一种常压化学气相沉积镀膜反应器

专利标题：一种常压化学气相沉积镀膜反应器
申请号：CN201410718690.4 申请日：2014-12-02
公开(公告)号：CN104451601B 公开(公告)日：2017-02-22
发明人：刘涌 , 韩高荣 , 宋晨路 , 汪建勋 , 刘新 , 沈鸽
申请人：浙江大学
申请人地址：浙江省杭州市西湖区浙大路38号
专利权人：浙江大学
当前专利权人：浙江大学
当前专利权人地址：浙江省杭州市西湖区浙大路38号
代理机构：杭州天勤知识产权代理有限公司
代理人：胡红娟
主分类号： C23C16/453
IPC分类号： C23C16/453 ; C23C16/455

摘要：

本发明公开了一种常压化学气相沉积镀膜反应器。该镀膜反应器特点为：反应器内部设计有强化对流和束流结构的混气室；反应器底部结构采用具有良好热导率的耐高温钢板；混气室出口采用狭缝结构，作为反应器镀膜气体喷嘴；反应器喷嘴处安装具有倒角结构的石墨挡块；反应器进气腔与排气腔采用完全对称结构；反应器镀膜进气与排气方向可以互换。该常压化学气相沉积镀膜反应器通过强化前驱体气体对流传热，提高反应热效率，能够使镀膜沉积反应在相对较低的温度下进行，降低镀膜能耗，拓宽镀膜温度窗口。本发明的设计思路新颖，设备维护简单，投资小，成本低，适合工业化或实验室设备应用。

CN104451601A 一种常压化学气相沉积镀膜反应器公开/授权日：2015-03-25

中国专利公布公告审查信息 Global Dossier Espacenet

C	化学；冶金
--C23	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
----C23C	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）
------C23C16/00	通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C14/00）
--------C23C16/44	.以镀覆方法为特征的（C23C16/04优先）
----------C23C16/453	..通过燃烧器或喷灯的反应气体法，例如在大气压下的CVD法（C23C16/513优先；在熔融状态下涂覆材料的火焰喷镀或等离子体喷镀入C23C4/00）

发明授权 CN104451601B 一种常压化学气相沉积镀膜反应器 有权

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