B23K26/70 , B23K101/00 , B23K103/18
CPC分类号： B23K15/02 , B23K15/0006 , B23K15/0026 , B23K15/0086 , B23K26/34 , B23K26/342 , B23K26/702 , B23K26/703 , B23K2101/001 , B23K2103/26 , B23P6/002 , B23P6/045
摘要： The present disclosure realtes to a system including an energy source, a material delivery device, and a computing device. The computing device, based on a target height of a layer deposited on a component by directed energy deposition, controls an energy source directed at a component and controls also a material delivery device. Controlling the energy source includes advancing an energy beam along a first path to form an advancing molten pool on the component. Controlling the material delivery device include delivering a material to the advancing molten pool. The material combines with the advancing molten pool to form a first raised track having an actual height. The layer includes the first raised track. A deposited region of the component includes the layer. The actual height affects a resultant microstructure within the deposited region.

100. 发明授权

EP3248209B1 METHOD FOR CHARACTERIZING AN ELECTRON BEAM 有权
公开(公告)号：EP3248209B1
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：EP16700752.5
申请日：2016-01-15
申请人： ARCAM AB
发明人： LOCK, Tomas
IPC分类号： H01J37/30 , B23K15/00 , H01J37/304 , B29C67/00 , B22F3/105
CPC分类号： H01J37/3045 , B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B22F2003/1057 , B23K15/0013 , B23K15/002 , B23K15/0026 , B23K15/0086 , B23K15/02 , B28B1/001 , B28B17/00 , B28B17/0081 , B29C64/153 , B29C64/20 , B29C64/386 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/02 , G01T1/295 , H01J37/09 , H01J37/244 , H01J37/30 , H01J37/3005 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01J2237/0453 , H01J2237/2445 , H01J2237/2448 , H01J2237/24514 , H01J2237/2826 , H01J2237/30433 , H01J2237/3045 , H01J2237/30472 , H01J2237/3128 , Y02P10/295
摘要： A device for detecting X-rays radiated out of a substrate surface, said device comprising at least one X-ray detector, a resolver grating and a modulator grating, said resolver grating with at least one opening facing towards said X-ray detector is arranged in front of said X-ray detector. Said modulator grating is provided between said resolver grating and said substrate at a predetermined distance from said resolver grating and said substrate, where said modulator grating having a plurality of openings in at least a first direction, wherein said x-rays from said surface is spatially modulated with said modulator grating and resolver grating.

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