专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

91. 发明公开

CN1444295A 用于制造GaN基底的装置及其制造方法失效
公开(公告)号：CN1444295A
公开(公告)日：2003-09-24
申请号：CN02151648.0
申请日：2002-12-20
申请人： LG电子株式会社
发明人：金镇教
IPC分类号： H01L33/00
CPC分类号： C30B23/02 , C23C14/0005 , C23C14/0641 , C23C14/228 , C30B25/02 , C30B29/406 , Y10S117/915 , Y10T117/1004 , Y10T117/1008
摘要：本发明公开了一种用于制造GaN基底的装置和方法：通过在腔室内使GaN层在衬底上生长，并在此后使GaN层与衬底在同一腔室中相分离，而防止了由于温度下降而使GaN基底产生微裂纹或发生弯曲。本发明包括：腔室，在该腔室中装载有衬底；用于对腔室进行加热的加热装置；Ga载器，安装在腔室内，用于接纳可产生Ga分子的材料；喷射管，用于向腔室中注入可产生氮气分子的气体，氮气分子产生气体与Ga分子产生材料发生化学反应，而在衬底上形成GaN层；以及透明的窗孔，设置在腔室的外周上，用于向衬底照射激光束。

92. 发明授权

CN1090552C 用于精密表面处理的磨料及其制造方法失效
公开(公告)号：CN1090552C
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：CN94194269.4
申请日：1994-11-21
申请人：普莱斯墨泰格工程中心 , 泰格物理及薄膜技术科学及工程中心
发明人： O·V·萨利法诺夫 , E·I·托奇斯基 , V·V·阿库林希
IPC分类号： B24D3/00 , C09K3/14 , C23C4/04 , C23C16/26 , C01B31/06
CPC分类号： B24D3/004 , B24D3/02 , B24D3/06 , B24D3/28 , C09K3/1409 , C23C14/0005 , C23C14/06 , C23C14/0605 , C23C14/20 , C23C14/325
摘要：本文提供一种用于表面精密处理的磨料。这种磨料可以是用化学和/或物理方法粘附到载体上的磨料层，载体优选由可挠曲的材料例如塑料制成。另一方面，磨料也可以是不含载体的自由磨料。磨料可以是真空凝聚物，它至少含80%(原子)的超分散复合超硬金刚石样的物质。优选含有碳，且含有总共不大于0.1%(原子)的氢和氧。这种磨料优选由加速的电腐蚀等离子体的脉冲制得。

93. 发明公开

CN1362998A 制造复合材料的方法以及该方法制造的复合材料失效
公开(公告)号：CN1362998A
公开(公告)日：2002-08-07
申请号：CN01800183.1
申请日：2001-03-06
申请人：三井金属鉱业株式会社
发明人：久保田高史 , 渡边弘
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/06 , B22D21/00
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/0005 , C23C14/06 , C23C14/0688 , C23C14/22 , C23C14/3464
摘要：本发明涉及一种制造包括两种或更多种金属或非金属以及它们的化合物的复合材料的方法,具体而言,本发明涉及将分散材料很均匀地分散在复合材料的基材中,而适用性不依赖于复合材料组成的制造方法。本发明的特点是将构成基材的金属或非金属或它们的化合物的基材原料和构成分散材料的金属或非金属或它们的化合物的至少一种分散材料的原料同时或交替蒸发,蒸发的颗粒沉积在一底材上形成块状物体。

94. 发明授权

KR101763166B1 회전 방식을 이용한 박막 코팅 방법 및 박막 코팅 장치 有权
标题翻译：旋转法薄膜涂布法和薄膜涂布装置
公开(公告)号：KR101763166B1
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：KR1020160121417
申请日：2016-09-22
申请人： 한국과학기술원
发明人： 김택수 , 강수민
IPC分类号： B05D1/00 , B05D7/14 , C23C14/14 , C23C16/06 , C23F1/18 , C23F1/28 , C23F1/34
CPC分类号： B05C1/0808 , A61F2210/0076 , B05C1/022 , B05D1/20 , B05D1/283 , B05D1/286 , B05D1/60 , C23C14/0005 , C23C14/021 , C23C14/025 , C23C14/087 , C23C14/14 , C23C16/01 , C23C16/06 , C23C22/13 , B05D1/005 , B05D7/14 , C23F1/18 , C23F1/28 , C23F1/34
摘要： 회전방식을이용한박막코팅방법및 박막코팅장치가제공된다. 상기박막코팅방법은, 액상물질상에박막물질을플로팅(floating)하는플로팅단계, 원통형기판을상기박막물질에접촉시킨후, 상기원통형기판을회전하는회전단계, 및상기원통형기판의표면과상기박막물질사이에작용하는인력(attraction force)을이용하여상기박막물질을상기원통형기판의표면상에코팅하는코팅단계를포함한다.
摘要翻译：提供使用旋转方法和薄膜涂布装置的薄膜涂布方法。薄膜涂布方法包括：浮动步骤，将薄膜材料浮在液体材料上;旋转步骤，在圆柱形基底与薄膜材料接触之后使圆柱形基底旋转; 并且使用作用在材料之间的吸引力将薄膜材料涂覆在圆柱形基底的表面上。

95. 发明公开

KR1020130069539A 알루미늄 구조체의 제조 방법 및 알루미늄 구조체 无效
标题翻译：制造铝结构的方法和铝结构
公开(公告)号：KR1020130069539A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：KR1020127015024
申请日：2011-05-10
申请人： 스미토모덴키고교가부시키가이샤
发明人： 호소에아키히사 , 닛타코지 , 오쿠노카즈키 , 아와즈토모유키 , 이나자와신지
IPC分类号： C25D1/08 , C22C1/08 , C23C14/20 , C25D3/66
CPC分类号： C22C1/08 , B22F3/1137 , C22C21/00 , C23C14/0005 , C23C14/20 , C23C16/01 , C23C16/06 , C25D1/08 , C25D3/66 , C25D3/665 , C25D5/56 , C25D7/00 , H01G11/56 , Y02E60/13 , Y10T428/12479 , Y10T428/12569 , Y10T428/1275
摘要： 수지 성형체의 표면에 금, 은, 백금, 로듐, 루테늄, 팔라듐, 니켈, 구리, 코발트, 철 및 알루미늄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속으로 이루어지는 도전층을 형성하는 도전화 공정과, 당해 도전화된 수지 성형체에 알루미늄을 용융염욕 중에서 도금하는 도금 공정을 구비하고, 삼차원 그물코 구조를 갖는 다공질 수지 성형체이더라도, 그의 표면으로의 알루미늄의 도금을 가능하게 하여 알루미늄 구조체를 형성하는 것이 가능한 방법 및, 특히 대면적의 알루미늄 다공체를 얻는 것이 가능한 알루미늄 구조체의 제조 방법을 제공한다.

96. 发明公开

KR1020070004655A 극박 필름의 분리를 위한 유리-변형 응력파 및나노일렉트로닉스 장치 제작 有权
标题翻译：用于分离超薄膜和纳米电子器件制造的玻璃改性应力波
公开(公告)号：KR1020070004655A
公开(公告)日：2007-01-09
申请号：KR1020067017492
申请日：2005-03-07
申请人： 더 리전트 오브 더 유니버시티 오브 캘리포니아
发明人： 굽타,비제이 , 기리브,바실리,에이.
IPC分类号： G01L1/24 , B82Y15/00 , B82Y35/00
CPC分类号： G01N19/04 , C03C17/34 , C03C23/0025 , C03C2218/32 , C23C14/0005 , G01N2033/0096 , G01N2203/001 , G01N2203/0055 , G01N2203/0282
摘要： A device for generating a tensile force between a substrate and a coating, wherein the substrate has a thickness defined by a first side and a second side in a first axis, and the coating is applied to the first side of the substrate such that the coating and substrate are axially spaced along the first axis in intimate facing contact with each other to form a coating/substrate interface. The apparatus has a glass element disposed on the second side of the substrate and axially spaced along the first axis. The glass element is configured to propagate a stress wave to the coating/substrate interface to generate a tensile force between the substrate and the coating. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：一种用于在基板和涂层之间产生张力的装置，其中所述基板具有由第一轴线的第一侧和第二侧限定的厚度，并且将所述涂层施加到所述基板的第一侧，使得所述涂层并且衬底沿着第一轴线以彼此紧密的面对接触方式轴向间隔开以形成涂层/衬底界面。该装置具有设置在基板的第二侧上的玻璃元件并且沿第一轴线轴向间隔开。玻璃元件构造成将应力波传播到涂层/基底界面以在基底和涂层之间产生张力。 ®KIPO＆WIPO 2007

97. 发明公开

KR1020040068564A 옹스트롬 크기의 높은 애스펙트 비를 가진 기능성 미소플레이트의 제조 방법 无效
标题翻译：具有高纵横比埃尺寸的功能性微孔板的制造方法
公开(公告)号：KR1020040068564A
公开(公告)日：2004-07-31
申请号：KR1020047008262
申请日：2002-11-27
申请人： 애버리 데니슨 코포레이션
发明人： 죠세피칼 , 레트커제임스피. , 엔로우하워드에이치.
IPC分类号： C23C14/00 , C23C16/00 , C23C14/24 , B82Y40/00
CPC分类号： B82Y30/00 , B22F9/12 , B22F2998/00 , C01P2004/20 , C01P2004/64 , C08K3/013 , C08K3/34 , C08K7/00 , C09C1/0015 , C09C1/0018 , C09C1/62 , C09C2210/30 , C09C2210/40 , C09C2220/20 , C09D7/70 , C23C14/0005 , C23C14/562 , C23C14/568 , B22F1/0055
摘要： 본 발명은 기능성 또는 장식성 플레이크 또는 미소 플레이트를 제조하는 프로세스는 증착 체임버 내에서 증착 금속 및 릴리스 코트의 다층 샌드위치를 교대로 회전형 냉각 드럼 또는 적합한 캐리어 매체에 적용하는 단계를 포함한다. 교대로 형성된 금속화층은 증착에 의해 적용되고, 개재하는 릴리스층은 증착 체임버에 수용된 증착 소스에 의해 적용되는 용매 가용성 열가소성 폴리머 재료 또는 약하게 가교 결합된 폴리머 재료인 것이 바람직하다. 진공 체임버 내에서 적층된 다층 샌드위치는 드럼 또는 캐리어로부터 제거되고, 본질적으로 릴리스 코트가 배제된 금속 플레이크를 잔류시키는 스트리핑 공정에서 금속으로부터 릴리스 코팅을 용해하도록 적합한 유기 용매로 처리된다. 용매 및 용해된 릴리스 재료는 원심분리에 의해 제거되어 에어 밀링되고 바람직한 매개물 중에 풀어질 수 있는 농축된 플레이크의 케익을 형성하고, 잉크, 페인트 또는 코팅에서의 최종 용도에 맞추어 추가로 사이징 및 균질화 처리된다. 일 실시예에서 최종 처리된 플레이크는 단일층 박막 금속 또는 금속 합금 플레이크 또는 무기 재료의 플레이크를 포함하며, 또 다른 실시예에서 플레이크는 상기 증착 체임버 내의 적절한 진공 증착 소스 등으로부터 적용된 보호성 폴리머 코팅으로 양면이 피복된다. 상기 릴리스 코트 재료는 방사선 경화형(radiation curable), 저밀도의 가교 가능한 증착 폴리머 재료일 수 있다. 고에너지 방사선 소스에 노출시킴으로써 상기 릴리스 재료가 본질적으로 점성이 없고, 용매 가용성 릴리스 코트층이 생성되기에 충분한 릴리스 재료로 가교된다. 일실시예에서, 상기 다층 증착물은 상기 증착 체임버로부터 진공 록을 지나, 상기 증착 체임버에 인접한 개별의 스트리핑 체임버 내로 진입하여 이음매 없는 벨트 상에 적층된다. 상기 두 체임버는 상기 플레이크 재료를 이음매 없는 벨트에 증착시키는 동안, 대기압 미만의 진공 압력 상태에서 유지된다. 상기 증착물은 상기 벨트의 속력을 감소시키고, 상기 증착 체임버 내의 진공 증착 소스를 공전시켜, 상기 증착물 포집 장치를 상기 스트리핑 체임버 내에 이음매 없는 벨트 아래에 진공 록을 통과하여 상기 스트리핑 체임버에 밀봉함으로써, 주기적으로 제거된다. 상기 진공 록은, 상기 이음매 없는 벨트로부터 다층 증착된 재료를 제거하는 공정의 수행 도중에 스트리핑 체임버 내에서 대기압 미만의 진공 압력 상태로 유지된다.

98. 发明专利

NO903824A 未知
公开(公告)号：NO903824A
公开(公告)日：1991-03-01
申请号：NO903824
申请日：1990-08-31
申请人： YOSHIDA KOGYO KK
发明人： YAMAGATA HIROSHI , NAGAHORA JUNICHI
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/14 , C23C16/44 , C23C16/56
CPC分类号： C23C14/0005 , C23C14/14

99. 发明申请

WO2018044237A1 CHALCOGENIDE FILM, DEVICE INCLUDING, AND METHOD OF FORMING THE SAME 审中-公开
标题翻译：硫化胶膜，包括其的装置和形成该装置的方法
公开(公告)号：WO2018044237A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/SG2017/050434
申请日：2017-08-31
申请人： NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
发明人： YU, Xuechao , YU, Peng , WANG, Qijie , LIU, Zheng
IPC分类号： H01L31/0264 , C23C16/30
CPC分类号： C23C14/228 , C23C14/0005 , C23C14/0623 , C23C14/0629 , C30B29/46 , C30B33/06 , H01L31/0272 , H01L31/032
摘要： The invention relates to a chalcogenide film comprising a noble metal chalcogenide material having a formula MCx. M may represent a noble metal, C may represent a chalcogen, x may be any one positive value equal to or more than 1.4 and less than 2. The chalcogenide film may be configured to generate electrons and holes upon light incident on the chalcogenide film. A method of producing a chalcogenide fil m with increased vacancy or defect is provided, wherein increasing vacancies or defects may lead to decrease in bandgap and enhance absorption at wavelength range such as mid-infrared. Said chalcogenide film is used in a device including photodetector or a solar cell.
摘要翻译：本发明涉及包含具有式MC x的贵金属硫族化物材料的硫族化物膜。 M可表示一种贵金属，C可以表示硫属元素，x可等于或大于1.4和小于2。硫属化物膜可以被配置为在光入射在硫属化物膜，以产生电子和空穴的任一项正值。提供了一种生产具有增加的空位或缺陷的硫族化合物填料的方法，其中增加的空位或缺陷可能导致带隙降低并增强波长范围如中红外的吸收。所述硫属化物膜用于包括光电探测器或太阳能电池的装置中。

100. 发明申请

WO2016037590A1 SAPPHIRE THIN FILM COATED FLEXIBLE SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译： SAPPHIRE薄膜涂层柔性基板
公开(公告)号：WO2016037590A1
公开(公告)日：2016-03-17
申请号：PCT/CN2015/089413
申请日：2015-09-11
申请人： HONG KONG BAPTIST UNIVERSITY
发明人： CHEAH, Kok Wai , LI, King Fai , TAM, Hoi Lam , LEE, Ka Suen , LI, Gui xin , LAM, Wing Yui , CHAN, Yu Wai
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/08 , C23C14/0005 , C23C14/025 , C23C14/081 , C23C14/34 , C23C14/5806 , G06F1/1652 , H04M1/0266 , H04M1/185
摘要： A method to transfer a layer of harder thin film substrate onto a softer, flexible substrate. In particular, the present invention provides a method to deposit a layer of sapphire thin film on to a softer and flexible substrate e.g. PET, polymers, plastics, paper and fabrics. This combination provides the hardness of sapphire thin film to softer flexible substrates.
摘要翻译：将较硬的薄膜基底层转移到更柔软的柔性基底上的方法。特别地，本发明提供了将蓝宝石薄膜层沉积在较柔软和柔性的基底上的方法，例如， PET，聚合物，塑料，纸和织物。这种组合可以将蓝宝石薄膜的硬度提供给柔软的柔性基材。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式