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    • 50. 发明专利
    • Procedimiento para la transferencia de una estructura gofrada a la superficie de un recubrimiento y material compuesto que contiene este recubrimiento
    • ES2871814T3
    • 2021-11-02
    • ES19712617
    • 2019-03-28
    • BASF COATINGS GMBH
    • KUES JAN-BERNDPIONTEK SUSANNEEXNER JOERGLENZ JOERGKLEINE-BLEY BIRGITSCHIPPER WILFRIEDVON DER AA ROBERTBERGMANN FRANKLORENZ MICHAELKRABBENBORG SVENDUENNEWALD JOERG
    • B29C43/22B29C35/08B29C35/10B29C43/00B29C43/34B29C43/46B29C59/04B29K667/00B29L7/00B29L31/00B44B5/02B44C1/24C09D4/06C09D133/12
    • Un procedimiento para la transferencia de una estructura gofrada sobre al menos una parte de una superficie de un segundo recubrimiento B2, usando un primer material compuesto F1B1 de un primer sustrato F1 y de un primer recubrimiento B1 por lo menos parcialmente gofrado y por lo menos parcialmente curado, en el que el segundo recubrimiento B2 y el primer recubrimiento B1 del primer material compuesto F1B1 exhiben estructuras gofradas mutuamente especulares, y en el que el procedimiento comprende al menos las etapas 1) y 2) así como dado el caso 3), es decir 1) aplicación de un segundo agente de recubrimientos B2a sobre al menos una parte de una superficie por lo menos parcialmente gofrada de un primer material compuesto B1F1 de un primer sustrato F1 y de un primer recubrimiento B1 por lo menos parcialmente gofrado y por lo menos parcialmente curado, para obtener un segundo material compuesto B2aB1F1, y 2) curado por lo menos parcial del segundo agente de recubrimientos B2a aplicado para obtener un tercer material compuesto B2B1F1 de primer sustrato F1, primer recubrimiento B1 por lo menos parcialmente gofrado y por lo menos parcialmente curado y segundo recubrimiento B2 por lo menos parcialmente curado, y 3) dado el caso de retiro del segundo recubrimiento B2 del tercer material compuesto B2B1F1, con recuperación del primer material compuesto B1F1 usado en la etapa 1), en el que el segundo recubrimiento B2 que en su superficie orientada anteriormente dentro del tercer material compuesto B2B1F1 al primer recubrimiento B1, exhibe la imagen especular de la superficie por lo menos parcialmente gofrada del primer recubrimiento B1 del primer material compuesto B1F1 usado en la etapa 1) y recuperado en esta etapa, en el que el primer agente B1a de recubrimiento usado para la fabricación el primer recubrimiento B1 del primer material compuesto B1F1 usado en la etapa 1) y recuperado en la etapa 3) es un agente de recubrimiento curable por radiación, caracterizado porque el primer agente B1a de recubrimiento contiene al menos un primer componente a) en una cantidad en un intervalo de 40 a 95 % en peso, al menos un aditivo como segundo componente b) en una cantidad en un intervalo de 0,01 a 5 % en peso, al menos un fotoiniciador como tercer componente c) en una cantidad en un intervalo de 0,01 a 15 % en peso, y al menos un cuarto componente d) que exhibe por lo menos un enlace doble de carbono en una cantidad en un intervalo de 0 a 45 % en peso, en el que i) los componentes a), b), c) y d) son en cada caso diferentes uno de otro, ii) los datos indicados de los componentes a), b), c) y d) se refieren en cada caso en peso total del primer agente B1a de recubrimiento y iii) las cantidades de todos los componentes presentes en el primer agente B1a de recubrimiento totalizan 100 % en peso, y en el que el primer componente a) exhibe al menos tres unidades estructurales de la fórmula (I) en cada caso diferentes una de otra o por lo menos parcialmente idénticas **(Ver fórmula)** en la cual los radicales R1 representan, independientemente uno del otro, en cada caso un grupo alquileno C2-C8, los radicales R2 representan, independientemente uno del otro, en cada caso H o metilo y los parámetros m representan, independientemente uno del otro, en cada caso un parámetro numérico entero en un intervalo de 1 a 15, sin embargo con la condición de que en al menos una de las unidades estructurales de la fórmula (I) dentro del primer componente a) el parámetro m sea por lo menos 2, en el que el símbolo representa al respecto una unión del respectivo radical con la estructura superior del primer componente a).