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81. 发明公开

CN1752712A 干涉仪装置用光量比调节滤光片、干涉仪装置及光干涉测定方法失效
公开(公告)号：CN1752712A
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN200510103631.7
申请日：2005-09-06
申请人：富士能株式会社
发明人：植木伸明
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02058 , G01B9/02057 , G01J3/0213 , G01J2009/0292
摘要：在干涉仪的基准面和被检测面之间配置光量比调节滤光片(112)。该光量比调节滤光片(112)，是在由玻璃构成的透明基板的被测体(117)侧的面上，设置包括光反射吸收层(12a)和电介体防止反射层(12b)的光量比调节膜(12)，而在基准面(116a)侧的面上设置防止光反射层(13)，其作用是相对于从基准面对置面侧入射的入射光，反射其部分、吸收剩余部分之后将其余下部分向被测体(117)射出，另外，相对于从被测体(117)返回的返回光，吸收其部分、另方面抑制反射、将剩余作为被检测光向基准面(116a)方向射出。

82. 发明公开

CN1685196A 干涉测量装置失效
公开(公告)号：CN1685196A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03822831.9
申请日：2003-03-28
申请人：罗伯特·博世有限公司
发明人： D·马沙尔 , M·-H·迪沃伊辛 , D·布赖德尔 , P·德拉巴雷克
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02065 , G01B9/0205 , G01B9/02057 , G01B9/0209
摘要：本发明涉及一种干涉测量装置用于检测一个测量物体(8)表面的形状、粗糙度和距离，它有一个调制干涉仪(2)，从一个射线源(1)将短相干的射线输给这干涉仪，而且这干涉仪具有第一个分光器(2.3)用于将输入的射线分离成一个通过第一个臂引导的第一个分支光(2.1)和一个通过第二个臂引导的第二个分支光(2.1’)，其中借助于一个调制装置(2.2，2.2’)使一个分支光相对于另一个在其光相位或光频率上移动，并经过一个延迟段(2.9’)，接着这些分支光会聚在调制干涉仪(2)的另一个分光器(2.10)上；还有一个与调制干涉仪(2)在空间上分开的，并用这测量干涉仪通过一种光导纤维装置(6)耦合的或者可耦合的测量探头(3)，在这测量探头里会聚起来的分支光被分离成一束通过具有一个倾斜的物体侧的出口表面(3.4)的探头－类导纤维单元(3.1，3.2)通向表面的测量光线和一束参照光线，并且在这探头里使在表面上反射的测量光线(r1(t))和在一个参照平面上反射的参照光线(r2(t))重迭起来；而且还有一个接收装置(4)和一个分析处理单元(5)用于将传送给它的射线转变成电信号并用于根据相位差来分析处理信号。准确地表面测量可按如下方法变得更有利：出口表面(3.4)相对于光学探头轴线(3.5)的法线的倾角(r)至少达46°。

83. 发明公开

CN1653314A 表面成型设备失效
公开(公告)号：CN1653314A
公开(公告)日：2005-08-10
申请号：CN03810843.7
申请日：2003-03-13
申请人：泰勒·霍布森有限公司
发明人： A·D·班克赫德 , I·麦克唐奈
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02 , G06F17/15
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02057 , G01B9/02069 , G01B9/02083 , G01B9/0209
摘要：沿采样路径(SP)朝向样品表面(7)并且沿参考路径(RP)朝向参考表(6)引导来自于宽带源的光线，如此使得样品表面区域反射的光线与参考表面反射的光线相干涉。移动器(11)在样品表面(7)和参考表面(6)之间沿扫描路径实现相对移动。检测器(10)以一定间隔感测光强以便提供一系列强度值，其表示样品表面区域产生的干涉条纹。数据处理器具有当前处理部件(34a；340)，用于在测量操作期间当接收装置接收到强度值时对强度值执行处理，以便产生表明相干峰值位置的数据，以及后续处理部件(34b；350)，在完成测量操作之后，使用由并行部件产生的数据来获得表明表面区域高度的数据。其中一个处理部件具有相关器(44；440)，用于将强度值与表示相关函数的相关函数数据相关，以便提供相关数据来识别相干峰值的位置。所述后续处理部件具有表面形貌确定器(35；350)，用于根据相干峰值位置数据来确定样品表面区域的高度。

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