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41. 发明专利

TWI650888B 複層薄膜、光學異向性積層體、圓偏光板、有機電激發光顯示裝置及其製造方法有权
简体标题：复层薄膜、光学异向性积层体、圆偏光板、有机电激发光显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI650888B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103137154
申请日：2014-10-28
申请人：日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：山中俊介 , YAMANAKA, SHUNSUKE , 齊藤昌和 , SAITO, MASAKAZU , 橋本弘昌 , HASHIMOTO, HIROMASA
IPC分类号： H01L51/52 , H01L51/54 , H01L51/56

42. 发明专利

TW201903010A 相位差薄膜及製造方法审中-公开
简体标题：相位差薄膜及制造方法
公开(公告)号：TW201903010A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107117689
申请日：2018-05-24
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：淺田毅 , ASADA, TAKESHI
IPC分类号： C08J5/18 , G02F1/13363 , G02B5/30
摘要：一種相位差薄膜，其僅由包含聚合單元A及聚合單元B之1種的共聚物P實質而成，具有顯現結構性雙折射之相分離結構，且具有大於0且小於1之NZ係數，與其製造方法。其較佳為：前述相分離結構包含以前述聚合單元A作為主成分的相及以前述聚合單元B作為主成分之相，且前述相分離結構具有層狀、圓筒、類球體的任一的形態，而且前述相分離結構中之相間距離為200nm以下。
简体摘要：一种相位差薄膜，其仅由包含聚合单元A及聚合单元B之1种的共聚物P实质而成，具有显现结构性双折射之相分离结构，且具有大于0且小于1之NZ系数，与其制造方法。其较佳为：前述相分离结构包含以前述聚合单元A作为主成分的相及以前述聚合单元B作为主成分之相，且前述相分离结构具有层状、圆筒、类球体的任一的形态，而且前述相分离结构中之相间距离为200nm以下。

43. 外观设计

TWD194424S 攜帶型太陽電池面板之部分有权
简体标题：便携式太阳电池皮肤之部分
公开(公告)号：TWD194424S
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106303029D01
申请日：2017-06-05
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
设计人：児島清茂 , KOJIMA, KIYOSHIGE , 林祐紀 , HAYASHI, YUKI

44. 发明专利

TW201840594A 含羧基腈橡膠的製造方法审中-公开
简体标题：含羧基腈橡胶的制造方法
公开(公告)号：TW201840594A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107109463
申请日：2018-03-20
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：吉村務 , YOSHIMURA, TSUTOMU
IPC分类号： C08F2/40 , C08C1/14 , C08L13/02
摘要：提供穩定性優異且著色發生受抑制之含羧基腈橡膠的製造方法。提供一種含羧基腈橡膠的製造方法，其具備以下工序：在溶劑中，聚合含有α,β-乙烯性不飽和腈單體及含羧基單體的單體混合物之工序、藉由將亞硝酸鹽與非水溶性氫醌作為聚合終止劑添加於聚合系統中，使聚合反應終止，得到pH為7以下的含羧基腈橡膠的分散液之工序、藉由使前述含羧基腈橡膠的分散液凝固，得到固體狀的含羧基腈橡膠之工序。相對於在聚合反應中使用的單體混合物100重量份，前述亞硝酸鹽的使用量定為0.15重量份以下。
简体摘要：提供稳定性优异且着色发生受抑制之含羧基腈橡胶的制造方法。提供一种含羧基腈橡胶的制造方法，其具备以下工序：在溶剂中，聚合含有α,β-乙烯性不饱和腈单体及含羧基单体的单体混合物之工序、借由将亚硝酸盐与非水溶性氢醌作为聚合终止剂添加于聚合系统中，使聚合反应终止，得到pH为7以下的含羧基腈橡胶的分散液之工序、借由使前述含羧基腈橡胶的分散液凝固，得到固体状的含羧基腈橡胶之工序。相对于在聚合反应中使用的单体混合物100重量份，前述亚硝酸盐的使用量定为0.15重量份以下。

45. 发明专利

TW201840543A 聚合性化合物、聚合性液晶混合物、高分子、光學薄膜、光學各向異性體、偏光板、顯示裝置、抗反射薄膜及化合物审中-公开
简体标题：聚合性化合物、聚合性液晶混合物、高分子、光学薄膜、光学各向异性体、偏光板、显示设备、抗反射薄膜及化合物
公开(公告)号：TW201840543A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107108624
申请日：2018-03-14
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：坂本圭 , SAKAMOTO, KEI , 奥山久美 , OKUYAMA, KUMI , 美馬孝則 , MIMA, TAKANORI
IPC分类号： C07D277/82 , C08F20/38 , G02B1/04 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：提供能夠製造可確保長波長側之逆波長色散性、同時提升短波長側之逆波長色散性，明度及彩度之平衡良好的光學薄膜等之聚合物的製備上有用的聚合性化合物。本發明之聚合性化合物由下述式（I-1）所示。『化1』〔式（I-1）中，A1及A2分別獨立，表示亦可具有取代基之芳基，B1及B2分別獨立，表示亦可具有取代基之脂環基，或亦可具有取代基之芳基，p及q分別獨立，為0～2的整數。〕
简体摘要：提供能够制造可确保长波长侧之逆波长色散性、同时提升短波长侧之逆波长色散性，明度及彩度之平衡良好的光学薄膜等之聚合物的制备上有用的聚合性化合物。本发明之聚合性化合物由下述式（I-1）所示。 ‘化1’ 〔式（I-1）中，A1及A2分别独立，表示亦可具有取代基之芳基，B1及B2分别独立，表示亦可具有取代基之脂环基，或亦可具有取代基之芳基，p及q分别独立，为0～2的整数。〕

46. 发明专利

TW201840527A 單體、聚合物及正光阻劑組成物审中-公开
简体标题：单体、聚合物及正光阻剂组成物
公开(公告)号：TW201840527A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107108100
申请日：2018-03-09
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：堤隆志 , TSUTSUMI, TAKASHI
IPC分类号： C07C69/54 , C08F120/12 , C08F120/32 , G03F7/039
摘要：本發明以提供作為主鏈切斷型之正光阻劑使用時能夠形成耐熱性及乾式蝕刻耐受性優異之光阻圖案的聚合物。本發明的單體由下述式（I）所示。並且，本發明的聚合物具有下述式（II）所示之單體單元。此外，式（I）及（II）中，B為亦可具有取代基之橋環飽和環烴基，n為0或1。［化1］
简体摘要：本发明以提供作为主链切断型之正光阻剂使用时能够形成耐热性及干式蚀刻耐受性优异之光阻图案的聚合物。本发明的单体由下述式（I）所示。并且，本发明的聚合物具有下述式（II）所示之单体单元。此外，式（I）及（II）中，B为亦可具有取代基之桥环饱和环烃基，n为0或1。［化1］

47. 发明专利

TWI640476B 黏性分散液與其製造方法以及多孔質半導體電極基板與色素增感型太陽電池有权
简体标题：黏性分散液与其制造方法以及多孔质半导体电极基板与色素增感型太阳电池
公开(公告)号：TWI640476B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW104122111
申请日：2015-07-08
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：木暮英雄 , KOGURE, HIDEO , 青山孝介 , AOYAMA, KOUSUKE , 岸本伸三 , KISHIMOTO, SHINZO , 池上和志 , IKEGAMI, MASASHI
IPC分类号： C01G23/047 , H01L31/02 , H01L31/04 , H01M14/00

48. 发明专利

TW201837109A 抗靜電薄膜、偏光板、觸控面板及液晶顯示裝置审中-公开
简体标题：抗静电薄膜、偏光板、触摸皮肤及液晶显示设备
公开(公告)号：TW201837109A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107110448
申请日：2018-03-27
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：中野航 , NAKANO, WATARU , 円谷学 , TSUBURAYA, MANABU
IPC分类号： C08L33/04 , C08K3/22 , C09K3/16 , B32B27/30 , B32B27/18 , B32B7/02 , G02B5/30 , G06F3/041 , G02F1/1333 , G02F1/1335
摘要：一種抗靜電薄膜，其係包含「由包含含有脂環結構之聚合物的熱塑性樹脂而成的基材薄膜」與「設置於基材薄膜上的抗靜電層」的抗靜電薄膜，其中前述抗靜電層包含丙烯酸酯系黏合劑組成物與金屬氧化物粒子，且前述抗靜電層中的殘留雙鍵率Dre滿足2.5＜Dre＜6.1。其中，Dre＝AC－H／AC＝O×Wa／（Wa＋Wm）×100。包含該抗靜電薄膜的偏光板、觸控面板及液晶顯示裝置。
简体摘要：一种抗静电薄膜，其系包含“由包含含有脂环结构之聚合物的热塑性树脂而成的基材薄膜”与“设置于基材薄膜上的抗静电层”的抗静电薄膜，其中前述抗静电层包含丙烯酸酯系黏合剂组成物与金属氧化物粒子，且前述抗静电层中的残留双键率Dre满足2.5＜Dre＜6.1。其中，Dre＝AC－H／AC＝O×Wa／（Wa＋Wm）×100。包含该抗静电薄膜的偏光板、触摸皮肤及液晶显示设备。

49. 发明专利

TW201834855A 薄膜审中-公开
公开(公告)号：TW201834855A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106144915
申请日：2017-12-20
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：周宏晃 , SHU, HIROAKI , 摺出寺浩成 , SUDEJI, HIRONARI
IPC分类号： B32B27/00 , C08F297/04 , C08L53/02 , B32B27/40 , C08L75/08 , C08K5/15 , C08K5/25 , C08K3/36 , C08K5/29 , C08K5/3445 , G02B5/30
摘要：提供一種薄膜，其具備基材薄膜與設置於前述基材薄膜上之易滑層，其中前述基材薄膜包含嵌段共聚物，前述嵌段共聚物具有以下各嵌段：具有芳香族乙烯基化合物氫化物單元之嵌段及具有二烯化合物氫化物單元之嵌段，前述具有芳香族乙烯基化合物氫化物單元之嵌段的數量與前述具有二烯化合物氫化物單元之嵌段的數量合計為每1分子的前述嵌段共聚物3個以上，前述易滑層係由包含聚胺酯、得使前述聚胺酯產生交聯之交聯劑、非揮發性鹼、微粒之組成物之硬化物而成。
简体摘要：提供一种薄膜，其具备基材薄膜与设置于前述基材薄膜上之易滑层，其中前述基材薄膜包含嵌段共聚物，前述嵌段共聚物具有以下各嵌段：具有芳香族乙烯基化合物氢化物单元之嵌段及具有二烯化合物氢化物单元之嵌段，前述具有芳香族乙烯基化合物氢化物单元之嵌段的数量与前述具有二烯化合物氢化物单元之嵌段的数量合计为每1分子的前述嵌段共聚物3个以上，前述易滑层系由包含聚胺酯、得使前述聚胺酯产生交联之交联剂、非挥发性碱、微粒之组成物之硬化物而成。

50. 发明专利

TW201834825A 成形材料的製造方法审中-公开
简体标题：成形材料的制造方法
公开(公告)号：TW201834825A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107108626
申请日：2018-03-14
申请人：日商日本瑞翁股份有限公司 , ZEON CORPORATION
发明人：有浦瑛人 , ARIURA, EITO , 山田聖 , YAMADA, SATOSHI
IPC分类号： B29C47/92 , B29K45/00
摘要：提供一種含有環烯烴聚合物且揮發性雜質含量少的成形材料的製造方法。本發明的成形材料的製造方法係使含有環烯烴聚合物的原料樹脂以熔融狀態通過擠製機內而製造成形材料的方法，其特徵在於：前述擠製機具備：機筒、容置在機筒內的螺桿、用以將原料樹脂投入機筒內的樹脂投入口、用以自機筒內排出熔融樹脂的樹脂排出口、於樹脂投入口與樹脂排出口之間用以將二氧化碳或水注入於機筒內的流體注入口，及位於樹脂投入口與樹脂排出口之間於流體注入口的下游部用以將機筒內的流體吸引去除的流體排出口，該方法具有：將熔融狀態的原料樹脂移送至機筒內，同時將每原料樹脂100質量份為1～6質量份的二氧化碳或水自流體注入口注入於機筒內，使二氧化碳或水與熔融狀態的原料樹脂接觸，且自流體排出口使機筒內的流體排出，藉以去除原料樹脂中的揮發性化合物的工序，及將自樹脂排出口排出後的熔融狀態的樹脂冷卻使其固化的工序，將熔融狀態的原料樹脂擠出時的螺桿的旋轉數為150rpm，機筒內的氣態部分的氧濃度為5體積%以下。
简体摘要：提供一种含有环烯烃聚合物且挥发性杂质含量少的成形材料的制造方法。本发明的成形材料的制造方法系使含有环烯烃聚合物的原料树脂以熔融状态通过挤制机内而制造成形材料的方法，其特征在于：前述挤制机具备：机筒、容置在机筒内的螺杆、用以将原料树脂投入机筒内的树脂投入口、用以自机筒内排出熔融树脂的树脂排出口、于树脂投入口与树脂排出口之间用以将二氧化碳或水注入于机筒内的流体注入口，及位于树脂投入口与树脂排出口之间于流体注入口的下游部用以将机筒内的流体吸引去除的流体排出口，该方法具有：将熔融状态的原料树脂移送至机筒内，同时将每原料树脂100质量份为1～6质量份的二氧化碳或水自流体注入口注入于机筒内，使二氧化碳或水与熔融状态的原料树脂接触，且自流体排出口使机筒内的流体排出，借以去除原料树脂中的挥发性化合物的工序，及将自树脂排出口排出后的熔融状态的树脂冷却使其固化的工序，将熔融状态的原料树脂挤出时的螺杆的旋转数为150rpm，机筒内的气态部分的氧浓度为5体积%以下。

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