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该申请人涉及专利文献：4296，涉及专利：2762件

覆盖主要的IPC大类包括：G03(2313)、H01(817)、G01(251)、G02(190)、H05(188)、G06(154)、G21(59)、G05(41)、H02(26)、F16(26)

专利类型分布状况：发明公开(2761)、实用新型(1)

专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1106)、实质审查(891)、失效专利(428)、无效专利(195)、公开(139)

该领域主要的发明人有：H·巴特勒(51)、W·T·特尔(35)、A·J·登博夫(34)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(28)、N·潘迪(25)、任伟明(23)、A·亚库宁(22)、P·W·H·德贾格(19)、J·J·M·巴塞曼斯(18)

详细地址：荷兰荷兰维德霍温

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专利类型	专利名称	文献号
发明公开	传感器系统	CN117916670A
发明授权	用于确定与期望图案相关联的随机变化的方法	CN113874787B
发明授权	用于确定取样方案的方法、半导体衬底测量设备、光刻设备	CN113906347B
发明公开	物体夹持器、保持物体的方法以及光刻设备	CN117859101A
发明授权	量测方法、设备和计算机程序	CN112352202B
发明公开	带电粒子光学设备、带电粒子装置及方法	CN117836892A
发明公开	光子晶体或高度非线性光纤中的改进的宽带辐射产生	CN117836713A
发明公开	用于对衬底区域上的测量数据进行建模的方法及相关联的设备	CN117813555A
发明公开	用于对衬底区域上的测量数据进行建模的方法及相关设备	CN117813554A
发明公开	掩模缺陷检测	CN117813547A
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排名	企业名称	专利
1	ASML荷兰有限公司	4293
2	ASML荷兰有限公司(NL)	2
3	ASML 荷兰有限公司	1

排名	发明人	专利
1	H·巴特勒	51
2	W·T·特尔	35
3	A·J·登博夫	34
4	J·洛夫	30
5	A·J·布里克	28
6	N·潘迪	25
7	任伟明	23
8	A·亚库宁	22
9	P·W·H·德贾格	19
10	J·J·M·巴塞曼斯	18

排名	企业名称	专利
1	中科专利商标代理有限责任公司	2689
2	北京市金杜律师事务所	1124
3	中国专利代理(香港)有限公司	465
4	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	3

排名	代理人	专利
1	王波波	755
2	王茂华	489
3	张启程	440
4	吴敬莲	334
5	王益	259
6	胡良均	251
7	王静	249
8	王新华	239
9	张宁	197
10	吕世磊	162