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91. 发明专利

JPWO2017169626A1 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017169626A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2017009461
申请日：2017-03-09
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：後藤研由 , 西尾亮 , 浅川大輔 , 土村智孝 , 白川三千紘
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/20 , C08F12/02 , C08F20/18 , C08F20/56 , G03F7/038
摘要：本発明の課題は、ドライエッチング耐性及び耐倒れ性に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、ならびに、これを用いたパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法を提供することである。本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、一般式(1)で表される基を有する繰り返し単位(a1)を含む樹脂(A)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)と、を含有する。 *−L 1 −W−(L 2 −R 2 ) n ・・・(1) 一般式(1)中、L 1 は単結合又は2価の連結基、Wはn+1価の脂環式炭化水素基又はn+1価の芳香族基、L 2 は2価の連結基、R 2 は特定の置換基、nは1以上の整数を表す。nが2以上の場合には、複数のL 2 は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のR 2 は互いに同一でも異なっていてもよい。

92. 发明专利

JP2016200805A 新規オニウム塩化合物を用いた化学増幅型ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：化学放大负使用该新型鎓盐化合物抗蚀剂组合物和形成方法的抗蚀剂图案
公开(公告)号：JP2016200805A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：JP2016050457
申请日：2016-03-15
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：増永恵一 , 渡邉聡 , 小竹正晃 , 土門大将 , 藤原敬之
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/20 , C08F12/02 , C08F20/10 , C07D209/42 , C07D295/155 , C07C381/12 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F1/20 , G03F1/22 , G03F7/0046 , G03F7/0382
摘要：【解決手段】(1)又は(2)で示されるオニウム塩、特定構造の繰り返し単位を有する樹脂、及び架橋剤を含有する化学増幅ネガ型レジスト組成物。【効果】露光された際の酸拡散を制御することができ、パターン形成時において極めて高い解像性を有し、LERの低減されたパターンを得ることができる。【選択図】なし
摘要翻译： A（1）或（2）由具有特定结构的重复单元的树脂为代表的鎓盐，以及一种化学放大负性抗蚀剂含有交联剂的组合物。影响可以控制，当它被暴露的酸扩散，在图案形成非常高的分辨率，能够获得LER的降低的图案。系统技术领域

93. 发明专利

JP2015117356A ポリマーの製造方法、ポリマー生成物、粒子、フィルム、成形品、及び繊維审中-公开
标题翻译：生产聚合物，聚合物产品，颗粒，膜，成型部分和纤维的方法
公开(公告)号：JP2015117356A
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：JP2014039375
申请日：2014-02-28
申请人：株式会社リコー
发明人：根本太一 , 新井陽子 , 和泉賢 , 平野滋大 , 清水孝幸 , 田中千秋
IPC分类号： C08F12/02 , C08F20/56 , C08F20/18 , C08F36/04 , C08F2/04
CPC分类号： C08F2/12 , C08F12/08 , C08F14/14 , C08F18/08 , C08F2/04 , C08F20/02 , C08F20/10 , C08F20/34 , C08F20/44 , C08F20/56 , C08F2400/00 , C08F2438/01 , C08F2438/03 , D01F6/16 , D01F6/22 , D01F6/24 , D01F6/26
摘要：【課題】有機溶剤を使用せず、低い温度でビニル結合を有するモノマーを重合した場合には、反応の進行に伴って反応物の粘度が高くなるため、重合反応が進みにくくなるという課題が生じる。【解決手段】ビニル結合を有するモノマーと、圧縮性流体とを接触させて前記ビニル結合を有するモノマーを溶融または溶解させた後に、開始剤の存在下、前記ビニル結合を有するモノマーを付加重合させる。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题为了解决当没有使用有机溶剂的情况下在低温下聚合乙烯基单体的单体时，根据反应的进行使反应物的粘度变高，因此使聚合反应变硬具有乙烯基键的单体与压缩液体接触以熔融或分解具有乙烯基键的单体，此后，在引发剂存在下，另外聚合具有乙烯基键的单体。

94. 发明专利

JP5091537B2 New dibenzofulvene derivative monomers, novel dibenzofulvene derivative and composition using them 有权
公开(公告)号：JP5091537B2
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：JP2007123601
申请日：2007-05-08
申请人：国立大学法人北海道大学
发明人：環中野 , 哲浩小谷 , 明天高
IPC分类号： C08L25/18 , C07C381/00 , C08F12/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel dibenzofulvene derivative monomer excellent in charge transport ability and having a fluorene residue as a side chain, to provide a novel dibenzofulvene derivative, and to provide compositions and charge transport materials using them. SOLUTION: Provided is a composition containing a dibenzofulvene derivative comprising 10-100 mol.% structural units each represented by the formula (wherein Ar 1 and Ar 2 are each an aromatic ring; R 1 and R 2 are each a hydrogen atom or a group having a hetero ring structure except an aromatic ring, provided that at least either of R 1 and R 2 is a group having a hetro ring except an aromatic ring; R 3 and R 4 are each a hydrogen atom, an alkyl group, an aromatic group, a cyano ring, or an ester-linkage containing organic group; and X 1 is a single bond, -CH 2 -. -C 2 H 4 -, -CH=CH-, -CO-, or a hetero atom) and an electron-accepting compound or an electron-donating compound. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

95. 发明专利

JP2012062365A Primer 有权
标题翻译：底漆
公开(公告)号：JP2012062365A
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：JP2010205875
申请日：2010-09-14
申请人： Institute Of Physical & Chemical Research , Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社 , 独立行政法人理化学研究所
发明人： SENZAKI TAKAHIRO , DAZAI NAOHIRO , MIYAGI MASARU , FUJIKAWA SHIGENORI , HAYAKAWA HARUMI , KOIZUMI MARI
IPC分类号： C08L25/00 , C08F12/02 , C08K5/28 , C08L33/06 , C08L61/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a primer capable of manufacturing a substrate including a nano-structure with freely designed position and orientation on the substrate surface by utilizing phase separation of a block copolymer.SOLUTION: The primer, which is used for phase separation of a layer formed on a substrate and containing a block copolymer to which a plurality of kinds of polymers are bonded, contains a resin component, wherein 20-80 mol% of building blocks of the entire resin components are building blocks derived from an aromatic ring-containing monomer.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过嵌段共聚物的相分离在衬底表面上制造具有自由设计的位置和取向的纳米结构的衬底的底漆。解决方案：用于相分离形成在基材上并含有多种聚合物结合的嵌段共聚物的底漆含有树脂组分，其中20-80摩尔％的建筑物整个树脂组分的嵌段是衍生自含芳环的单体的结构单元。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

96. 发明专利

JP2011095433A Positive radiation sensitive resin composition, interlayer insulating film and method for forming the same 有权
标题翻译：正性辐射敏感性树脂组合物，层间绝缘膜及其形成方法
公开(公告)号：JP2011095433A
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：JP2009248332
申请日：2009-10-28
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： HANAMURA MASAAKI , MURATA MEGUMI , ARAI MASAFUMI
IPC分类号： G03F7/023 , C08F12/02 , C08F20/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive radiation sensitive resin composition, from which an interlayer insulating film can be formed, the film having high radiation sensitivity and development margin and excellent heat resistance, solvent resistance, low dielectric property, transmittance for rays, resistance against light and resistance against dry etching. SOLUTION: The positive radiation sensitive resin composition contains [A] an alkali-soluble resin having a hindered amine structure and/or a hindered phenol structure and [B] a 1,2-quinone diazide compound. The component [A] can be preferably a copolymer obtained from (a1) at least one kind of monomer selected from unsaturated carboxylic acid and unsaturated carboxylic acid anhydride and (a2) an acrylic acid ester unit containing a hindered amine structure and/or a hindered phenol structure, and in addition to the compounds of (a1) and (a2), (a3) a monomer containing an epoxy group-containing unsaturated compound. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：为了提供可以形成层间绝缘膜的正辐射敏感性树脂组合物，该膜具有高的辐射敏感性和显影边缘，并且具有优异的耐热性，耐溶剂性，低介电性，对于光线抗光，耐干蚀刻。解决方案：正射线敏感性树脂组合物含有[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱溶性树脂，[B] 1,2-醌二叠氮化合物。组分[A]可以优选是由（a1）至少一种选自不饱和羧酸和不饱和羧酸酐的单体获得的共聚物和（a2）含有受阻胺结构和/或受阻的丙烯酸酯单元苯酚结构，除（a1）和（a2）的化合物外，（a3）含有含环氧基的不饱和化合物的单体。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

97. 发明专利

JP4233404B2 Demineralization method of the polymer, and the polymer production process of the 有权
公开(公告)号：JP4233404B2
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：JP2003209613
申请日：2003-08-29
申请人：丸善石油化学株式会社
发明人：昌章工藤 , 利郁竹森 , 正志飯田 , 住輝高谷
IPC分类号： C08F6/08 , C08F10/00 , C08F6/06 , C08F12/00 , C08F12/02 , C08G85/00

99. 发明专利

JP4134412B2 失效
公开(公告)号：JP4134412B2
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：JP36834698
申请日：1998-12-25
IPC分类号： C01B33/42 , C08L33/06 , C08F2/44 , C08F8/00 , C08F12/02 , C08F16/12 , C08F18/04 , C08F20/10 , C08F20/44 , C08K3/24 , C08K9/04 , C08L101/02 , C09C1/28 , C09C3/10

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