该申请人涉及专利文献：5024，涉及专利：3186件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2598)、H01(945)、G01(312)、G02(229)、H05(213)、G06(205)、G21(63)、G05(48)、F16(33)、H02(29)
专利类型分布状况：发明公开(3185)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1332)、实质审查(958)、失效专利(509)、无效专利(211)、公开(173)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(55)、W·T·特尔(42)、A·J·登博夫(35)、任伟明(34)、J·洛夫(30)、N·潘迪(28)、A·J·布里克(26)、M·J-J·维兰德(22)、方伟(21)、王勇新(21)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 带电粒子光学装置 | CN120113027A |
| 发明公开 | 模拟用于基于衍射的光学量测的半导体结构的电磁响应 | CN120112855A |
| 发明公开 | 定位系统和使用定位系统定位可移动物体的方法 | CN120112854A |
| 发明公开 | 用于量测设备的照射模块 | CN120092202A |
| 发明公开 | 同时自动聚焦和局部对准方法 | CN120077407A |
| 发明公开 | 用于检查聚焦测量的方法和设备 | CN120077332A |
| 发明公开 | 用于操作量测设备的检测系统的方法和相关联的量测设备 | CN120077330A |
| 发明公开 | 用于减轻掩模误差影响的源优化 | CN120051731A |
| 发明公开 | 电连接测试 | CN120051694A |
| 发明公开 | 粒子转移设备及方法 | CN120051434A |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5021 |
| 2 | ASML荷兰有限公司(NL) | 2 |
| 3 | ASML 荷兰有限公司 | 1 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 55 |
| 2 | W·T·特尔 | 42 |
| 3 | A·J·登博夫 | 35 |
| 4 | 任伟明 | 34 |
| 5 | J·洛夫 | 30 |
| 6 | N·潘迪 | 28 |
| 7 | A·J·布里克 | 26 |
| 8 | M·J-J·维兰德 | 22 |
| 9 | 方伟 | 21 |
| 10 | 王勇新 | 21 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3079 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1462 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 527 |
| 3 | 王茂华 | 504 |
| 4 | 王益 | 389 |
| 5 | 胡良均 | 360 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 王静 | 249 |
| 8 | 张宁 | 242 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 赵林琳 | 211 |