防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张

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防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张
申请号	CN202110034203.2	申请日	2021-01-11	公开(公告)号	CN112878107A	公开(公告)日	2021-06-01
申请人	中钞印制技术研究院有限公司; 中国印钞造币总公司;			发明人	刘卫东; 陈庚; 蹇钰; 王斌; 赵红梅; 刘萃;
摘要	本发明提供了一种防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张。防伪纸张的制造设备包括：纸张输送装置，纸张输送装置用于带动纸张移动，使纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；施胶装置，施胶装置用于在纸张的至少部分表面施加光敏材料；渗透缓冲装置，渗透缓冲装置用于使光敏材料渗透进入纸张；曝光装置，曝光装置用于对纸张进行局部图案化地曝光处理；显影装置，显影装置用于至少局部洗脱纸张之上的光敏材料；干燥装置，干燥装置用于对纸张进行干燥处理。通过本发明的技术方案获得的防伪纸张具有优异的防伪效果。
权利要求	1.一种防伪纸张的制造设备，其特征在于，包括：纸张输送装置，所述纸张输送装置用于带动纸张移动，使所述纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；所述施胶装置，所述施胶装置用于在所述纸张的至少部分表面施加光敏材料；所述渗透缓冲装置，所述渗透缓冲装置用于使所述光敏材料渗透进入所述纸张；所述曝光装置，所述曝光装置用于对所述纸张进行局部图案化地曝光处理；所述显影装置，所述显影装置用于至少局部洗脱所述纸张之上的所述光敏材料；所述干燥装置，所述干燥装置用于对所述纸张进行干燥处理。 2.根据权利要求1所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述曝光装置包括：图案生成装置，所述图案生成装置用于限定出所述纸张的待曝光区域；辐照光源，所述辐照光源用于对所述待曝光区域进行辐照。 3.根据权利要求2所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述辐照光源的辐照光波长范围为190纳米至510纳米。 4.根据权利要求2所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述图案生成装置包括：光掩膜，所述光掩膜具有图案，并用于覆盖所述纸张施加所述光敏材料的区域，以通过所述图案限定出所述待曝光区域；或投影装置，所述投影装置用于在所述纸张施加有所述光敏材料的区域进行投影以形成所述待曝光区域。 5.根据权利要求4所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述光掩膜为以整卷方式运行的柔性光掩膜，所述曝光装置还包括光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置，所述光掩膜放卷装置和所述光掩膜收卷装置相互配合，以向所述纸张施加所述柔性光掩膜；或所述光掩膜为以闭环方式循环运行的柔性光掩膜，所述曝光装置还包括光掩膜拼接装置和循环运行装置，所述光掩膜拼接装置和循环运行装置相互配合，以向所述纸张施加所述柔性光掩膜；或所述光掩膜为平板型光掩膜，所述曝光装置还包括光掩膜套准装置，所述光掩膜套准装置用于将所述平板型光掩膜和所述纸张相互对准。 6.根据权利要求1所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述施胶装置包括：涂布装置，所述涂布装置用于在所述纸张的至少部分表面涂布所述光敏材料；或印刷装置，所述印刷装置用于在所述纸张的至少部分表面印刷所述光敏材料。 7.根据权利要求1所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，还包括：筒纸放卷装置或平板纸输纸装置，所述筒纸放卷装置或平板纸输纸装置沿所述纸张的移动方向设于所述防伪纸张的制造设备的移动起始端，并用于向所述施胶装置供应所述纸张；和/或卷筒纸收卷装置或平板纸收纸装置，所述卷筒纸收卷装置或平板纸收纸装置沿所述纸张的移动方向设于所述防伪纸张的制造设备的移动结束端，并用于收卷来自所述干燥装置的所述纸张。 8.一种防伪纸张的制造方法，其特征在于，包括：在纸张的至少部分表面施加光敏材料，使光敏材料渗透进入所述纸张；对所述纸张进行局部图案化地曝光处理，使所述纸张之上形成局部图案；至少局部洗脱所述纸张之的所述光敏材料；对所述纸张进行干燥处理。 9.根据权利要求8所述的防伪纸张的制造方法，其特征在于，对所述纸张进行局部图案化地曝光处理，具体包括：在所述纸张施加所述光敏材料的区域覆盖具有图案的光掩模，并采用辐照光源对所述纸张施加有所述光敏材料的区域进行辐照；或在所述纸张施加有所述光敏材料的区域进行投影以形成图案，并采用辐照光源对所述纸张施加有所述光敏材料的区域进行辐照。 10.一种防伪纸张，其特征在于，所述防伪纸张采用如权利要求1至7中任一项所述的防伪纸张的制造设备制造；或所述防伪纸张采用如权利要求8或9所述的防伪纸张的制造方法制造。
说明书全文	防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张技术领域 [0001] 本发明涉及防伪产品的技术领域，具体而言，涉及防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张。背景技术 [0002] 相关技术中的防伪纸张通常设有防伪视窗。部分防伪视窗的制作是采用模切的方法在干燥纸张上切口形成。因此其难以形成精细图案，较易被伪造。另有部分防伪视窗的制作是在抄纸过程中采用不沉积纸浆的方式形成的，也同样存在难以形成精细图案的问题。还有部分防伪视窗的制作采用浸渍的方法，通过在纸张纤维空隙中填充有机物质形成透明纸，同样存在难以形成精细图案且容易被伪造的问题。发明内容 [0003] 本发明旨在解决上述技术问题的至少之一。 [0004] 为此，本发明的第一方面提供了一种防伪纸张的制造设备。 [0005] 本发明的第二方面提供了一种防伪纸张的制造方法。 [0006] 本发明的第三方面提供了一种防伪纸张。 [0007] 为实现本发明的第一方面，本发明的实施例提供了一种防伪纸张的制造设备，包括：纸张输送装置，纸张输送装置用于带动纸张移动，使纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；施胶装置，施胶装置用于在纸张的至少部分表面施加光敏材料；渗透缓冲装置，渗透缓冲装置用于使光敏材料渗透进入纸张；曝光装置，曝光装置用于对纸张进行局部图案化地曝光处理；显影装置，显影装置用于至少局部洗脱纸张之上的光敏材料；干燥装置，干燥装置用于对纸张进行干燥处理。 [0008] 本实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。 [0009] 另外，本发明上述技术方案还可以具有如下附加技术特征： [0010] 上述技术方案中，曝光装置包括：图案生成装置，图案生成装置用于限定出纸张的待曝光区域；辐照光源，辐照光源用于对待曝光区域进行辐照。 [0011] 图案生成装置施加或覆盖于纸张的至少部分表面，以由此限定出纸张的待曝光区域，辐照光源可向由图案生成装置限定出的待曝光区域施加光照，以使得待曝光区域的光敏材料发生光固化反应，并形成精细的局部图案。 [0012] 上述任一技术方案中，辐照光源的辐照光波长范围为190纳米至510纳米。 [0013] 190纳米至510纳米的长波紫外光或短波可见光能够使得光敏材料被有效固化，保证局部精细化图案清晰完整。 [0014] 上述任一技术方案中，图案生成装置包括：光掩膜，光掩膜具有图案，并用于覆盖纸张施加光敏材料的区域，以通过图案限定出待曝光区域；或投影装置，投影装置用于在纸张施加有光敏材料的区域进行投影以形成待曝光区域。 [0015] 光掩膜或投影装置均能够形成或表征出较为精细化、边界更为清晰细致的图案，因此，本技术方案能够进一步提高防伪图案的精细化程度，提高纸张的防伪效果。 [0016] 上述任一技术方案中，光掩膜为以整卷方式运行的柔性光掩膜，曝光装置还包括光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置，光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置相互配合，以向纸张施加柔性光掩膜；或光掩膜为以闭环方式循环运行的柔性光掩膜，曝光装置还包括光掩膜拼接装置和循环运行装置，光掩膜拼接装置和循环运行装置相互配合，以向纸张施加柔性光掩膜；或光掩膜为平板型光掩膜，曝光装置还包括光掩膜套准装置，光掩膜套准装置用于将平板型光掩膜和纸张相互对准。 [0017] 当采用光掩膜覆盖纸张，以使得纸张生成防伪图案，本实施例可通过相互配合的光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置，或通过相互配合的光掩膜拼接装置和循环运行装置，使得光掩膜自动移动，以与移动的纸张相互配合。 [0018] 上述任一技术方案中，施胶装置包括：涂布装置，涂布装置用于在纸张的至少部分表面涂布光敏材料；或印刷装置，印刷装置用于在纸张的至少部分表面印刷光敏材料。 [0019] 本实施例的涂布装置可在纸张的整体表面或局部表面涂布光敏材料，本实施例的印刷装置可通过例如喷墨印刷的方式将特定图案印刷于纸张之上，以保证防伪纸张的制造设备的工作效率。 [0020] 上述任一技术方案中，防伪纸张的制造设备还包括：筒纸放卷装置或平板纸输纸装置，筒纸放卷装置或平板纸输纸装置沿纸张的移动方向设于防伪纸张的制造设备的移动起始端，并用于向施胶装置供应纸张；和/或卷筒纸收卷装置或平板纸收纸装置，卷筒纸收卷装置或平板纸收纸装置沿纸张的移动方向设于防伪纸张的制造设备的移动结束端，并用于收卷来自干燥装置的纸张。 [0021] 本实施例为防伪纸张的制造设备设置实现纸张供应和收集的装置，以实现纸张的自动供应和自动收集。 [0022] 为实现本发明的第二方面，本发明的实施例提供了一种防伪纸张的制造方法，包括：在纸张的至少部分表面施加光敏材料，使光敏材料渗透进入纸张；对纸张进行局部图案化地曝光处理，使纸张之上形成局部图案；至少局部洗脱纸张之的光敏材料；对纸张进行干燥处理。 [0023] 本实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。 [0024] 另外，本发明上述技术方案还可以具有如下附加技术特征： [0025] 上述技术方案中，对纸张进行局部图案化地曝光处理，具体包括：在纸张施加光敏材料的区域覆盖具有图案的光掩模，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照；或在纸张施加有光敏材料的区域进行投影以形成图案，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照。 [0026] 光掩膜或投影装置均能够形成或表征出较为精细化、边界更为清晰细致的图案，因此，本技术方案能够进一步提高防伪图案的精细化程度，提高纸张的防伪效果。 [0027] 为实现本发明的第三方面，本发明的实施例提供了一种防伪纸张，防伪纸张采用如本发明的任一技术方案的防伪纸张的制造设备制造；或防伪纸张采用如本发明的任一技术方案的防伪纸张的制造方法制造。 [0028] 本发明的实施例的防伪纸张具有如本发明的任一技术方案的防伪纸张的制造设备或如本发明的任一技术方案的防伪纸张的制造方法的全部有益效果，在此不再赘述。 [0029] 本发明的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本发明的实践了解到。附图说明 [0030] 本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中： [0031] 图1为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之一； [0032] 图2为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之二； [0033] 图3为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之三； [0034] 图4为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之四； [0035] 图5为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之五； [0036] 图6为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之六； [0037] 图7为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之一； [0038] 图8为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之二； [0039] 图9为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之三； [0040] 图10为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之四； [0041] 图11为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之五； [0042] 图12为本发明一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之六； [0043] 图13为本发明一个实施例的防伪纸张的制造方法的步骤流程图。 [0044] 其中，图1至图12中附图标记与部件名称之间的对应关系为： [0045] 100：防伪纸张的制造设备，102：纸张输送装置，104：施胶装置，106：渗透缓冲装置，108：曝光装置，110：显影装置，112：干燥装置，114：筒纸放卷装置，116：卷筒纸收卷装置，118：平板纸输纸装置，120：平板纸收纸装置，122：涂布装置，124：印刷装置，126：辐照光源，128：图案生成装置，130：光掩膜，132：光掩膜印刷装置，134：激光刻蚀装置，136：投影装置，138：光掩膜放卷装置，140：光掩膜收卷装置，142：光掩膜拼接装置，144：循环运行装置， 146：光掩膜套准装置，148：压光装置，200：纸张。具体实施方式 [0046] 为了能够更清楚地理解本发明的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本发明进行进一步的详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。 [0047] 在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是，本发明还可以采用其他不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本发明的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。 [0048] 下面参照图1至图13描述本发明一些实施例的防伪纸张的制造设备100、防伪纸张的制造方法和防伪纸张。 [0049] 实施例1： [0050] 如图1所示，本实施例提供了一种防伪纸张的制造设备100，包括：纸张输送装置102、施胶装置104、渗透缓冲装置106、曝光装置108、显影装置110和干燥装置112。纸张输送装置102用于带动纸张200移动，使纸张200顺次经过施胶装置104、渗透缓冲装置106、曝光装置108、显影装置110和干燥装置112。施胶装置104用于在纸张200的至少部分表面施加光敏材料。渗透缓冲装置106用于使光敏材料渗透进入纸张200。曝光装置108用于对纸张200 进行局部图案化地曝光处理。显影装置110用于至少局部洗脱纸张200之上的光敏材料。干燥装置112用于对纸张200进行干燥处理。 [0051] 具体而言，施胶装置104由纸张200的第一侧面在纸张200的整体表面或局部表面涂布或印刷施加光敏材料，或用于由纸张200的第二侧面在纸张200的整体表面或局部表面施加光敏材料。曝光装置108用于由纸张200的第一侧面或第二侧面对纸张200施加光敏材料的区域进行局部图案化地曝光处理，使纸张200之上形成尺寸下限值小于或等于100微米的局部图案。显影装置110用于通过显影液至少局部洗脱纸张200之上的光敏材料。干燥装置112用于对纸张200进行红外干燥处理或热风干燥处理，去除纸张200之上的显影液。此外，如图2所示，在干燥装置112之后还可设置压光装置148，压光装置148可将经过干燥装置 112干燥的纸张200压平。 [0052] 本实施例的防伪纸张的制造设备100中，纸张输送装置102用于移动纸张200，以使得纸张200能够顺次地经过施胶装置104、渗透缓冲装置106、曝光装置108、显影装置110和干燥装置112。 [0053] 举例而言，如图11所示，曝光装置108包含的图案生成装置128为表面镂空的中空辊筒，辐照光源126位于辊筒内部，辐照光源126发射的光线可以透过辊筒表面的镂空区域。 [0054] 举例而言，如图10所示，曝光装置108在辐照光源126前还包含喷墨装置，用于在光掩膜130上喷印可变图文。辐照光源126发射的光线可以通过非喷印区域而无法通过喷印区域。 [0055] 举例而言，曝光装置108在辐照光源126前还包含激光刻蚀装置，用于在光掩膜上刻蚀可变图文。辐照光源126发射的光线可以通过刻蚀区域而无法通过非刻蚀区域。 [0056] 举例而言，如图12所示，曝光装置108包含的图案生成装置128为投影装置136，将辐照光源126所发射的光线以图案形式投影到纸张200表面，投影光斑与纸张200以相同的方向和速度运动。 [0057] 施胶装置104向纸张200施加例如光敏胶的光敏材料。渗透缓冲装置106供纸张200停留，以使得光敏材料充分地渗入纸张200。曝光装置108向纸张200施加特定波长的光进行辐照，以使得特定区域的光敏材料被固化，并形成防伪区。显影装置110设有能够清洗光敏材料的显影液，其中，经过固化的光敏材料在结构或性能等方面发生变化，因此其不会被显影液清洗，未经过固化的光敏材料在结构或性能等方面未发生变化，因此其会被显影液清洗。干燥装置112通过热风烘干或红外烘干的方式对纸张200进行干燥处理，使得显影液蒸发。 [0058] 本实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。 [0059] 实施例2： [0060] 如图1和图2所示，本实施例提供了一种防伪纸张的制造设备100，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0061] 曝光装置108包括：图案生成装置128和辐照光源126。图案生成装置128用于限定出纸张200的待曝光区域。辐照光源126用于对待曝光区域进行辐照。图案生成装置128施加或覆盖于纸张200正面或反面的部分表面或全部表面，以由此限定出纸张200的待曝光区域，辐照光源126可向由图案生成装置128限定出的待曝光区域施加光照，以使得待曝光区域的光敏材料发生光固化反应，并形成精细的局部图案。 [0062] 实施例3： [0063] 本实施例提供了一种防伪纸张的制造设备100，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0064] 辐照光源126的辐照光波长范围为190纳米至510纳米。190纳米至510纳米的长波紫外光或短波可见光能够使得光敏材料被有效固化，保证局部精细化图案清晰完整。 [0065] 实施例4： [0066] 如图1所示，本实施例提供了一种防伪纸张的制造设备100，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0067] 图案生成装置128包括：光掩膜130和投影装置136。光掩膜130具有图案，并用于覆盖纸张200施加光敏材料的区域，以通过图案限定出待曝光区域。投影装置136用于在纸张 200施加有光敏材料的区域进行投影以形成待曝光区域。光掩膜130之上的图案可通过光掩膜印刷装置132或图案生成装置128形成。其中，光掩膜印刷装置132用于在光掩膜130之上印制图案。激光刻蚀装置134用于在光掩膜130之上进行激光刻蚀以形成图案。光掩膜130或投影装置136均能够形成或表征出较为精细化、边界更为清晰细致的图案，因此，本实施例能够进一步提高防伪图案的精细化程度，提高纸张的防伪效果。 [0068] 实施例5： [0069] 本实施例提供了一种防伪纸张的制造设备100，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0070] 如图7和图10所示，在本实施例的部分实施方式中，光掩膜130为以整卷方式运行的柔性光掩膜，曝光装置108还包括光掩膜放卷装置138和光掩膜收卷装置140，光掩膜放卷装置138和光掩膜收卷装置140相互配合，以向纸张200施加柔性光掩膜。 [0071] 如图8所示，在本实施例的部分实施方式中，光掩膜130为以闭环方式循环运行的柔性光掩膜，曝光装置108还包括光掩膜拼接装置142和循环运行装置144，光掩膜拼接装置 142和循环运行装置144相互配合，以向纸张200施加柔性光掩膜。 [0072] 如图9所示，在本实施例的部分实施方式中，光掩膜130为平板型光掩膜，曝光装置108还包括光掩膜套准装置146，光掩膜套准装置146用于将平板型光掩膜和纸张200相互对准。 [0073] 此外，基于图案生成装置128包括光掩膜130，本实施例还可设置速度控制装置，以控制和保证光掩膜130和纸张200以同样的速度运行。 [0074] 实施例6： [0075] 如图3和图4所示，本实施例提供了一种防伪纸张的制造设备100，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0076] 施胶装置104包括：涂布装置122和印刷装置124。涂布装置122用于在纸张200的至少部分表面涂布光敏材料。印刷装置124用于在纸张200的至少部分表面印刷光敏材料。 [0077] 本实施例的涂布装置122可在纸张200的整体表面或局部表面涂布光敏材料，本实施例的印刷装置124可通过例如喷墨印刷的方式将特定图案印刷于纸张200之上，以保证防伪纸张的制造设备100的工作效率。 [0078] 实施例7： [0079] 如图5和图6所示，本实施例提供了一种防伪纸张的制造设备100，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0080] 在本实施例的部分实施方式中，防伪纸张的制造设备100还包括：筒纸放卷装置114或平板纸输纸装置118，筒纸放卷装置114或平板纸输纸装置118沿纸张200的移动方向设于防伪纸张的制造设备100的移动起始端，并用于向施胶装置104供应纸张200。 [0081] 在本实施例的部分实施方式中，卷筒纸收卷装置116或平板纸收纸装置120，卷筒纸收卷装置116或平板纸收纸装置120沿纸张200的移动方向设于防伪纸张的制造设备100 的移动结束端，并用于收卷来自干燥装置112的纸张200。 [0082] 本实施例为防伪纸张的制造设备100设置实现纸张200供应和收集的装置，以实现纸张200的自动供应和自动收集。 [0083] 实施例8： [0084] 如图13所示，本实施例提供了一种防伪纸张的制造方法，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0085] 步骤S102，在纸张的至少部分表面施加光敏材料，使光敏材料渗透进入纸张； [0086] 步骤S104，对纸张进行局部图案化地曝光处理，使纸张之上形成局部图案； [0087] 步骤S106，至少局部洗脱纸张之的光敏材料； [0088] 步骤S108，对纸张进行干燥处理。 [0089] 对纸张施加光敏材料的区域进行局部图案化地曝光处理，具体包括：在纸张施加光敏材料的区域覆盖具有图案的光掩模，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照。其中，可在光掩模之上通过喷墨打印或激光打印印制图案，亦可在光掩模之上进行激光刻蚀以形成图案。对纸张进行局部图案化地曝光处理，具体包括：在纸张施加有光敏材料的区域进行投影以形成图案，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照。压光处理能够消除纸张干燥后产生的折皱，以保证纸张光滑和平整。本实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。 [0090] 实施例9： [0091] 本实施例提供了一种防伪纸张的制造方法，除上述实施例的技术特征以外，本实施例进一步地包括了以下技术特征。 [0092] 在本实施例的部分实施方式中，对纸张进行局部图案化地曝光处理，具体包括：在纸张施加光敏材料的区域覆盖具有图案的光掩模，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照。 [0093] 在本实施例的部分实施方式中，对纸张进行局部图案化地曝光处理，具体包括：在纸张施加有光敏材料的区域进行投影以形成图案，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照。 [0094] 光掩膜或投影装置均能够形成或表征出较为精细化、边界更为清晰细致的图案，因此，本技术方案能够进一步提高防伪图案的精细化程度，提高纸张的防伪效果。 [0095] 实施例10： [0096] 本实施例提供了一种防伪纸张，防伪纸张采用如本发明任一实施例的防伪纸张的制造设备100制造；或防伪纸张采用如本发明任一实施例的防伪纸张的制造方法制造。 [0097] 综上，本发明实施例的有益效果为：本发明的实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。 [0098] 在本发明中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；术语“多个”则指两个或两个以上，除非另有明确的限定。术语“安装”、 “相连”、“连接”、“固定”等术语均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；“相连”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。 [0099] 本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或单元必须具有特定的方向、以特定的方位构造和操作，因此，不能理解为对本发明的限制。 [0100] 在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。 [0101] 以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。