该申请人涉及专利文献：5206，涉及专利：3326件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2685)、H01(994)、G01(325)、G02(241)、H05(221)、G06(213)、G21(64)、G05(49)、F16(34)、H02(32)
专利类型分布状况：发明公开(3325)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1359)、实质审查(1020)、失效专利(523)、无效专利(212)、公开(209)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(56)、W·T·特尔(44)、A·J·登博夫(35)、任伟明(35)、J·洛夫(30)、N·潘迪(28)、A·J·布里克(26)、M·J-J·维兰德(22)、方伟(22)、王勇新(22)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 用于光学部件的拆分系统 | CN120641834A |
| 发明公开 | 用于YIELDSTAR的第二照射模式选择器（IMS） | CN120641820A |
| 发明授权 | 图案形成装置 | CN113811816B |
| 发明公开 | 用于确定光学属性的方法 | CN120604169A |
| 发明公开 | 从EUV光刻设备中的表面移除分子 | CN120569676A |
| 发明公开 | 光刻设备及控制衬底支撑件的方法 | CN120548511A |
| 发明授权 | 检测辐射束的光刻设备和方法 | CN114450636B |
| 发明公开 | 用于校准光刻设备的衬底 | CN120513433A |
| 发明授权 | 辐射源 | CN114174909B |
| 发明公开 | 利用管芯致动器用于异质集成的拾取和放置 | CN120457529A |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5203 |
| 2 | ASML荷兰有限公司(NL) | 2 |
| 3 | ASML 荷兰有限公司 | 1 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 56 |
| 2 | W·T·特尔 | 44 |
| 3 | A·J·登博夫 | 35 |
| 4 | 任伟明 | 35 |
| 5 | J·洛夫 | 30 |
| 6 | N·潘迪 | 28 |
| 7 | A·J·布里克 | 26 |
| 8 | M·J-J·维兰德 | 22 |
| 9 | 方伟 | 22 |
| 10 | 王勇新 | 22 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3188 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1535 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 556 |
| 3 | 王茂华 | 506 |
| 4 | 王益 | 416 |
| 5 | 胡良均 | 387 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 张宁 | 254 |
| 8 | 王静 | 249 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 赵林琳 | 222 |
