专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

41. 发明申请

WO2014012643A3 SYSTEM CORRECTION FROM LONG TIMESCALES 审中-公开
标题翻译：长期系统校正
公开(公告)号：WO2014012643A3
公开(公告)日：2014-04-10
申请号：PCT/EP2013002077
申请日：2013-07-12
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH
发明人： BITTNER BORIS , WABRA NORBERT , VON HODENBERG MARTIN , SCHNEIDER SONJA , SCHNEIDER RICARDA , MACK RUEDIGER
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/706 , G02B27/0043 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： Aberrations of a projection lens for microlithography can be subdivided into two classes: a first class of aberrations, which are distinguished by virtue of the fact that their future size increases by a non-negligible value after a constant time duration, independently of their current size, and a second class of aberrations, which, after reaching a threshold, only increase by a negligible value after each further time duration. An adjustment method is proposed, which adjusts these two classes of aberrations in parallel in time with one another.
摘要翻译：用于微光刻的投影透镜的像差可以细分为两类：第一类像差，其特征在于它们的未来尺寸在恒定持续时间之后增加不可忽略的值，与其当前尺寸无关，以及第二类像差，其在达到阈值之后，每增加一个持续时间后仅增加可忽略的值。提出了一种调整方法，将时间上的并行调整这两类畸变。

42. 发明申请

WO2014012643A2 SYSTEM CORRECTION FROM LONG TIMESCALES 审中-公开
标题翻译：系统从长时间校正
公开(公告)号：WO2014012643A2
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/EP2013/002077
申请日：2013-07-12
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BITTNER, Boris , WABRA, Norbert , VON HODENBERG, Martin , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , MACK, Ruediger
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G02B27/0043 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/705 , G03F7/70533 , G03F7/70891
摘要： Aberrations of a projection lens for microlithography can be subdivided into two classes: a first class of aberrations, which are distinguished by virtue of the fact that their future size increases by a non-negligible value after a constant time duration, independently of their current size, and a second class of aberrations, which, after reaching a threshold, only increase by a negligible value after each further time duration. An adjustment method is proposed, which adjusts these two classes of aberrations in parallel in time with one another.
摘要翻译：用于微光刻的投影透镜的像差可以细分为两类：第一类像差，其由于其未来尺寸在常数之后增加了不可忽略的值持续时间与其当前尺寸无关，以及第二类像差，其在达到阈值之后，在每个其他持续时间后仅增加可忽略的值。提出了一种调整方法，它可以在时间上平行调整这两类像差。

43. 发明申请

WO2011062812A3 MAGNIFICATION CONTROL FOR LITHOGRAPHIC IMAGING SYSTEM 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC成像系统的放大控制
公开(公告)号：WO2011062812A3
公开(公告)日：2011-07-14
申请号：PCT/US2010056123
申请日：2010-11-10
申请人： CORNING INC , GREJDA ROBERT D , MICHALOSKI PAUL F
发明人： GREJDA ROBERT D , MICHALOSKI PAUL F
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B15/00 , G02B27/0025 , G02B27/0043 , G03F7/70266
摘要： In a lithographic projection system, a corrective optic in the form of one or more deformable plates is mounted within telecentric image or object space for making one-dimensional or two-dimensional adjustments to magnification. The deformable plate, which can be initially bent under the influence of a preload, contributes weak magnification power that influences the magnification of the projection system by changing the effective focal length in object or image space. An actuator adjusts the amount of curvature through which the deformable plate is bent for regulating the amount of magnification imparted by the deformable plate.
摘要翻译：在光刻投影系统中，将一个或多个可变形板形式的校正光学器件安装在远心图像或物体空间中，用于对放大进行一维或二维调整。可以在预负荷的影响下最初弯曲的可变形板通过改变物体或图像空间中的有效焦距来提供影响投影系统的放大率的弱放大倍率。致动器调节可变形板弯曲的曲率，以调节由可变形板施加的倍率。

44. 发明申请

WO2010005491A1 TELECENTRICITY CORRECTOR FOR MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：微电子投影系统的电磁校正器
公开(公告)号：WO2010005491A1
公开(公告)日：2010-01-14
申请号：PCT/US2009/003795
申请日：2009-06-25
申请人： CORNING INCORPORATED , CORNELL, Jim, D. , MALACH, Joseph, D. , MICHALOSKI, Paul, F. , WEBB, James, E.
发明人： CORNELL, Jim, D. , MALACH, Joseph, D. , MICHALOSKI, Paul, F. , WEBB, James, E.
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/22 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B13/22 , G02B27/0043 , G02B27/4222
摘要： A telecentricity corrector is incorporated into a microlithographic projection system to achieve telecentricity targets at the output of the microlithographic projection system. The telecentricity corrector is located between an illuminator and a projection lens of the projection system, preferably just in advance of a reticle for controlling angular distributions of light illuminating the reticle.
摘要翻译：将远心校正器结合到微光刻投影系统中以在微光刻投影系统的输出处实现远心度目标。远心校正器位于投影系统的照明器和投影透镜之间，优选地恰好在用于控制照射光罩的光的角分布的掩模版之前。

45. 发明申请

WO2004025335A1 BINÄR GEBLAZETES DIFFRAKTIVES OPTISCHES ELEMENT 审中-公开
标题翻译：二进制闪耀衍射光学元件
公开(公告)号：WO2004025335A1
公开(公告)日：2004-03-25
申请号：PCT/EP2003/009285
申请日：2003-08-21
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd
发明人： ARNOLD, Ralf , KLEEMANN, Bernd
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G03F7/70316 , G02B5/18 , G02B5/1809 , G02B5/1866 , G02B27/0043
摘要： Es wird ein binär geblazetes diffraktives optisches Element beschrieben, das in an und für sich bekannter Weise eine Vielzahl von Beugungsstrukturen (1) umfasst. Diese erstrecken sich im wesentlichen parallel zueinander in einer Breite g, die grösser als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist, für die das diffraktive optische Element bestimmt ist. Die Beugungsstrukturen (1) setzen sich aus einer Vielzahl vo EinzelSubstrukturen (2) zusammen, die für die Blazewirkung sorgen und in Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (1) eine maximale Abmessung p aufweisen, die zumindest im Mittel über eine Beugungsstruktur hinweg kleiner als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung ist. In der Draufsicht besitzen die Einzel-Substrukturen (2) die Form einer geschlossenen geometrischen Fläche. Ihre parallel zur Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (1) gerichtete Abmessung variiert in Richtung senkrecht zur Erstreckungsrichtung der Beugungsstrukturen (1). Ihre maximale Abmessung in Richtung senkrecht zur Erstreckung der Beugungsstrukturen (1) ist grösser als die effektive Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung.
摘要翻译：我们将描述包括以已知的方式在本身的多个衍射结构（1）的二进制闪耀衍射光学元件。这些基本上平行于彼此在宽度g，这比的量，衍射光学元件被确定的电磁辐射的有效波长。衍射结构（1）由多个VO个体子结构（2）一起，提供用于火焰效果和在衍射结构的延伸方向（1）的最大尺寸p具有至少在衍射结构上比的有效波长的远小于平均的是电磁辐射。在平面图中，单独的子结构（2）具有封闭几何面积的形状。其平行于所述衍射结构（1）的延伸方向指向尺寸的方向垂直于所述衍射结构（1）的延伸方向变化。垂直于所述衍射结构（1）的延伸的方向上它们的最大尺寸大于所述电磁辐射的有效波长。

46. 发明申请

WO2013123973A1 METHOD AND APPARATUS FOR COMPENSATING AT LEAST ONE DEFECT OF AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于补偿光学系统的至少一个缺陷的方法和装置
公开(公告)号：WO2013123973A1
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：PCT/EP2012/052909
申请日：2012-02-21
申请人： CARL ZEISS SMS LTD. , CARL ZEISS SMT GMBH , DMITRIEV, Vladimir , SÄNGER, Ingo , SCHLESENER, Frank , MENGEL, Markus , RUOFF, Johannes
发明人： DMITRIEV, Vladimir , SÄNGER, Ingo , SCHLESENER, Frank , MENGEL, Markus , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70591 , G01M11/0242 , G02B5/3091 , G02B27/0043 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to a method for compensating at least one defect of an optical system which comprises introducing an arrangement of local persistent modifications in at least one optical element of the optical system, so that the at least one defect is at least partially compensated. Ultra-short laser pulses are used to create strain induced birefringence for compensating local polarization variations or to create local scattering distribution for compensating intensity variations.
摘要翻译：本发明涉及一种用于补偿光学系统的至少一个缺陷的方法，其包括在所述光学系统的至少一个光学元件中引入本地持续修改的布置，使得所述至少一个缺陷至少部分被补偿。使用超短激光脉冲来产生应变诱导双折射以补偿局部偏振变化或产生用于补偿强度变化的局部散射分布。

47. 发明申请

WO2012013747A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013747A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062996
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system with at least two reflective optical elements each comprising a body and a reflective surface for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light, wherein the bodies of at least two reflective optical elements comprise a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at respective zero cross temperatures, and wherein the absolute value of the difference between the zero cross temperatures is more than 6K.
摘要翻译： EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，其具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件均包括主体和反射表面，用于在掩模版上将物场投射到基板上的图像场上，如果投影透镜曝光 EUV光的功率，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在相应的零交叉温度下为零，并且其中零交叉温度之间的差的绝对值更多超过6K。

48. 发明申请

WO2012013746A1 EUV EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置
公开(公告)号：WO2012013746A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2011/062995
申请日：2011-07-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ASML NETHERLANDS B.V. , BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
发明人： BAER, Norman , LOERING, Ulrich , NATT, Oliver , WITTICH, Gero , LAUFER, Timo , KUERZ, Peter , LIMBACH, Guido , HEMBACHER, Stefan , WALTER, Holger , KWAN, Yim-Bun-Patrick , HAUF, Markus , STICKEL, Franz-Josef , VAN SCHOOT, Jan
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
摘要： A mirror comprising a body and a reflective surface, the body comprising a material with a temperature dependent coefficient of thermal expansion which is zero at a zero cross temperature T 0k- Further, at least a part of the surface of the body comprises a wire grid for electrically resistive heating of the body and the mirror is adapted for a projection lens of an EUV-lithographic projection exposure system, for projecting an object field on a reticle onto an image field on a substrate if the projection lens is exposed with an exposure power of EUV light.
摘要翻译：一种包括主体和反射表面的反射镜，所述主体包括具有温度依赖的热膨胀系数的材料，其在零交叉温度T0k为零。此外，主体的表面的至少一部分包括用于本体和反射镜的电阻加热适用于EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，用于将掩模版上的物场投影到基板上的图像场上，如果投影透镜以曝光量曝光 EUV灯。

49. 发明申请

WO2010037437A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译： EUV微观照明系统
公开(公告)号：WO2010037437A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/EP2009/004973
申请日：2009-07-09
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAYH, Michael , STÜTZLE, Ralf , FIOLKA, Damian , ENDRES, Martin , WEIGAND, Holger
发明人： LAYH, Michael , STÜTZLE, Ralf , FIOLKA, Damian , ENDRES, Martin , WEIGAND, Holger
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70083 , G02B17/0605 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03F7/70033 , G03F7/70075
摘要： An illumination system for EUV microlithography comprises an EUV light source (3) which generates EUV illumination light (10) with an etendue that is higher than 0.01 mm 2 . The EUV light source (3) generates in particular a sequence of EUV light pulses, particularly with a pulse sequence frequency. An illumination optics of the illumination system is used to guide the illumination light (10) from the light source (3) to an object field. At least one optical modulation component (25) of the illumination system is preferably modulatable synchronously with the pulse sequence frequency. The result is an illumination system where a homogeneity of an object field illumination is improved.
摘要翻译：用于EUV微光刻的照明系统包括EUV光源（3），其产生光通量高于0.01mm 2的EUV照明光（10）。 EUV光源（3）特别产生EUV光脉冲序列，特别是以脉冲序列频率产生。照明系统的照明光学器件用于将照明光（10）从光源（3）引导到物场。照明系统的至少一个光学调制组件（25）优选地可以与脉冲序列频率同步地调制。其结果是改善了物场照明的均匀性的照明系统。

50. 发明申请

WO2006046430A1 焦点検出装置审中-公开
标题翻译：焦点检测装置
公开(公告)号：WO2006046430A1
公开(公告)日：2006-05-04
申请号：PCT/JP2005/019059
申请日：2005-10-17
申请人：株式会社ニコン , 福井達雄
发明人：福井達雄
IPC分类号： G02B7/34 , G02B7/28 , G03F7/207 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70641 , G02B27/0043
摘要：　本発明は、オートフォーカス動作の引き込み範囲を簡易に拡大できる焦点検出装置を提供することを目的とする。そのため、第１視野絞り１６を介して物体面(１１)を照明する手段と、物体面から発生した光Ｌ２に基づいて第１視野絞りの中間像を第２視野絞り４１の配置面に形成すると共に、物体面が合焦面を含む所定範囲内に位置するときに第２視野絞りによって中間像を遮断せずに通過させ、物体面が所定範囲外に位置するときに第２視野絞りによって中間像の一部を遮断して残りの一部を通過させる第１結像手段(１９,２０,４１)と、第１結像手段からの光Ｌ５に基づいて第１視野絞りの最終像を２分割して形成する第２結像手段(４２～４６)と、２分割された最終像の間隔を検知して、物体面の合焦面に対する位置関係に応じたフォーカス信号を生成する生成手段(４７,４８)とを備える。
摘要翻译：提供了能够容易地扩大自动聚焦操作的导入范围的焦点检测装置。该装置包括：用于经由第一场停止器（16）照亮物体表面（11）的装置; 第一图像形成装置（19,20,41），用于根据从物体表面产生的光L2在第二场光阑（41）的布置表面上形成第一场光阑的中间图像，并且不中断通过中间图像当所述物体表面位于包括所述焦点表面的预定范围内时，通过所述第二场停止，同时通过所述第二场停止切断所述中间图像的一部分，并且当所述物体表面位于所述预定范围之外时使所述剩余部分通过; 第二图像形成装置（42至46），用于根据来自第一图像形成装置的光L5将第一场光阑的最终图像分成两部分; 以及生成装置（47,48），用于根据相对于物体表面的焦点面的位置关系来检测被分割并产生聚焦信号的两个最终图像之间的间隔。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式