该申请人涉及专利文献:9481,涉及专利:6502件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(4612)、C23(1635)、B24(295)、G03(248)、H05(239)、G01(234)、G06(175)、G02(159)、H10(136)、B23(100)
专利类型分布状况:发明公开(6024)、实用新型(327)、外观设计(151)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(2472)、实质审查(2156)、无效专利(1051)、失效专利(703)、公开(118)
该领域主要的发明人有:约瑟夫·M·拉内什(94)、J·Y·孙(67)、J·约德伏斯基(47)、D·卢博米尔斯基(45)、V·D·帕科(45)、斯蒂芬·莫法特(45)、刘树坤(32)、克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼(28)、栗田真一(27)、D·J·本韦格努(24)
详细地址:美国 美国加利福尼亚州
专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
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发明公开 | 用薄膜沉积和离子植入对基板变形进行基于影响函数的减轻 | CN120660181A |
发明授权 | 用于同时的基板传送的机器人 | CN114097071B |
发明公开 | 用于经由成像来校准基板处理腔室放置的方法和设备 | CN120642041A |
发明公开 | 掺杂的非晶硅光学器件膜及经由掺入掺杂原子的沉积 | CN120624984A |
发明授权 | 具有内部通道的半导体基板支撑件 | CN115362541B |
发明授权 | 以高能量低剂量等离子体后处理氮化硅基的介电膜的方法 | CN114127898B |
发明授权 | 用于斜面蚀刻腔室的加热器支撑套件 | CN114026673B |
发明授权 | 具有嵌入式加热器的面板 | CN110808201B |
发明公开 | 用于减轻基板中的应力和变形的优化的薄膜沉积和离子植入 | CN120604322A |
发明授权 | 图案化金属氧化物光刻胶的剂量减量 | CN114223050B |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 应用材料公司 | 9474 |
2 | 应用材料公司(US) | 6 |
3 | 意大利应用材料公司 | 1 |
排名 | 发明人 | 专利 |
---|---|---|
1 | 约瑟夫·M·拉内什 | 94 |
2 | J·Y·孙 | 67 |
3 | J·约德伏斯基 | 47 |
4 | D·卢博米尔斯基 | 45 |
5 | V·D·帕科 | 45 |
6 | 斯蒂芬·莫法特 | 45 |
7 | 刘树坤 | 32 |
8 | 克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼 | 28 |
9 | 栗田真一 | 27 |
10 | D·J·本韦格努 | 24 |
排名 | 企业名称 | 专利 |
---|---|---|
1 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 5433 |
2 | 上海专利商标事务所有限公司 | 3339 |
3 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 638 |
4 | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 19 |
5 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 10 |
6 | 北京市柳沈律师事务所 | 4 |
7 | 永新专利商标代理有限公司 | 3 |
8 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 1 |
9 | 北京市君合律师事务所 | 1 |
排名 | 代理人 | 专利 |
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1 | 徐金国 | 5419 |
2 | 赵静 | 3888 |
3 | 侯颖媖 | 2250 |
4 | 吴启超 | 1044 |
5 | 张鑫 | 672 |
6 | 汪骏飞 | 440 |
7 | 黄嵩泉 | 322 |
8 | 赵飞 | 311 |
9 | 陆嘉 | 260 |
10 | 杨学春 | 238 |