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    • 9. 发明专利
    • 構造化被覆部を基板上に形成する方法および被覆済み基板
    • 在基材和涂层基材上形成结构化涂层部分的方法
    • JP2016166425A
    • 2016-09-15
    • JP2016086128
    • 2016-04-22
    • エムエスゲー リトグラス ゲーエムベーハー
    • ユルゲン,ライブウリ,ハンセンジモン,マウス
    • C23C14/04
    • C23C14/10C23C14/081C23C14/083G02B6/132H01L21/4846H01L23/49894H01L2924/0002H01L2924/09701Y10T428/24174Y10T428/24802Y10T428/24926
    • 【課題】基板上における構造化被覆部の形成に関連する技術を向上させる方法の提供。 【解決手段】構造化被覆部を基板上に形成する方法であって、被覆される表面を有する基板1を準備するステップと、基板上に第1層72を積層するステップと、第1層上に第2層70を積層するステップと、第2層上に第3層71を積層するステップとを含み、第1、第2、および第3層の夫々は、蒸着被覆物質を積層して形成され、蒸着被覆物質は、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、窒化ケイ素又は、二酸化チタンから選択され、蒸着被覆物質の熱蒸着法が実施され、第2層は、加法的構造化法によって構造化され、熱蒸着法は、プラズマ促進熱電子ビーム蒸着として実施され、第1層の蒸着被覆物質は、第2層の蒸着被覆物質の光学屈折率よりも低い光学屈折率を有し、第3層の蒸着被覆物質は、第2層の蒸着被覆物質の光学屈折率よりも低い光学屈折率を有する方法。 【選択図】図7
    • 要解决的问题:提供一种改善与在基板上形成结构化涂层部分相关的技术的方法。解决方案:本发明涉及在基板上形成结构化涂层部分的方法,该方法包括以下步骤: :制备具有待涂覆表面的基材1; 在基板上层叠第一层72; 在第一层上层叠第二层70; 并且在第二层上层压第三层71。 第一层,第二层和第三层分别通过层压气相沉积的涂层物质形成,所述气相沉积涂层物质从氧化铝,二氧化硅,氮化硅和二氧化钛中选出。 在该方法中,实施用于蒸镀涂层物质的热蒸镀法,通过添加结构化方法对第二层进行结构化,将热蒸镀法实施为等离子体加速热电子束蒸镀法。 此外,第一层的气相沉积涂层物质具有比第二层的气相沉积涂层物质低的光学折射率,并且第三层的气相沉积涂层物质具有比蒸气更低的光学折射率 - 第二层的沉积涂层物质。选择图:图7