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91. 发明申请

WO1995001843A1 METHOD FOR THE IMPROVED MICROWAVE DEPOSITION OF THIN FILMS 审中-公开
标题翻译：改进薄膜微波沉积的方法
公开(公告)号：WO1995001843A1
公开(公告)日：1995-01-19
申请号：PCT/US1994004634
申请日：1994-04-29
申请人： ENERGY CONVERSION DEVICES, INC.
发明人： ENERGY CONVERSION DEVICES, INC. , OVSHINSKY, Stanford, R. , TSU, David, V. , YOUNG, Rosa
IPC分类号： B05D03/00
CPC分类号： H01J37/32211 , C23C16/511 , C23C16/517 , H01J37/321 , H01J37/32192 , H01J37/32678 , H01J2237/3321
摘要： An improved chemical vapor deposition method for the high-rate low-temperature deposition of high-quality thin film material. The method includes the steps of providing an evacuated chamber having a plasma deposition region defined therein; placing a substrate (24) inside the chamber; supplying plasma deposition precursor gases to the deposition region in the evacuated chamber; directing microwave energy from a source (4) thereof to the deposition region, the microwave energy interacting with the deposition precursor gases to form a plasma of electrons, ions and activated electrically neutral species, the plasma including one or more depositing species; increasing the surface mobility of the depositing species in the plasma by coupling additional non-microwave electronic energy and magnetic energy into the plasma, without intentionally adding thermal energy to the substrate (24) or precursor gas; and depositing a thin film of material onto the substrate (24).
摘要翻译：一种改进的化学气相沉积方法，用于高速低温沉积的高品质薄膜材料。该方法包括以下步骤：提供具有限定在其中的等离子体沉积区域的真空室; 将衬底（24）放置在腔室内; 将等离子体沉积前体气体供应到所述抽真空室中的沉积区域; 将微波能量从其源极（4）引导到沉积区域，所述微波能量与沉积前体气体相互作用以形成电子，离子和活化的电中性物质的等离子体，所述等离子体包括一种或多种沉积物质; 通过将额外的非微波电子能量和磁能耦合到等离子体中来增加等离子体中的沉积物质的表面迁移率，而无需有意地向基底（24）或前体气体添加热能; 以及在衬底（24）上沉积材料薄膜。

92. 发明申请

WO1988009830A1 PROCESS FOR ETCHING WITH GASEOUS PLASMA 审中-公开
标题翻译：用气体等离子体进行蚀刻的方法
公开(公告)号：WO1988009830A1
公开(公告)日：1988-12-15
申请号：PCT/FR1988000272
申请日：1988-05-31
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , CHARLET, Barbara , PECCOUD, Louise
发明人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
IPC分类号： C23F04/00
CPC分类号： H01J37/32082 , C23C16/517 , C23F4/00 , G11B5/3163 , H01J37/32192 , H01J37/32706 , H01L21/3065
摘要： In a process for etching a substrate using a gaseous plasma generated either by hyperfrequency waves or by radiofrequency and hyperfrequency waves, the gaseous medium used for the production of the plasma comprises at least one fluorinated carbon-free gas such as SF6, at least one rare gas such as Ar, at least one oxidizing carbon-free gas such as oxygen, and possibly another gas such as nitrogen. The invention is applicable in particular in the field of microelectronics.
摘要翻译：在使用由高频或高频波产生的气体等离子体蚀刻衬底的过程中，用于生产等离子体的气体介质包含至少一种氟化无碳气体，例如SF 6，至少一种稀有诸如Ar的气体，至少一种不含氧的无氧气体，例如氧气，以及可能的其它气体如氮气。本发明特别适用于微电子领域。

93. 发明专利

ZA8707921B CONDENSATE DIAMOND 未知
公开(公告)号：ZA8707921B
公开(公告)日：1988-04-21
申请号：ZA8707921
申请日：1987-10-21
申请人： GENERAL ELECTRIC COMPANY
发明人： THOMAS RICHARD ANTHONY , ROBERT CHARLES DEVRIES
IPC分类号： C23C16/26 , C23C16/27 , C23C16/50 , C23C16/511 , C23C16/517 , C30B25/10 , C30B29/04 , B01J , C30B , C01B
CPC分类号： C23C16/517 , C23C16/27 , C30B25/10 , C30B29/04
摘要： A mixture of hydrogen and methane gases is subjected to combined thermal heating and microwave radiation to form a gas plasma which is caused to condense on a substrate as diamond form of carbon.

94. 发明申请

WO2018133233A1 一种交联度可控的涂层的制备方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018133233A1
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：PCT/CN2017/081778
申请日：2017-04-25
申请人：江苏菲沃泰纳米科技有限公司
发明人：宗坚
IPC分类号： C09D127/12 , C23C16/02 , C23C16/448 , C23C16/505 , C23C16/511 , C23C16/515
CPC分类号： C09D4/00 , C23C16/517
摘要：一种交联度可控的涂层的制备方法，主要包括以下步骤：首先，将基材置于等离子体室的反应腔体内，对反应腔体连续抽真空，将反应腔体内的真空度抽到10-200毫托，通入惰性气体或氮气，提供稳定的等离子体环境；其次，通入单体蒸汽，开启等离子体放电，进行化学气相沉积，该单体蒸汽为至少一种单官能度不饱和氟碳树脂和至少一种多官能度不饱和烃类衍生物混合物，该多官能度不饱和烃类衍生物所占质量百分比为10％-80％；或至少一种多官能度不饱和烃类衍生物和至少一种多官能度不饱和烃类衍生物的混合物；最后，放电结束，关闭等离子体电源，停止通入单体蒸汽，持续抽真空，保持反应腔体真空度为10-200毫托1-5min后通入大气至一个大气压，然后取出基材即可。

95. 发明申请

WO2015071658A1 TREATING PARTICLES 审中-公开
标题翻译：处理颗粒
公开(公告)号：WO2015071658A1
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：PCT/GB2014/053352
申请日：2014-11-12
申请人： PERPETUUS RESEARCH & DEVELOPMENT LIMITED
发明人： BUCKLAND, John , WALTERS, Dylan
IPC分类号： C01B31/02 , C09C1/46 , H05H1/46
CPC分类号： C01B32/168 , B01J19/087 , B01J19/126 , B01J2219/0809 , B01J2219/0818 , B01J2219/0824 , B01J2219/0879 , B01J2219/0894 , B01J2219/1206 , B08B6/00 , C01B32/19 , C01B32/194 , C01P2004/03 , C08K9/00 , C09C1/46 , C23C16/26 , C23C16/4417 , C23C16/509 , C23C16/511 , C23C16/513 , C23C16/517 , H01J37/023 , H01J37/32018 , H01J37/32192 , H01J37/32568 , H05H1/46 , H05H2001/4697
摘要： A method of treating particles by disaggregating, deagglomerating, exfoliating, cleaning, functionalising, doping, decorating and/or repairing said particles, in which the particles are subjected to plasma treatment in a treatment chamber containing a plurality of electrodes which project therein and wherein plasma is generated by said electrodes which are moved during the plasma treatment to agitate the particles.
摘要翻译：一种通过在包含多个在其中突出的电极的处理室中进行等离子体处理的所述颗粒的解聚，解聚，去角质，清洁，功能化，掺杂，修饰和/或修复来处理颗粒的方法，其中等离子体由在等离子体处理期间移动以搅拌颗粒的所述电极产生。

96. 发明申请

WO2013119313A3 MICROPLASMA GENERATOR WITH ARRAY OF TAPERED MICROSTRIPS 审中-公开
标题翻译：带有锥形微带阵列的微型拉曼发生器
公开(公告)号：WO2013119313A3
公开(公告)日：2013-10-17
申请号：PCT/US2012068427
申请日：2012-12-07
申请人： TUFTS COLLEGE
发明人： MIURA NAOTO
IPC分类号： H01L31/042
CPC分类号： C23C16/45595 , C23C16/517 , C23C16/545 , H01J37/32201 , H01J37/32211 , H01J37/32266 , H01J37/32311 , H01J37/32366 , H01J37/32825 , H01L31/1876 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要： A plasma generator ignites and sustains a uniform and linear plasma near atmospheric pressure. The plasma generator is composed of two power supplies, a power divider, an array of transmission line tapers and an ignition resonator. One microwave power supply is used to drive the taper array and the other power supply drives the ignition resonator. The power divider splits the taper array power evenly and delivers it to each taper. A plasma is ignited by the ignition resonator and then the plasma propagates to the taper array. The taper array does not start a plasma by itself and the ignition resonator is provided to do so. Increasing the number of tapers increases the length of the plasma.
摘要翻译：等离子体发生器在大气压附近点燃并维持均匀且线性的等离子体。等离子体发生器由两个电源，功率分配器，传输线锥体阵列和点火谐振器组成。一个微波电源用于驱动锥形阵列，另一个电源驱动点火谐振器。功率分配器均匀分配锥形阵列功率，并将其传送至每个锥形。等离子体被点火谐振器点燃，然后等离子体传播到锥形阵列。锥形阵列本身不启动等离子体，并且提供点火谐振器来实现这一点。增加锥形的数量会增加等离子体的长度。

97. 发明申请

WO2013119313A2 MICROPLASMA GENERATOR WITH ARRAY OF TAPERED MICROSTRIPS 审中-公开
标题翻译：带微阵列阵列的麦克风发生器（MICROPLASMA GENERATOR WITH ARRAY OF TAPERED MICROSTRIPS）
公开(公告)号：WO2013119313A2
公开(公告)日：2013-08-15
申请号：PCT/US2012068427
申请日：2012-12-07
申请人： TUFTS COLLEGE
发明人： MIURA NAOTO
IPC分类号： H01L31/042
CPC分类号： C23C16/45595 , C23C16/517 , C23C16/545 , H01J37/32201 , H01J37/32211 , H01J37/32266 , H01J37/32311 , H01J37/32366 , H01J37/32825 , H01L31/1876 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要： A plasma generator ignites and sustains a uniform and linear plasma near atmospheric pressure. The plasma generator is composed of two power supplies, a power divider, an array of transmission line tapers and an ignition resonator. One microwave power supply is used to drive the taper array and the other power supply drives the ignition resonator. The power divider splits the taper array power evenly and delivers it to each taper. A plasma is ignited by the ignition resonator and then the plasma propagates to the taper array. The taper array does not start a plasma by itself and the ignition resonator is provided to do so. Increasing the number of tapers increases the length of the plasma.
摘要翻译：等离子体发生器点燃并维持大气压附近的均匀和线性等离子体。等离子体发生器由两个电源，功率分配器，传输线锥形阵列和点火谐振器组成。一个微波电源用于驱动锥形阵列，另一个电源驱动点火谐振器。功率分配器将锥形阵列的功率均匀分离，并将其递送到每个锥度。等离子体被点火谐振器点燃，然后等离子体传播到锥形阵列。锥形阵列本身不启动等离子体，并且提供点火谐振器来实现。增加锥度数增加了等离子体的长度。

98. 发明申请

WO2011080659A1 INLINE-BESCHICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： INLINE涂装线
公开(公告)号：WO2011080659A1
公开(公告)日：2011-07-07
申请号：PCT/IB2010/055949
申请日：2010-12-20
申请人： ROTH & RAU AG , MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
发明人： MAI, Joachim , SCHLEMM, Hermann , GROSSE, Thomas , DECKER, Daniel , GRIMM, Michael
IPC分类号： C23C16/517 , C23C16/54 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/517 , H01J37/32082 , H01J37/32192 , H01J37/32779
摘要： Die Erfindung betrifft eine Inline-Beschichtungsanlage, die wenigstens eine Prozesskammer mit wenigstens zwei nacheinander in Förderrichtung von Substraten durch die Prozesskammer angeordnete Plasmaquellen aufweist. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine solche Inline-Plasmabeschichtungsanlage bereit zu stellen, die eine kontinuierliche, großflächige und effektive Abscheidung von hochqualitativen Mehrlagen- und/oder Gradientenschichten ermöglicht. Die Aufgabe wird durch eine Inline- Plasmabeschichtungsanlage der oben genannten Gattung gelöst, wobei die wenigstens zwei Plasmaquellen unterschiedliche Plasmaquellen sind, die bei unterschiedlichen Anregungsfrequenzen arbeiten.
摘要翻译：本发明涉及一种在线涂布装置，其包括至少一个处理腔室具有至少两个通过处理室的等离子源连续地布置在基板的输送方向。本发明的目的是提供这样一种涂层在线等离子体可用的系统，其允许连续的，大规模和高品质的多层和/或梯度的有效沉积。该目的通过上述类型，其特征在于，所述至少两个等离子体源在不同的激励频率下工作的不同的等离子体源的串联式等离子体涂层系统来解决。

99. 发明申请

WO2010011390A3 HYBRID LAYERS FOR USE IN COATINGS ON ELECTRONIC DEVICES OR OTHER ARTICLES 审中-公开
标题翻译：用于电子器件或其他物品涂层的混合层
公开(公告)号：WO2010011390A3
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：PCT/US2009042829
申请日：2009-05-05
申请人： UNIV PRINCETON , UNIVERSAL DISPLAY CORP , MANDLIK PRASHANT , WAGNER SIGURD , SILVERNAIL JEFFREY A , MA RUIQING , BROWN JULIA J , HAN LIN
发明人： MANDLIK PRASHANT , WAGNER SIGURD , SILVERNAIL JEFFREY A , MA RUIQING , BROWN JULIA J , HAN LIN
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/02 , C23C16/30 , C23C16/52 , C23C30/00 , H01L51/52
CPC分类号： H01L51/5253 , C23C16/02 , C23C16/0272 , C23C16/04 , C23C16/22 , C23C16/30 , C23C16/40 , C23C16/45523 , C23C16/505 , C23C16/517 , C23C16/52 , C23C30/00 , H01L51/5203 , H01L51/5259 , H01L51/56 , H01L2251/301 , H01L2251/303 , H01L2251/566
摘要： A method for protecting an electronic device comprising an organic device body. The method involves the use of a hybrid layer deposited by chemical vapor deposition. The hybrid layer comprises a mixture of a polymeric material and a non-polymeric material, wherein the weight ratio of polymeric to non-polymeric material is in the range of 95:5 to 5:95, and wherein the polymeric material and the non-polymeric material are created from the same source of precursor material. Also disclosed are techniques for impeding the lateral diffusion of environmental contaminants.
摘要翻译：一种用于保护包括有机器件主体的电子器件的方法。该方法涉及使用通过化学气相沉积沉积的混合层。混合层包含聚合物材料和非聚合物材料的混合物，其中聚合物材料与非聚合物材料的重量比在95:5至5:95的范围内，并且其中聚合物材料和非聚合物材料的重量比在95:5至5:95的范围内，聚合物材料由相同的前体材料来源产生。还公开了用于阻止环境污染物的横向扩散的技术。

100. 发明申请

WO2009102070A1 ダイヤモンド状炭素膜成膜装置及びダイヤモンド状炭素膜を成膜する方法审中-公开
标题翻译：金刚石碳膜形成装置和形成金刚石碳膜的方法
公开(公告)号：WO2009102070A1
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：PCT/JP2009/052587
申请日：2009-02-10
申请人：株式会社iMott , 大竹尚登 , 松尾誠 , 岩本喜直
发明人：大竹尚登 , 松尾誠 , 岩本喜直
IPC分类号： C23C16/27 , C23C16/44 , C23C16/505 , C23C16/515
CPC分类号： C23C16/26 , C23C16/042 , C23C16/517 , H01J37/32091 , H01J37/32165 , H01J37/32174 , H01J37/32871 , H01J2237/2001
摘要：本発明は、ダイヤモンド状炭素膜成膜装置及びダイヤモンド状炭素膜を成膜する方法に関する。　本発明のプラズマ化学真空蒸着法を用いたダイヤモンド状炭素膜成膜装置は、導電性のマスク材（３）で包囲した基体（２）からなる部材（４）と、ダイヤモンド状炭素膜成膜装置のチャンバー（５）の壁との間に印加するための直流単パルスの電源（６）と重畳用直流電源（２６）及び又は高周波電源（７）と、を備え、部材（４）に直流単パルス電源（６）と前記重畳用直流電源（２６）により負の単パルス電圧を、又は高周波電源（７）の高周波電圧のいずれかを選択して印加して、マスク材（３）で包囲した前記基体（２）上にセグメント構造のダイヤモンド状炭素膜を成膜する。
摘要翻译：公开了类金刚石碳膜形成装置和形成类金刚石碳膜的方法。采用等离子体化学真空沉积方法的金刚石状碳膜形成装置包括单脉冲直流电源（6）和叠加直流电源（26）和/或用于执行的高频电源（7）应用于具有包含导电掩模材料（3）的基部（2）的构件（4）和类金刚石碳膜形成装置的室（5）的壁之间，其中来自单个脉冲直流电源（6）和重叠直流电源（26）或来自高频电源（7）的高频电压被选择性地施加到构件（4）以形成类金刚石碳覆盖在掩模材料（3）上的基部（2）上的段结构的膜。

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