1.一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于一种图案化热辐射调控器件的制备方法是按以下步骤完成的：一、制备镀金/尼龙66基底：

在真空条件下，在尼龙66基底上热蒸镀金颗粒，得到镀金/尼龙66基底；

二、电子束蒸镀V2O5薄膜：

通过电子束蒸发技术使用V2O5颗粒在步骤一中所述的镀金/尼龙66基底上沉积图案化的V2O5薄膜，得到V2O5薄膜/镀金/尼龙66基底；

三、配制聚合溶液：

①、配制樟脑磺酸的水溶液；

②、将蒸馏过的苯胺加入到步骤三①中所述的樟脑磺酸的水溶液中，搅拌至混合均匀，得到混合溶液；

四、原位氧化制备聚苯胺薄膜：

①、将步骤二中所述的V2O5薄膜/镀金/尼龙66基底浸入步骤三中所述的混合溶液中，再在室温下反应，得到聚苯胺薄膜；

②、将步骤四①中所述的聚苯胺薄膜浸入到稀盐酸中，反应一段时间，以消除未反应的苯胺单体和残留的V2O5，再在烘箱中干燥，得到清洗后的聚苯胺薄膜；

五、制备电解质薄膜：

①、将高氯酸锂溶于1,2‑丙二醇碳酸酯中，得到PC‑LiClO4电解质溶液；

②、将PVDF‑HFP薄膜浸入步骤五①中所述的PC‑LiClO4电解质溶液中，反应一段时间，得到吸附PC‑LiClO4的电解质薄膜；

六、制备聚苯胺器件：

将PE膜、步骤四②中所述的清洗后的聚苯胺薄膜、步骤五中所述的吸附PC‑LiClO4的电解质薄膜和PET膜按照PE膜/清洗后的聚苯胺薄膜/吸附PC‑LiClO4的电解质薄膜/清洗后的聚苯胺薄膜/PET膜的顺序进行热压封装，得到图案化热辐射调控器件。

2.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤一中所述的尼龙66基底的厚度为0.095mm；所述的镀金/尼龙66基底上金膜的厚度为200nm～

350nm。

3.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤二‑4中所述的电子束蒸发技术是将腔室抽真空至低于6×10 Pa，并且在沉积过程中基板保持旋转以确保薄膜沉积的均匀性。

4.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤二中所述的图案化的V2O5薄膜的厚度为900nm或包含300nm，700nm和900nm；所述的图案化的V2O5薄膜的图案为熊猫或棋盘格。

5.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤三①中所述的樟脑磺酸的水溶液的浓度为0.1mol/L。

6.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤三②中所述的混合溶液中樟脑磺酸与苯胺的摩尔比为10:1。

7.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤三②中所述的搅拌的速度为700～800r/min，搅拌的时间为30min～60min。

8.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤四①中室温下反应的时间为24h；步骤四②中所述的反应的时间为30min；步骤四②中所述的干燥的温度为60℃，干燥的时间为30min；步骤四②中所述的稀盐酸的浓度为0.1mol/L。

9.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤五①中所述的PC‑LiClO4电解质溶液的浓度为1mol/L；步骤五②中所述的反应的时间为24h。

10.根据权利要求1所述的一种图案化热辐射调控器件的制备方法，其特征在于步骤六中所述的PE膜的厚度为0.023mm；吸附PC‑LiClO4的电解质薄膜的厚度为0.115mm，PET膜的厚度为0.078mm。