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    • 106. 发明公开
    • 방사선 세기 변조체 제조 방법 및 제조 장치
    • 辐射束强度调制器制造方法及其设备
    • KR1020160073174A
    • 2016-06-24
    • KR1020140181629
    • 2014-12-16
    • 사회복지법인 삼성생명공익재단
    • 주상규
    • A61N5/10
    • B29C64/393A61N5/1038A61N5/1043A61N5/1065A61N5/1077A61N2005/1095A61N2005/1096B29C64/20B33Y10/00B33Y80/00A61N5/10A61N5/1001A61N5/1002
    • 본발명은방사선세기변조체제조방법및 그제조장치에관한것으로, 본발명에따른방사선세기변조체제작방법은치료계획시스템에서제공된밀도매트릭스(density matrix)로표현된선량변조정보또는 3차원구조체정보를획득하는단계, 상기치료계획시스템에서제공된방사선세기변조체의설계조건정보를획득하는단계, 상기방사선세기변조체의설계조건정보와상기밀도매트릭스로표현된선량변조정보또는 3차원구조체정보를기초로방사선세기변조체구조를생성하는단계, 실제제작조건및 치료조건중 적어도하나이상과상기방사선세기변조체의설계조건정보를비교하여상기생성된방사선세기변조체구조를조정하는단계및 상기조정된방사선세기변조체구조를기초로방사선세기변조체를제작하는단계를포함한다.
    • 本发明涉及一种用于制造辐射强度调制器的方法和装置。 根据本发明的制造辐射强度调制器的方法包括以下步骤:获取以由治疗计划系统提供的密度矩阵表示的剂量调制信息或三维结构信息; 获取从治疗计划系统提供的辐射强度调制器的设计条件信息; 基于辐射强度调制器的设计条件信息和以密度矩阵表示的剂量调制信息或三维结构信息产生辐射强度调制器结构; 通过将实际制造条件和治疗条件中的至少一个与辐射强度调制器的设计条件信息进行比较来调整所产生的辐射强度调制器结构; 并且基于经调整的辐射强度调制器结构制造辐射强度调制器。 本发明的目的是提供一种用于制造辐射强度调制器的方法和装置,其能够通过使用三维打印机快速且精确地制造辐射强度调制器。
    • 107. 发明公开
    • 표적 체적을 방사 치료 장치에 위치시키기 위한 장치 및방법
    • 用于定位辐射治疗装置中目标体积的装置和方法
    • KR1020080098482A
    • 2008-11-10
    • KR1020087016151
    • 2006-12-12
    • 이온빔 어플리케이션스 에스.에이.
    • 용겐,위베스라바르베,루디
    • A61N5/10
    • A61N5/1049A61B6/0421A61N5/1065A61N5/1069A61N2005/1087
    • Device for positioning a target volume (112) such, as a phantom or a patient in a radiation therapy apparatus, said apparatus directing a radiation beam (405) towards said target (112), characterized in that it comprises:-a target support (100) whereon the target is immobilized; a two dimensional radiation detector (103) fixed with fixations means (101,102, 104, 106 107; 301, 302, 304, 305, 306; 208, 209) in a known geometric relationship to said target support (100), said radiation detector (103) being capable of detecting the position of intersection of said radiation beam (105) with said detector (103) ; correcting means for correcting the relative position of said beam (105) and said target support 100), based on said detected intersection position.
    • 用于在放射治疗设备中定位目标体积(112)的装置,例如幻影或患者,所述装置将辐射束(405)引向所述目标(112),其特征在于,其包括:目标支撑 100)目标是固定的; 以与已知几何关系的固定装置(101,102,104,106,107; 301,302,304,305,306,208,209)固定的二维辐射探测器(103),所述辐射探测器 (103)能够检测所述辐射束(105)与所述检测器(103)的相交的位置; 校正装置,用于基于所述检测到的交叉位置校正所述光束(105)和所述目标支撑件100的相对位置。
    • 110. 发明专利
    • 粒子束照射系統及粒子束照射系統之控制方法 PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING THE PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM
    • 粒子束照射系统及粒子束照射系统之控制方法 PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING THE PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM
    • TW201143841A
    • 2011-12-16
    • TW100112439
    • 2011-04-11
    • 三菱電機股份有限公司
    • 原田久
    • A61NG21K
    • A61N5/1042A61N5/1043A61N5/1049A61N5/1065A61N5/1079A61N2005/1074A61N2005/1087G21K1/093
    • 本發明的目的為在粒子束照射系統中,給予更佳精確度的高劑量分佈。照射控制部(13)係具備有:能量設定控制器(14),用以設定帶電粒子射束的能量;射束掃描控制器(16),用以控制射束掃描器(41);以及射束直徑控制器(15),用以控制射束直徑變更器(40、60);而照射控制部(13)係以下述方式進行控制:藉由射束直徑控制器(15)將帶電粒子射束的射束直徑設定為第一射束直徑,並藉由射束掃描控制器(16)將帶電粒子射束以階梯狀掃描並對照射目標的預定區域照射帶電粒子射束;之後,藉由射束直徑控制器(15)將帶電粒子射束的射束直徑設定為與第一射束直徑相異的第二射束直徑,並藉由射束掃描控制器(16)將帶電粒子射束以階梯狀掃描,並以對與照射目標的預定區域的至少一部份重疊的區域照射帶電粒子射束。
    • 本发明的目的为在粒子束照射系统中,给予更佳精确度的高剂量分布。照射控制部(13)系具备有:能量设置控制器(14),用以设置带电粒子射束的能量;射束扫描控制器(16),用以控制射束扫描仪(41);以及射束直径控制器(15),用以控制射束直径变更器(40、60);而照射控制部(13)系以下述方式进行控制:借由射束直径控制器(15)将带电粒子射束的射束直径设置为第一射束直径,并借由射束扫描控制器(16)将带电粒子射束以阶梯状扫描并对照射目标的预定区域照射带电粒子射束;之后,借由射束直径控制器(15)将带电粒子射束的射束直径设置为与第一射束直径相异的第二射束直径,并借由射束扫描控制器(16)将带电粒子射束以阶梯状扫描,并以对与照射目标的预定区域的至少一部份重叠的区域照射带电粒子射束。