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41. 发明专利

JP2018180531A 感光性樹脂組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2018180531A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2018060984
申请日：2018-03-28
申请人：三洋化成工業株式会社
发明人：福家翼 , 酒井優 , 尾形和樹
IPC分类号： G03F7/033 , G03F7/027 , G03F7/038 , G02B5/20 , C08F12/02 , H05K3/46 , G06F3/041 , G03F7/075
摘要：【課題】現像速度に優れたアルカリ現像が可能で、MAM等の金属膜の金属部分への良好な密着性を有し、更に高い耐酸性と硬化物の透明性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】芳香環を有するビニルモノマー(a1)を必須構成単量体とする親水性樹脂(A)と、イソシアヌル骨格を有する多官能(メタ)アクリレート(B)と、アミノ基を有するシラン化合物(C)と、光重合開始剤(D)とを含有する感光性樹脂組成物。前記親水性樹脂(A)中の前記芳香環を有するビニルモノマー(a1)の構成比率は、前記(A)を構成する全単量体に基づいて15〜80重量%であることが好ましい。【選択図】なし

42. 发明专利

JP2018127506A 水電解用イオン交換膜、及び該イオン交換膜の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018127506A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：JP2015122320
申请日：2015-06-17
申请人：株式会社トクヤマ
发明人：織田健吾 , 渡辺伸
IPC分类号： C08L101/00 , C08L101/12 , C08F2/00 , C08F12/02 , B32B27/32 , B32B5/18 , C08J5/22
CPC分类号： C25B13/08 , Y02E60/366
摘要：【課題】高いガスバリア性を有し、膜抵抗の低い水電解用のイオン交換膜、及び高いガスバリア性を有する分厚いイオン交換膜を連続的に作製する方法であって、膜抵抗の増加を抑制し、液相中など含水率が高い場合であっても剥離しないイオン交換膜を製造する方法を提供する。【解決手段】空隙率30〜50%、平均細孔径0.01〜0.1μm未満の多孔性基材フィルムが複数枚積層された積層多孔性基材フィルムの空隙にイオン交換樹脂が充填されてなるイオン交換膜であって、多孔性基材フィルムの総厚みが50〜200μm、且つ隣接した多孔性基材フィルムの空隙率の差が10%以下である水電解用イオン交換膜である。【選択図】なし

43. 发明专利

JP2018120102A レジスト組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018120102A
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：JP2017011707
申请日：2017-01-25
申请人：東京応化工業株式会社
发明人：矢萩真人 , 山崎広人 , 鈴木健太
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/20 , C08F12/02 , C08F20/30 , G03F7/004
摘要：【課題】特に電子線やEUVによるリソグラフィーにおいて、解像性能の向上が図られたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(a0−1)で表される化合物から誘導される構成単位を有する高分子化合物(A1)と、特定構造のアニオン部を有するオニウム塩(B1)と、露光により分解して酸拡散制御性を失う光崩壊性塩基(D1)と、を含有するレジスト組成物。式(a0−1)中、Ra x0 は重合性基含有基である。Wa x0 は、(n ax0 +1)価の芳香族炭化水素基である。但し、Ra x0 とWa x0 とで縮合環構造が形成されていてもよい。n ax0 は、1〜3の整数である。Ya x01 は、カルボニル基又は単結合である。Ra x01 は、置換基を有してもよい炭化水素基又は水素原子である。 [化1] 【選択図】なし

44. 发明专利

JP2017156758A 保護膜形成用組成物审中-公开
公开(公告)号：JP2017156758A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2017078552
申请日：2017-04-11
申请人： JSR株式会社
发明人：丸山研 , 犬飼晃司
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08F12/02 , C08F20/10 , C08F20/54 , C08F26/02 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/11
摘要：【課題】本発明は、EUV又は電子線を用いたリソグラフィー技術において、露光時に発生するOOBの影響を低減することによりナノエッジラフネスを改善することができ、解像性及び感度も十分満足すると共に、アウトガスの発生も抑制可能な新規の保護膜形成用組成物を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、EUV又は電子線を用いたレジストパターン形成方法におけるレジスト膜の表面被覆に用いられ、[A]重合体、及び[B]有機溶媒を含有し、[A]重合体が、下記式(i−1)で表される基を含む構造単位(I)を有し、かつ芳香族基及びヘテロ芳香族基のうちの少なくともいずれかを含む構造単位を80モル%以上有する保護膜形成用組成物である。下記式(i−1)中、nは、0、2又は3である。mは、1≦m≦5+2nを満たす整数である。【選択図】なし

45. 发明专利

JP2016060748A ブロック共重合体及びその製造方法並びにフィルム有权
标题翻译：嵌段共聚物及其制备方法和薄膜
公开(公告)号：JP2016060748A
公开(公告)日：2016-04-25
申请号：JP2014186773
申请日：2014-09-12
申请人： JSR株式会社
发明人：江畑琢磨 , 寺島勇輝 , 山本達之 , 中村和洋 , 鈴木義信 , 安藤嘉彦
IPC分类号： C08F12/02 , G02B1/04 , C08G61/08
摘要：【課題】透明性が高く、光学分野において有用なブロック共重合体及びその製造方法並びにフィルムの提供。【解決手段】式(1)と式(2)の単位を含むブロック共重合体。 (R 1 、R 2 はH又はメチル;R 3 、R 4 はハロゲン原子、OH、アルキル、アルキルエステル等;Xはメチレン、O又はS;A 1 〜A 4 は特定基又は原子、p;0〜3の整数、q;0〜4の整数、r;0又は1、m;0〜3の整数、n;0又は正の整数) 【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有高透明度和在光学领域中有用的嵌段共聚物及其制备方法和膜。解决方案：一种嵌段共聚物包含式（1）和式（2）的单元（Rand 稀有H或甲基; Rand稀有卤素原子，OH，烷基，烷基酯等; X为亚甲基，O或S; A-A为特定基团或原子; p为0-3的整数; q为 0-4的整数; r为0或1; m为0-3的整数; n为0或正整数）。选定的图：无

46. 发明专利

JP5504824B2 Positive-type radiation-sensitive resin composition, the interlayer insulating film and a method of forming the same 有权
公开(公告)号：JP5504824B2
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：JP2009248332
申请日：2009-10-28
申请人： Jsr株式会社
发明人：政暁花村 , めぐみ村田 , 雅史荒井
IPC分类号： G03F7/023 , C08F12/02 , C08F20/02

47. 发明专利

JP5373377B2 Curable composition and its cured product 有权
公开(公告)号：JP5373377B2
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：JP2008304750
申请日：2008-11-28
申请人：株式会社カネカ
发明人：仁玉井 , 佳樹中川
IPC分类号： C08F299/00 , C08F8/00 , C08F12/02 , C08F14/18 , C08F20/00 , C08F290/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition having improved low moisture permeability without deteriorating heat resistance, weather resistance, oil resistance, compression set and mechanical properties. SOLUTION: Th curable composition contains (a) a vinyl polymer having a main chain containing ≥5 wt.% vinyl monomer having an 8C-22C aliphatic alkyl, having the ratio (Mw/Mn) of weight-average molecular weight (Mw)to number-average molecular weight (Mn) of COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

48. 发明专利

JP2013174660A Photosensitive resin composition, production method of cured film, cured film, organic el display device and liquid crystal display device 审中-公开
标题翻译：感光树脂组合物，固化膜的生产方法，固化膜，有机EL显示装置和液晶显示装置
公开(公告)号：JP2013174660A
公开(公告)日：2013-09-05
申请号：JP2012037789
申请日：2012-02-23
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ANDO TAKESHI , HIKITA MASANORI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F12/02 , C08F22/20 , C08F212/02 , C08F220/26 , G03F7/039 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/22
CPC分类号： H01L21/02118 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F222/1006 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/40 , H01L27/3258 , C08F2220/281 , C08F2220/325 , C08F220/20 , C08F220/06 , C08F212/08 , C08F2220/1875 , C08F212/14 , C08F220/14 , C08F2220/305 , C08F2220/283 , C08F220/40
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, a low dielectric constant and an excellent exposure margin.SOLUTION: The photosensitive resin composition comprises: (A) a polymer component satisfying at least one of the following conditions (1) and (2); (B) two or more kinds of photoacid generators; and (D) a solvent. The polymer component includes: (1) a polymer having a structural unit (a1) including a residue in which an acid group is protected by an acid decomposable group and a structural unit (a2) having a crosslinking group; or (2) a polymer (a1) having a structural unit including a residue in which an acid group is protected by an acid decomposable group, and a polymer (a2) having a structural unit having a crosslinking group. In (B) the two or more kinds of photoacid generators, at least one is a compound (B-F) that responds to light to generate an acid including fluorine in the molecule, and at least one of the other is a compound excluding (B-F). The (B-F) compound is selected from a triarylsulfonium salt, diaryliodonium salt, oxime sulfonate compound, imide sulfonate compound and diazomethane compound.
摘要翻译：要解决的问题：提供具有高灵敏度，低介电常数和优异曝光裕度的感光性树脂组合物。溶解性：感光性树脂组合物包含：（A）满足以下条件（1）中的至少一个的聚合物成分，和（2）; （B）两种或多种光酸发生剂; 和（D）溶剂。聚合物组分包括：（1）具有结构单元（a1）的聚合物，其包含其中酸基被酸可分解基团保护的残基和具有交联基团的结构单元（a2）; 或者（2）具有结构单元的聚合物（a1），该结构单元包括酸基被酸分解基团保护的残基，和具有交联基团的结构单元的聚合物（a2）。在（B）两种以上的光酸产生剂中，至少一种是在分子中响应光以产生包含氟的酸的化合物（BF），另外一种是不包括（BF）。（B-F）化合物选自三芳基锍盐，二芳基碘鎓盐，肟磺酸盐化合物，酰亚胺磺酸盐化合物和重氮甲烷化合物。

49. 发明专利

JP2012157864A Method for producing anion exchange resin, anion exchange resin, mixed bed resin, and method for producing ultra-pure water for cleaning electronic component/material 有权
标题翻译：用于生产阴离子交换树脂，阴离子交换树脂，混合树脂树脂的方法和用于清洁电子元件/材料的超纯水的方法
公开(公告)号：JP2012157864A
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：JP2012114729
申请日：2012-05-18
申请人： Kurita Water Ind Ltd , Mitsubishi Chemicals Corp , 三菱化学株式会社 , 栗田工業株式会社
发明人： FUKUI NAGAO , MIZUNIWA TETSUO , TOKUNAGA KAZUHIKO
IPC分类号： B01J41/14 , C02F1/42 , C08F8/24 , C08F8/32 , C08F12/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anion exchange resin in which residual impurities and formation of decomposed products are suppressed and the amount of leachables is reduced.SOLUTION: The method for producing the anion exchange resin comprises: a step (a) of copolymerizing a monovinyl aromatic monomer and a cross-linkable aromatic monomer to obtain a cross-linked copolymer; a step (b) of setting the content of a specific leachable compound to be ≤400 μg per 1 g cross-linked copolymer; a step (c) of haloalkylating the cross-linked copolymer to introduce the haloalkyl group of ≤80 mol% into the monovinyl aromatic monomer; a step (d) of removing the specific leachable compound from the haloalkylated cross-linked copolymer; and a step (e) of reacting the haloalkylated cross-linked copolymer with an amine compound.
摘要翻译：要解决的问题：提供抑制残留杂质和分解产物形成的阴离子交换树脂，并且可浸出物的量减少。解决方案：阴离子交换树脂的制造方法包括：使单乙烯基芳族单体和交联性芳香族单体共聚以获得交联共聚物的工序（a）将特定可浸出化合物的含量设定为每1g交联共聚物≤400μg的步骤（b）; 将交联共聚物卤代烷基化以将≤80摩尔％的卤代烷基引入单乙烯基芳族单体的步骤（c）从卤代烷基化交联共聚物中除去特定的可浸出化合物的步骤（d）; 和使卤代烷基化的交联共聚物与胺化合物反应的步骤（e）。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

50. 发明专利

JP2011053286A Resist composition 审中-公开
标题翻译：耐腐蚀组合物
公开(公告)号：JP2011053286A
公开(公告)日：2011-03-17
申请号：JP2009199773
申请日：2009-08-31
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , YAMASHITA HIROKO , ANDO NOBUO
IPC分类号： G03F7/004 , C08F12/02 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which ensures good resolution of a pattern obtained. SOLUTION: The resist composition comprises: a resin comprising a structural unit derived from a monomer containing a phenolic hydroxyl group; an acid generator represented by formula (I); and at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by formula (II) and compounds represented by formula (III), wherein Q 1 and Q 2 represent a fluorine atom or 1-6C perfluoroalkyl; X 1 represents a 1-6C saturated hydrocarbon group, provided that hydrogen atoms contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted by hydroxyl groups and that -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted by -O- or -CO-; Z + represents an organic counter cation; R 1 to R 3 each independently represent 1-6C alkylene; and R 4 to R 7 each independently represent 1-6C alkyl, provided that hydrogen atoms contained in the alkyl may be substituted by hydroxyl groups. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供确保所获得的图案的良好分辨率的抗蚀剂组合物。抗蚀剂组合物包括：包含衍生自含有酚羟基的单体的结构单元的树脂; 由式（I）表示的酸发生剂; 和选自由式（II）表示的化合物和由式（III）表示的化合物组成的组中的至少一种化合物，其中Q 1 和Q 2 表示氟原子或1-6C全氟烷基; X 1 表示1-6C饱和烃基，条件是饱和烃基中所含的氢原子可以被羟基取代，并且包含在-CH 3 饱和烃基可以被-O-或-CO-取代; Z + 表示有机抗衡阳离子; R 1 至R 3 各自独立地表示1-6C亚烷基; 并且R 4 至R 7 各自独立地表示1-6C烷基，条件是烷基中包含的氢原子可被羟基取代。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

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