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31. 发明公开

KR20180017114A 잉크젯용 수성 잉크 조성물 审中-公开
标题翻译：喷墨用水性油墨组合物
公开(公告)号：KR20180017114A
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR20187000728
申请日：2016-06-15
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： SAGARA SONOKO , MORIKAWA SOICHIRO , FUJIMORI YOSHIHISA
IPC分类号： C09D11/38 , B41F17/36 , B41M5/00 , C09D11/324 , C09D11/326
CPC分类号： A61K47/32 , B41F17/36 , B41M5/00 , C09D11/324 , C09D11/326 , C09D11/38
摘要： 토출안정성이뛰어나고, 또한, 의약품이나식품등의정제등에대해, 잉크젯방식으로직접인쇄하는것이가능한가식성잉크젯용수성잉크조성물을제공한다. 본발명에따르는잉크젯용수성잉크조성물은, 잉크젯기록에이용하는잉크젯용수성잉크조성물로서, 착색제와, 카프릴산폴리글리세릴을주성분으로하는토출안정제를적어도포함하고, 상기토출안정제의 HLB가 15 이상이며, 전체질량에대해 1질량%~5질량%의범위로포함하고, 25℃에있어서의표면장력이 25mN/m~40mN/m의범위인것을특징으로한다.
摘要翻译：优异的喷出稳定性，并且还提供一种用于喷墨的水基油墨组合物增殖，能够直接在喷墨法等进行纯化，印刷例如药物或食物。根据本发明的组合物用于喷墨用水性墨液，作为喷墨记录中使用的喷墨水性油墨组合物，着色剂和，辛酸聚酯包括主要由至少甘油酯构成的放电稳定，放电稳定剂的HLB 15个或更多和进一步的特征在于包括：质量最高的1％至5％（重量）的总质量的范围内，和25MN /米的25℃的排名的表面张力内 - 40MN / m的范围内。

32. 发明公开

KR20200141510A 포토마스크 검사 장치 및 포토마스크 검사 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20200141510A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：KR20207033118
申请日：2019-05-10
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： KISHIMOTO RYO , YAMAMOTO SHINGO , NAKASHIMA NAOTO
IPC分类号： G03F1/84 , G01N21/956 , G03F1/26
摘要： 보다측정에적합한회절패턴을검출할수 있는포토마스크검사장치를제공한다. 포토마스크검사장치는, 위상시프트마스크의위상시프트부의패턴특성을측정한다. 포토마스크검사장치는유지부와조사부와슬릿마스크와푸리에변환렌즈와제 1 광학센서를구비한다. 유지부는위상시프트마스크를유지한다. 조사부는투광부와위상시프트부를포함하는영역에광을조사한다. 슬릿마스크는슬릿을갖고, 투광부의폭방향에있어서의일부및 위상시프트부의폭방향에있어서의전체를투과한광이슬릿을통과하는위치에배치된다. 푸리에변환렌즈는슬릿을통과한광이입사된다. 제 1 광학센서는푸리에변환렌즈로부터의광의회절패턴을복수의타이밍으로검출한다.

33. 发明公开

KR20200138354A 기판 처리 방법, 기판 처리 장치, 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 审中-公开
公开(公告)号：KR20200138354A
公开(公告)日：2020-12-09
申请号：KR20207031316
申请日：2019-05-09
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： MORII TOSHIKI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
摘要： 구획최종사용시각에기초하여복수의처리구획중에서 1 개의처리구획을선택한다. 구획최종사용시각은, 동일한처리구획에속하는복수의처리유닛의유닛최종사용시각또는수정유닛최종사용시각중에서가장오래된시각이다. 수정유닛최종사용시각은, 유닛최종사용시각으로부터반송시간을뺀 시각이다. 그리고, 선택된처리구획에속하는복수의처리유닛중에서 1 개의처리유닛을선택한다. 그후, 기판이, 기판반송시스템에의해, 로드포트상의캐리어로부터, 선택된처리유닛으로반송된다.

34. 发明公开

KR20200138052A 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20200138052A
公开(公告)日：2020-12-09
申请号：KR20200064270
申请日：2020-05-28
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： FUJIWARA NAOZUMI , OTSUJI MASAYUKI , KATO MASAHIKO , YAMAGUCHI YU
IPC分类号： H01L21/02 , F26B5/00 , H01L21/687
摘要： 기판처리방법은, 액체를거치지않고고체에서기체로변화하는승화성물질과상기승화성물질을용해시키는용매를포함하는용액인승화성물질함유액을, 패턴이형성된기판의표면에공급함으로써, 상기기판의표면을덮는상기승화성물질함유액의액막을상기기판의표면상에형성하는승화성물질함유액막형성공정과, 상기액막으로부터상기용매를증발시켜상기승화성물질의고체를형성함으로써, 상기승화성물질의고체가결정화하기전의결정전 전이상태인전이상태막을상기기판의표면에형성하는전이상태막형성공정과, 상기승화성물질의고체를상기결정전 전이상태로유지하면서, 상기기판의표면상의상기승화성물질의고체를승화시킴으로써, 상기전이상태막을상기기판의표면으로부터제거하는전이상태막제거공정을포함한다.

35. 发明公开

KR20200138041A 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20200138041A
公开(公告)日：2020-12-09
申请号：KR20200063581
申请日：2020-05-27
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： HIGASHI KATSUEI , MORI TAKASHI , NADA KAZUNARI , UEMAE SHOJI , SHINJO JUNICHI , HIDEURA SHINJI
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 제1 공급배관에의해희석용액이공급되고, 제2 공급배관에의해약액이공급된다. 제1 공급배관을흐르는희석용액의유량이조정부에의해조정된다. 혼합탱크에있어서제1 공급배관에의해공급된희석용액과제2 공급배관에의해공급된약액이혼합된다. 희석용액과약액의혼합액중의약액의농도가농도계에의해계측된다. 농도계에의해계측되는농도가설정값이되도록희석용액의유량의보정량이제어부에의해결정되고, 결정된보정량이조정부에부여된다. 부여된보정량에의거하여제1 공급배관을흐르는희석용액의유량이조정부에의해보정된다.

36. 发明公开

KR20200125675A 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20200125675A
公开(公告)日：2020-11-04
申请号：KR20207027798
申请日：2019-02-07
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： UEDA DAI , SASAKI YUTA , HANAWA YOSUKE , KITAGAWA HIROAKI
IPC分类号： H01L21/02 , B08B3/10 , F26B5/10 , H01L21/67 , H01L21/687
摘要： 기판의상면에액막을형성하고이것을양호하게응고시키는프로세스를포함하는기판처리기술이제공된다. 기판처리방법은, 패턴이형성되고, 액체가부착된기판의표면에대해, 건조가스를공급하여, 기판의표면의주변을건조분위기로하는분위기제어공정과, 기판의표면에대해응고대상액을공급하는응고대상액공급공정과, 응고대상액의액막을응고시켜응고체를형성하는응고공정을포함한다. 분위기제어공정은, 응고대상액공급공정에있어서기판의표면에공급된응고대상액의액막이형성되기전에개시된다.

37. 发明公开

KR20180066889A 탈산소 장치 및 기판 처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：KR20180066889A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：KR20180064862
申请日：2018-06-05
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： KIKUMOTO NORIYUKI , SASAKI MITSUTOSHI , KOBAYASHI KENJI
IPC分类号： H01L21/02 , B01D19/00 , B01D19/02 , H01L21/67
CPC分类号： B01D19/0005 , B01D19/0063 , B08B3/00 , C11D11/0047 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/67253
摘要： 탈산소장치는, 대상액의용존산소농도를저감하는장치이다. 탈산소장치는, 대상액을저류하는저류조와, 산소와는다른첨가가스를저류조내의대상액중에공급하는가스공급부와, 가스공급부로부터대상액중에공급되는첨가가스의공급개시로부터의총량인총 공급량과대상액중의용존산소농도와의관계를나타내는상관정보를기억하는기억부와, 당해총 공급량과당해상관정보에기초하여대상액중의용존산소농도를구하는연산부를구비한다. 이로써, 산소농도계등에의해대상액의용존산소농도를측정하지않고, 대상액의용존산소농도를용이하게취득할수 있다.

38. 发明公开

KR20180029914A 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：基板处理方法和基板处理设备
公开(公告)号：KR20180029914A
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：KR20170115954
申请日：2017-09-11
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： OTSUJI MASAYUKI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B5/00 , H01L21/02057 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67253 , H01L21/68764
摘要： 기판처리방법은, 기판을수평으로유지하는기판유지공정과, 상기기판의상면에처리액을공급하여, 당해기판의상면을덮는처리액의액막을형성하는액막형성공정과, 상기처리액의액막으로부터처리액을부분적으로배제하여, 상기처리액의액막에액막제거영역을형성하는액막제거영역형성공정과, 상기액막제거영역을상기기판의외주를향해서확대시키는액막제거영역확대공정과, 상기액막제거영역확대공정에병행하여, 상기액막제거영역과상기처리액의액막의경계의주위의분위기를, 불화수소를포함하는증기의분위기로유지하는불화수소분위기유지공정을포함한다.
摘要翻译：基板处理方法包括：水平保持基板的基板保持工序;向基板的上表面供给处理液，形成覆盖基板的上表面的处理液的液膜的液膜形成工序; 从处理液的液膜部分地除去处理液，在处理液的液膜中形成液膜除去区域的液膜去除区域形成工序;将液膜除去区域形成工序扩大将液膜去除区域朝向基板的外周的氟化氢气氛保持工序，以及将液膜除去区域与处理液的液膜的边界的气氛保持为氟化氢气氛的氟化氢气氛保持工序与液膜除去区域扩大工序并行。

39. 发明公开

KR20180025213A 기판 처리 장치 및 노즐 세정 방법 审中-公开
标题翻译：基板处理装置和喷嘴清洁方法
公开(公告)号：KR20180025213A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：KR20170107180
申请日：2017-08-24
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： MIURA ATSUYASU , IKEDA MASAHIDE , TSUJIKAWA HIROKI , FUJITA KAZUHIRO , TSUCHIHASHI YUYA
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67051 , B05B1/02 , B05B15/025 , B05B15/55 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/6715
摘要： 기판처리장치의제어장치는, 스핀척이기판을유지하고있지않을때에, 하면노즐에세정액을토출시킴으로써, 하면노즐로부터상방으로연장되는액기둥을형성하는액기둥형성공정과, 액기둥형성공정과병행하여, 상면노즐의수하부가액기둥에접촉하지않는제 1 위치와, 상면노즐의수하부가액기둥에접촉하지않는제 2 위치사이에서상면노즐을수평으로왕복시킴으로써, 평면으로볼 때상면노즐의상측토출구가액기둥에겹치는제 1 중간위치를상면노즐에통과시키는제 1 수하부세정공정을실행한다.
摘要翻译：基板处理装置的控制器执行液柱形成步骤，在旋转卡盘未保持基板时通过下表面喷嘴排出清洗液以形成从下表面喷嘴向上延伸的液柱，与液柱形成工序并行地进行第一下降部清洗工序，在该第一下降部清洗工序中，上表面喷嘴在上表面喷嘴的下落部不与液柱接触的第一位置与第二下降位置之间水平往返移动，上表面喷嘴的上部喷嘴的一部分不与液柱接触，从而使上表面喷嘴在俯视时通过上表面喷嘴的上部喷出口与液柱重叠的第一中间位置。

40. 发明公开

KR20180021164A 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：基板处理方法和基板处理装置
公开(公告)号：KR20180021164A
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：KR20187002586
申请日：2016-06-07
申请人： SCREEN HOLDINGS CO LTD
发明人： OTSUJI MASAYUKI , HONSHO KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/304
摘要： 이기판처리방법은, 기판의표면을, 처리액을사용하여처리하는기판처리방법으로서, 상기기판의표면에부착되어있는처리액을, 제 1 액체와, 상기제 1 액체보다비점이높고또한상기제 1 액체보다낮은표면장력을갖는제 2 액체의혼합액으로치환하는혼합액치환공정과, 상기혼합액치환공정후, 상기기판의표면으로부터상기혼합액을제거하는혼합액제거공정을포함한다.
摘要翻译：该基板处理方法通过使用处理液来处理基板的表面，并且包括：混合液体替换步骤，其中附着到基板的表面的处理液被混合液体替换为第一液体和第二液体的混合物液体，其具有比第一液体更高的沸点和比第一液体更低的表面张力; 以及混合液除去工序，在混合液除去工序之后，从基板的表面除去混合液。

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