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31. 发明公开

CN1761907A 光学元件、光学系统、激光器装置、曝光设备、掩模检测装置和高分子晶体加工设备失效
公开(公告)号：CN1761907A
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200480007623.6
申请日：2004-03-22
申请人：株式会社尼康
发明人：三轮聪
IPC分类号： G02B27/00 , G02F1/37 , H01S3/02 , G03F7/20 , G03F1/08 , H01L21/027 , B23K26/02
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B3/06 , G02B27/0043 , G02F1/353 , G02F1/3532 , G02F2001/354 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , G03F7/70666 , G03F7/708 , G03F7/70825 , G03F7/70941 , G03F7/70983
摘要：柱状透镜11a和11b的母线方向垂直于光轴且彼此垂直。结果，组合柱状透镜11a和11b的光学系统可以实现与球面透镜相同的光学效果。此系统的特征在于如下事实：即因为各个透镜为柱状透镜，所以即使透镜在母线方向移动，光轴也没有移位。例如，在透镜上的划伤变得显著的情况下，可以通过移动机构(图中未示出)例如配备有测微仪的平台将透镜在母线方向(箭头所示的方向)上移动并利用透镜的未使用部分而延长激光器装置的使用寿命。

32. 发明公开

CN1550902A 改进的图形发生器反射镜结构无效
公开(公告)号：CN1550902A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410035361.6
申请日：1999-03-02
申请人：微激光系统公司
发明人：托布约姆·桑德斯特罗姆
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/06 , H01L21/027 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/70725 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B41J2/465 , G02B26/0833 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G02B27/4205 , G03F7/2022 , G03F7/70041 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/704 , G03F7/70475 , G09G3/2007 , G09G3/346 , H04N1/195 , H04N5/7458 , H04N2201/0414
摘要：本发明涉及到一种用来在对辐射敏感的工件上产生诸如光掩模、显示屏或微光学器件之类的图形的装置。此装置包含辐射源和具有多个调制元件/象素的空间调制器。它还包含将驱动信号馈送到调制器的电子数据处理和发送系统、用来移动所述工件的精密机械系统、以及对工件的运动、到调制器的信号馈送和辐射的强度进行协调以便将分图形顺序产生的分图象缝合成所述图形的电子控制系统。根据本发明，驱动信号能够将调制元件设定到多于2的多个状态。

33. 发明授权

CN1173234C 采用超紫外光的图形发生器失效
公开(公告)号：CN1173234C
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN99803476.2
申请日：1999-03-02
申请人：微激光系统公司
发明人：托布约姆·桑德斯特罗姆
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/207 , G02B26/00 , G03F1/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B41J2/465 , G02B26/0833 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G02B27/4205 , G03F7/2022 , G03F7/70041 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/704 , G03F7/70475 , G09G3/2007 , G09G3/346 , H04N1/195 , H04N5/7458 , H04N2201/0414
摘要：本发明涉及到一种用来在工件上产生诸如半导体芯片上的图形之类的具有极高分辨率的图形的装置。此装置包含用来发射EUV波长范围的电磁辐射源、具有多个象素的空间调制器(SLM)、接受待要写入的图形的数字表述、从中提取分图形序列、将所述分图形转换成调制器信号并将所述信号馈送到调制器的电子数据处理和发送系统、用来彼此相关地移动所述工件和/或投影系统的精密机械系统。它还包含对工件的运动、到调制器的信号馈送和辐射的强度进行协调以便将分图象缝合在一起形成所述图形的电子控制系统。

34. 发明公开

CN1495528A 光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件失效复审申请
公开(公告)号：CN1495528A
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN03132763.X
申请日：2003-08-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·P·巴克科 , J·乔克斯 , F·J·P·舒厄曼斯 , H·M·维斯塞
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B17/004 , G02B17/006 , G02B27/0043 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70891 , G03F7/70916
摘要：本发明披露一种光刻投射装置，包括可产生辐射投射光束的辐射系统，投射光束来自辐射源射出的辐射；用于支撑构图部件的支撑结构，当由投射光束辐射时提供带图案的投射光束；用于固定基底的基底台；以及投射系统，设置和安排为将构图部件的照射部分成像在基底的靶部上。辐射系统进一步包括离开光轴一段距离的孔径，从光源方向看位于孔径之后的反射器，以及位于孔径之后的低辐射强度区域内的结构。

35. 发明公开

CN1292102A 采用超紫外光的图形发生器失效
公开(公告)号：CN1292102A
公开(公告)日：2001-04-18
申请号：CN99803476.2
申请日：1999-03-02
申请人：微激光系统公司
发明人：托布约姆·桑德斯特罗姆
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/207 , G02B26/06 , G03F1/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B41J2/465 , G02B26/0833 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G02B27/4205 , G03F7/2022 , G03F7/70041 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/704 , G03F7/70475 , G09G3/2007 , G09G3/346 , H04N1/195 , H04N5/7458 , H04N2201/0414
摘要：本发明涉及到一种用来在工件上产生诸如半导体芯片上的图形之类的具有极高分辨率的图形的装置。此装置包含用来发射EUV波长范围的电磁辐射源、具有多个象素的空间调制器(SLM)、接受待要写入的图形的数字表述、从中提取分图形序列、将所述分图形转换成调制器信号并将所述信号馈送到调制器的电子数据处理和发送系统、用来彼此相关地移动所述工件和/或投影系统的精密机械系统。它还包含对工件的运动、到调制器的信号馈送和辐射的强度进行协调以便将分图象缝合在一起形成所述图形的电子控制系统。

36. 发明申请

WO2018078633A1 REFLECTOR EYE SIGHT WITH COMPACT BEAM COMBINER 审中-公开
标题翻译：带紧凑型光束合成器的反射镜眼睛
公开(公告)号：WO2018078633A1
公开(公告)日：2018-05-03
申请号：PCT/IL2017/051180
申请日：2017-10-30
申请人： KASHTER, Yuval , RAN, Adam , BAR-YOSEF, Ran
发明人： KASHTER, Yuval , RAN, Adam , BAR-YOSEF, Ran
IPC分类号： G02B27/10 , G02B27/01 , G02B27/40 , G02B27/42
CPC分类号： G02B3/08 , G02B27/0043 , G02B27/0172 , G02B27/4216 , G02B2027/013
摘要： An eye sight operable to augment a real-world view with virtual data is disclosed. The eye sight comprises a lens positioned between a user and the real-world view, said lens comprising conjugated diffractive elements wherein the conjugated diffractive elements comprise a surface with an antireflective coating, and wherein said conjugated diffractive elements are joined to form a concave surface and convex surface, said concave surface being orientated toward the real-world view and said convex surface being orientated toward the user. The eye sight further comprises a computer processing device comprising a transmission component and a transmission lens, said computer processing device being operable to transmit virtual data via the transmission component to be augmented with said real-world view, said transmission lens being operable to focus said virtual data onto said convex surface of said lens, wherein said lens transmits said real-world view to said user without distortion or modification.
摘要翻译：公开了一种可用虚拟数据增强真实世界视图的眼睛瞄准镜。该瞄准器包括位于使用者和真实世界视图之间的透镜，所述透镜包括共轭衍射元件，其中共轭衍射元件包括具有抗反射涂层的表面，并且其中所述共轭衍射元件连接以形成凹面并且所述凹面朝向真实世界视图，并且所述凸面朝向用户。所述视线进一步包括计算机处理设备，所述计算机处理设备包括传输组件和传输透镜，所述计算机处理设备可操作以经由所述传输组件传输虚拟数据以用所述真实世界视图进行增强，所述传输镜头可操作以聚焦所述将虚拟数据提供到所述透镜的所述凸面上，其中所述透镜将所述真实世界视图发送给所述用户而没有失真或修改。

37. 发明申请

WO2012013748A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013748A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062997
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, comprising a plurality of reflective optical elements, each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein at least one reflective optical element comprises a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature, and wherein the body of the optical element is semitransparent to IR radiation. Further, the body comprises a coating on or on almost its entire surface, wherein the coating reflects IR radiation inside the body.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，包括多个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于将投影透镜与基板上的图像场一起投射到基板上的图像场上， EUV光的曝光功率，其中至少一个反射光学元件包括在零交叉温度下具有温度依赖的热膨胀系数为零的材料，并且其中所述光学元件的主体与IR辐射半透明。此外，主体包括在其整个表面上或之上的涂层，其中涂层反射体内的IR辐射。

38. 发明申请

WO2007111104A1 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：投影光学系统，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007111104A1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：PCT/JP2007/054500
申请日：2007-03-08
申请人：株式会社ニコン , 高橋友刀
发明人：高橋友刀
IPC分类号： G02B17/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G02B27/0043 , G02B17/0657 , G03F7/70233
摘要：　例えば０．４５以上の比較的大きな像側開口数を有し、且つ反射面の面形状誤差を所要の精度で検査することのできる投影光学系。第１面（４）からの光に基づいて第１面の中間像を形成する第１反射結像光学系Ｇ１と、中間像からの光に基づいて縮小像を第２面（７）上に形成する第２反射結像光学系Ｇ２とを備えている。第１反射結像光学系Ｇ１は、第１凹面反射鏡Ｍ１と、第２凸面反射鏡Ｍ２と、第３反射鏡Ｍ３と、第４凹面反射鏡Ｍ４とを有する。第２反射結像光学系Ｇ２は、第５凹面反射鏡Ｍ５と、第６反射鏡Ｍ６と、第７凸面反射鏡Ｍ７と、第８凹面反射鏡Ｍ８とを有する。第２反射鏡Ｍ２の反射面の中心曲率半径の絶対値をＲＭ２とし、第１面における最大物体高をＨ０とするとき、１＜ＲＭ２／Ｈ０＜６の条件を満足する。
摘要翻译：提供了具有例如0.45以上的相对大的像侧数值孔径的投影光学系统，并且可以以规定的精度检查反射面的平面形状误差。投影光学系统设置有：第一反射成像光学系统（G1），用于基于来自第一平面（4）的光形成第一平面的中间图像;以及第二反射成像光学系统（G2），用于形成减小的基于来自中间图像的光在第二平面（7）上的图像。第一反射成像光学系统（G1）设置有第一凹面反射镜（M1），第二凸面反射镜（M2），第三反射镜（M3）和第四凹面反射镜（M4）。第二反射成像光学系统（G2）设置有第五凹面反射镜（M5），第六反射镜（M6），第七凸面反射镜（M7）和第八凹面反射镜（M8）。满足1

39. 发明申请

WO02054036A1 IMAGING CHARACTERISTICS MEASURING METHOD, IMAGING CHARACTERIATICS ADJUSTING METHOD, EXPOSURE METHOD AND SYSTEM, PROGRAM AND RECORDING MEDIUM, AND DEVICE PRODUCING METHOD 审中-公开
标题翻译：成像特性测量方法，成像特征调整方法，曝光方法和系统，程序和记录介质以及设备生产方法
公开(公告)号：WO02054036A1
公开(公告)日：2002-07-11
申请号：PCT/JP2001/011588
申请日：2001-12-27
IPC分类号： G02B7/02 , G02B27/00 , G03F7/20 , G01M11/00 , G02B7/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/705 , G02B7/023 , G02B27/0043 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70591 , G03F7/706
摘要： When the actually measured data of wave aberration in a projection optical system (PL) is input, a control device (50) calculates, based on that data and the Zernike variation table of targeted imaging characteristics prepared before the input of the data, the targeted imaging characteristics of a projection optical system. A group of parameters indicating the relation between the adjustment of specific adjustable optical elements (131-134) and changes in imaging characteristics of a projection optical system are determined in advance, and stored in a storage device (42). When the actually measured data of imaging characteristics of a projection optical system is input, a main control device calculates the target adjustment amount of a specific optical element by using the relational expression among the measured data, the group of parameters and the target adjustment amount of a specific optical element and adjustment is made.
摘要翻译：当输入投影光学系统（PL）中的实际测量的波像数据时，控制装置（50）基于该数据和在输入数据之前准备的目标成像特性的Zernike变化表来计算目标投影光学系统的成像特性。预先确定指示特定可调节光学元件（131-134）的调整与投影光学系统的成像特性的变化之间的关系的一组参数，并存储在存储装置（42）中。当输入投影光学系统的成像特性的实际测量数据时，主控制装置通过使用测量数据，参数组和目标调整量中的关系表达式来计算特定光学元件的目标调整量进行特定的光学元件的调整。

40. 发明申请

WO2016020121A1 LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING A DEVICE 审中-公开
标题翻译：平面设备和制造设备的方法
公开(公告)号：WO2016020121A1
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/EP2015/064793
申请日：2015-06-30
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： VAN DEN NIEUWELAAR, Norbertus, Josephus, Martinus , BLANCO CARBALLO, Victor, Manuel , DE GROOT, Casper, Roderik , CUSTERS, Rolf, Hendrikus, Jacobus , PHILLIPS, David, Merritt , VAN DER ZANDEN, Frederik, Antonius , GUNTER, Pieter, Lein, Joseph , EUMMELEN, Erik, Henricus, Egidius, Catharina , VAN DE VIJVER, Yuri, Johannes, Gabriël , SCHOLTEN, Bert, Dirk , WOUTERS, Marijn , KOX, Ronald, Frank , VIEYRA SALAS, Jorge, Alberto
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B27/0043 , G03F7/2043 , G03F7/70358 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/70925
摘要： An immersion lithography apparatus has a controller (500) configured to control a substrate table (WT) to move along an exposure route including in order: an entry motion (R2) in which the substrate moves from an off-substrate position at which the immersion space (10) does not overlap the substrate (W) to an on-substrate position at which the immersion space at least partially overlaps the substrate, a transfer motion (R3, R4) in which the substrate table changes speed and/or direction and moves for at least a transfer time after the substrate moves to the on-substrate position, and an expose motion in which the substrate is scanned and the patterned beam is projected onto the substrate, wherein throughout the transfer motion at least a part of the immersion space overlaps the substrate and wherein the patterned bean is not projected onto the substrate during the entry motion and the transfer motion.
摘要翻译：浸没式光刻设备具有控制器（500），其被配置为控制衬底台（WT）沿着包括以下顺序的曝光路线移动：进入运动（R2），其中衬底从浸没空间（10）不与衬底（W）重叠到浸没空间至少部分地与衬底重叠的衬底上位置，衬底台改变速度和/或方向的转移运动（R3，R4）和在基板移动到基板上位置之后移动至少一个传送时间，以及曝光动作，其中基板被扫描并且图案化的光束投影到基板上，其中贯穿整个传送运动至少一部分浸没空间与衬底重叠，并且其中图案化的豆在进入运动和转移运动期间不投影到衬底上。

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