该申请人涉及专利文献：5111，涉及专利：3258件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2640)、H01(969)、G01(318)、G02(239)、H05(217)、G06(211)、G21(64)、G05(49)、F16(33)、H02(31)
专利类型分布状况：发明公开(3257)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1341)、实质审查(1001)、失效专利(516)、无效专利(211)、公开(186)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(56)、W·T·特尔(43)、A·J·登博夫(35)、任伟明(35)、J·洛夫(30)、N·潘迪(28)、A·J·布里克(26)、M·J-J·维兰德(22)、方伟(22)、王勇新(21)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 具有带电粒子源的扫描电子显微镜的新的设计概念 | CN120380567A |
| 发明公开 | 流体处理系统和方法 | CN120380422A |
| 发明公开 | 光刻设备、量测系统、自适应相控阵照射和收集器装置及其方法 | CN120359462A |
| 发明公开 | 用于光刻设备的原位清洁 | CN120344913A |
| 发明公开 | 受控的液滴生成器喷嘴环境以提高可靠性 | CN120304016A |
| 发明公开 | 用于冷场发射电子源的真空腔 | CN120283289A |
| 发明公开 | EUV利用系统和方法 | CN120283200A |
| 发明公开 | 流体处理系统、方法和光刻设备 | CN120266062A |
| 发明公开 | 利用集成的光子传感器确定用于对衬底成像的聚焦位置 | CN120266057A |
| 发明授权 | 用于自适应对准的方法和装置 | CN112955926B |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5108 |
| 2 | ASML荷兰有限公司(NL) | 2 |
| 3 | ASML 荷兰有限公司 | 1 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 56 |
| 2 | W·T·特尔 | 43 |
| 3 | A·J·登博夫 | 35 |
| 4 | 任伟明 | 35 |
| 5 | J·洛夫 | 30 |
| 6 | N·潘迪 | 28 |
| 7 | A·J·布里克 | 26 |
| 8 | M·J-J·维兰德 | 22 |
| 9 | 方伟 | 22 |
| 10 | 王勇新 | 21 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3137 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1491 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 543 |
| 3 | 王茂华 | 504 |
| 4 | 王益 | 409 |
| 5 | 胡良均 | 373 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 张宁 | 249 |
| 8 | 王静 | 249 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 赵林琳 | 214 |
