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51. 发明申请

WO02031570A1 METHOD OF EVALUATING IMAGING PERFORMANCE 审中-公开
标题翻译：评估成像性能的方法
公开(公告)号：WO02031570A1
公开(公告)日：2002-04-18
申请号：PCT/JP2001/008852
申请日：2001-10-09
IPC分类号： G02B7/36 , G02B27/00 , G03F7/20 , G02B13/00
CPC分类号： G03F7/70591 , G02B7/36 , G02B27/0012 , G02B27/0043 , G03F7/706 , G03F7/70966
摘要： A method of evaluating an imaging performance by accurately reflecting an effect by a thin film, wherein, in evaluating the imaging performance of an imaging optical system, a pupil transmittance distribution (distribution of optical transmittance on an output pupil plane) of an imaging flux incident on the evaluation object image point in the imaging optical system is obtained, and at least one component out of a rotational symmetry component, an odd-number symmetry component, and an even-number symmetry component of the pupil transmittance distribution is extracted as an evaluation index from the obtained pupil transmittance distribution.
摘要翻译：通过精确地反映薄膜的效果来评价成像性能的方法，其中，在评估成像光学系统的成像性能时，成像通量入射的瞳孔透射率分布（输出光瞳面上的光透射率的分布）获得成像光学系统中的评价对象图像点，并且提取瞳孔透射率分布的旋转对称分量，奇数对称分量和偶数对称分量中的至少一个分量作为评价从获得的瞳孔透射率分布的指数。

52. 发明申请

WO99045437A1 PATTERN GENERATOR USING EUV 审中-公开
标题翻译：图案发生器使用EUV
公开(公告)号：WO99045437A1
公开(公告)日：1999-09-10
申请号：PCT/SE1999/000293
申请日：1999-03-02
IPC分类号： B23K26/06 , B23Q17/24 , G02B26/00 , G02B26/06 , G02B26/08 , G03F1/00 , G03F1/08 , G03F7/20 , G03F7/207 , H01L21/027 , H04N1/195 , H04N5/74
CPC分类号： G03F7/70725 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B41J2/465 , G02B26/0833 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G02B27/4205 , G03F7/2022 , G03F7/70041 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/704 , G03F7/70475 , G09G3/2007 , G09G3/346 , H04N1/195 , H04N5/7458 , H04N2201/0414
摘要： The present invention relates to an apparatus for creating a pattern with extremely high resolution on a workpiece, such as a pattern on a semiconductor chip. The apparatus comprises a source for emitting electromagnetic radiation in the EUV wavelength range, a spatial modulator (SLM) having a multitude of pixels, an electronic data processing and delivery system receiving a digital description of the pattern to be written, extracting from it a sequence of partial patterns, converting said partial patterns to modulator signals, and feeding said signals to the modulator, and a precision mechanical system for moving said workpiece and/or projection system relative to each other. It further comprises an electronic control system coordinating the movement of the workpiece, the feeding of the signals to the modulator and the intensity of the radiation, so that said pattern is stitched together from the partial images.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在诸如半导体芯片上的图案的工件上产生具有极高分辨率的图案的装置。该装置包括用于发射EUV波长范围的电磁辐射源，具有多个像素的空间调制器（SLM），接收要写入的图案的数字描述的电子数据处理和传送系统，从中提取序列的部分图案，将所述部分图案转换成调制器信号，并将所述信号馈送到调制器，以及用于相对于彼此移动所述工件和/或投影系统的精密机械系统。它还包括一个电子控制系统，协调工件的移动，将信号馈送到调制器和辐射的强度，使得所述图案从部分图像被缝合在一起。

53. 发明申请

WO2006114294A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2006114294A2
公开(公告)日：2006-11-02
申请号：PCT/EP2006003864
申请日：2006-04-26
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SOHMER ALEXANDER , DODOC AURELIAN , FELDMANN HEIKO , ULRICH WILHELM , FUERTER GERHARD , EGGER RAFAEL , MOEGELE ARTUR , RAUM MICHAEL
发明人： SOHMER ALEXANDER , DODOC AURELIAN , FELDMANN HEIKO , ULRICH WILHELM , FUERTER GERHARD , EGGER RAFAEL , MOEGELE ARTUR , RAUM MICHAEL
IPC分类号： G02B19/00
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B17/0892 , G02B27/0043
摘要： An illumination system (12) of a microlithographic exposure apparatus (10) comprises a condenser (601; 602; 603; 604; 605; 606) for transforming a pupil plane (54) into a field plane (62) . The condenser has a lens group (L14, L15, L16, L17; L24, L25, L26, L27, L28; L34, L35, L36, L37; L44, L45, L46; L53, L54, L55) that contains a plurality of consecutive lenses. These lenses are arranged such that a light bundle (70) focused by the condenser (601; 602; 603; 604; 605) on an on-axis field point (72) converges within each lens of the lens group. At least one lens (L15, L16, L17; L25, L26; L34, L44, L45; L54) of the lens group has a concave surface. The illumination system may further comprise a field stop objective (66; 666, 666') that at least partly corrects a residual pupil aberration of the condenser (601; 602; 603; 604; 605; 606) .
摘要翻译：微光刻曝光设备（10）的照明系统（12）包括用于将光瞳平面（54）变换成场平面（62）的冷凝器（601; 602; 603; 604; 605; 606）。冷凝器具有透镜组（L14，L15，L16，L17; L24，L25，L26，L27，L28; L34，L35，L36，L37; L44，L45，L46; L53，L54，L55）连续镜头。这些透镜被布置为使得在轴上场点（72）上由聚光器（601; 602; 603; 604; 605）聚焦的光束（70）会聚在透镜组的每个透镜内。透镜组的至少一个透镜（L15，L16，L17; L25，L26; L34，L44，L45; L54）具有凹面。照明系统还可以包括至少部分校正冷凝器（601; 602; 603; 604; 605; 606）的残余光瞳像差的场停止物镜（66; 666,666'）。

54. 发明申请

WO2005081034A1 二次元調光デバイス、露光装置、及び露光方法审中-公开
标题翻译：二维光调制装置，曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：WO2005081034A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/JP2005/002940
申请日：2005-02-23
申请人：株式会社ニコン , 白石直正
发明人：白石直正
IPC分类号： G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70358 , G02B26/0833 , G02B27/0043 , G02B27/4222 , G03F7/70291
摘要：　形成した調光分布を一方向に沿って高速に移動させることが可能な二次元調光デバイスを可変成形マスクとして備えた、走査型のマスクレス露光装置を提供する。走査型のマスクレス露光装置の可変成形マスクとして、信号保持要素と調光要素とからなる調光素子が二次元に配列された調光素子アレイ（１１）と、その信号保持要素に保持される調光信号を、一方向に沿って隣接する信号保持要素に順次転送可能な制御回路機構（１２）とを有する二次元調光デバイス（ＶＭ１）を使用する。その可変成形マスク上のパターンとしての一方向に高速転送可能な調光状態分布を、投影光学系（１３）を介して移動している被露光基板（Ｗ）上に転写する。
摘要翻译：一种扫描型无掩模曝光装置，具有作为可变形成掩模的能够高速地沿一个方向移动形成的调制光分布的二维光调制装置。二维光调制装置（VM1）被用作扫描型无掩模曝光装置的可变形成掩模。光调制装置（VM1）具有光调制元件阵列（11），其中由信号保持元件和光调制元件构成的光调制元件二维排列，并且具有控制电路机构（12），该控制电路机构能够顺序发送由信号保持元件保持的光调制信号沿一个方向连接到相邻的信号保持元件。可以通过投影光学系统（13）在待曝光的移动的基板（W）上传送作为能够在一个方向上发送的可变形成掩模上的图案的光调制状态分布。

55. 发明申请

WO2004086121A1 光学素子、光学系、レーザ装置、露光装置、マスク検査装置、及び高分子結晶の加工装置审中-公开
标题翻译：光学元件，光学系统，激光器件，曝光装置，掩模测试装置和高聚合物晶体处理装置
公开(公告)号：WO2004086121A1
公开(公告)日：2004-10-07
申请号：PCT/JP2004/003820
申请日：2004-03-22
申请人：株式会社ニコン , 三輪聡
发明人：三輪聡
IPC分类号： G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B3/06 , G02B27/0043 , G02F1/353 , G02F1/3532 , G02F2001/354 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , G03F7/70666 , G03F7/708 , G03F7/70825 , G03F7/70941 , G03F7/70983
摘要：　シリンドリカルレンズ１１ａ、１１ｂの母線方向は光軸に直交しており、かつそれぞれ直交している。これにより、シリンドリカルレンズ１１ａと、１１ｂを組み合わせた光学系は、球面レンズと同じ光学的作用を果たすことができる。各レンズはシリンドリカルレンズであるため、母線方向に移動させても光軸のずれが発生しないという特徴を有する。例えば、レンズの損傷が顕著になってきた場合、図示しない移動機構、例えばマイクロメータ付きステージによりレンズを母線方向（矢印方向）に移動し、未使用部分を使用することによりレーザ装置の長寿命化をはかることができる。
摘要翻译：柱面透镜（11a，11b）的母线的方向与光轴正交并且彼此正交。因此，使用这些柱面透镜（11a，11b）的组合的光学系统能够执行与球面透镜相同的光学作用。由于每个透镜是柱面透镜，因此具有即使沿母线的方向移动也不会发生光轴的偏离的特征。例如，在对透镜的损伤变得明显的情况下，透镜通过未示出的驱动机构（例如配备微米的级）沿母线的方向（箭头方向）移动，以使用未使用的部分从而延长激光装置的使用寿命。

56. 发明申请

WO2004036316A1 OPTICAL ARRANGEMENT AND METHOD OF SPECIFYING AND PERFORMING A DEFORMATION OF AN OPTICAL SURFACE OF AN OPTICAL ELEMENT BEING PART OF THE OPTICAL ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译：光学装置和光学装置的光学元件的光学表面变形的光学布置方法
公开(公告)号：WO2004036316A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/EP2002/011492
申请日：2002-10-15
申请人： Carl Zeiss SMT AG , FEHR, Jean-Noel , FROMMEYER, Andreas
发明人： FEHR, Jean-Noel , FROMMEYER, Andreas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G02B17/0657 , G02B27/0043 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70391
摘要： An optical arrangement (12), in particular a microlithographic projection exposure system, in particular having rotational asymmetric illumination, e.g. having a slit shaped illumination field, includes at least one optical element (16, 18, 20) having at least one optical surface (3) being shaped to correct the imaging properties of the optical arrangement (12). Included is a surface deformation device (6) co-operating with the optical element (16, 18, 20) which is arranged to produce a specific thermal deformation of at least a region of the optical surface (3) of the optical element (16, 18, 20). This region has a shape being specifically adapted to the imaging properties to be corrected. Thus, the correction of specific aberrations is possible. The deformation of an optical surface of an optical element being part of the optical arrangement to be generated by the surface deformation device is specified by measuring the aberrations of the desired optical properties of the optical arrangement in a field plane of the optical arragemment, by shifting the measured aberration or a model function representing the measured aberration by adding a positive constant to get only positive values to obtain a desired deformation pattern of the optical surface, by determining a relative thermal energy profile to be generated by the surface deformation device and by determining the absolute thermal energy profile using material parameters of part of the optical element dedicated to be illuminated by the correction light.
摘要翻译：光学布置（12），特别是微光刻投影曝光系统，特别是具有旋转不对称照明，例如，具有狭缝形状的照明场，包括至少一个具有至少一个光学表面（3）的光学元件（16,18,20），其被成形为校正光学装置（12）的成像特性。包括与光学元件（16,18,20）配合的表面变形装置（6），所述表面变形装置被布置成产生光学元件（16）的光学表面（3）的至少一个区域的特定热变形，18,20）。该区域具有适于要校正的成像特性的形状。因此，特定像差的校正是可能的。作为由表面变形装置产生的光学装置的一部分的光学元件的光学表面的变形通过在光学装置的场平面中测量光学装置的期望光学特性的像差来规定所测量的像差或模型函数，通过增加正常数以获得仅仅正值以获得所需的光学表面的变形图案，通过确定由表面变形装置产生的相对热能分布，并且通过确定使用专门由校正光照亮的光学元件的部分的材料参数的绝对热能分布。

57. 发明申请

WO2002099500A2 CORRECTION OF BIREFRINGENCE IN CUBIC CRYSTALLINE OPTICAL SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：在CUBIC晶体光学系统中校正校正
公开(公告)号：WO2002099500A2
公开(公告)日：2002-12-12
申请号：PCT/US2002/017071
申请日：2002-05-31
申请人： OPTICAL RESEARCH ASSOCIATES , HOFFMAN, Jeffrey, M. , MCGUIRE, James, P.
发明人： HOFFMAN, Jeffrey, M. , MCGUIRE, James, P.
IPC分类号： G02B13/24
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B1/02 , G02B27/0043 , G02B27/28 , G03F7/70216 , G03F7/70241 , G03F7/70966 , Y10S438/942
摘要： An optical system includes multiple cubic crystalline optical elements aligned along a common optical axis and having their crystal lattices oriented with respect to each other to minimize the effects of intrinsic birefringence and produce a system with reduced retardance. The optical system may be a refractive or catadioptric system having a high numerical aperture and using light with a wavelength at or below (248) nanometers. The net retardance of the system is less than the sum of the retardance contributions of the respective optical elements as the elements are oriented such that the intrinsic birefringences of the individual elements cancel each other out. In one embodiment, two [110] cubic crystalline optical elements are clocked with respect to one another and used in conjunction with a [100] cubic crystalline optical element to reduce retardance. Various birefringent elements, wave plates, and combinations thereof provide additional correction for residual retardance and wavefront aberrations. The optical system may be used in a photolithography tool to pattern substrates such as semiconductor substrates and thereby produce semiconductor devices.
摘要翻译：光学系统包括沿着公共光轴对准的多个立方晶体光学元件，并且使它们的晶格相对于彼此取向以最小化固有双折射的影响并产生具有减小的延迟的系统。光学系统可以是具有高数值孔径的折射或反射折射系统，并且使用具有或低于（248）纳米的波长的光。系统的净延迟小于各个光学元件的延迟贡献的总和，因为元件被定向成使得各个元件的固有双折射彼此抵消。在一个实施例中，两个[110]立方晶体光学元件相对于彼此计时，并与[100]立方晶体光学元件结合使用以减少延迟。各种双折射元件，波片及其组合为残余延迟和波前像差提供额外的校正。光学系统可以用于光刻工具中以对诸如半导体衬底的衬底进行图案化，从而制造半导体器件。

58. 发明申请

WO99045438A1 METHOD FOR PATTERN GENERATION WITH IMPROVED IMAGE QUALITY 审中-公开
标题翻译：具有改进图像质量的图形生成方法
公开(公告)号：WO99045438A1
公开(公告)日：1999-09-10
申请号：PCT/SE1999/000296
申请日：1999-03-02
IPC分类号： B23K26/06 , B23Q17/24 , G02B26/00 , G02B26/06 , G02B26/08 , G03F1/00 , G03F1/08 , G03F7/20 , G03F7/207 , H01L21/027 , H04N1/195 , H04N5/74
CPC分类号： G03F7/70725 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B41J2/465 , G02B26/0833 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G02B27/4205 , G03F7/2022 , G03F7/70041 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/704 , G03F7/70475 , G09G3/2007 , G09G3/346 , H04N1/195 , H04N5/7458 , H04N2201/0414
摘要： The present invention relates to a method for creating a microlithographic pattern on a workpiece, for increased resolution and image fidelity. The method comprises the steps of: providing a source for emitting electromagnetic radiation, illuminating by said radiation a spatial light modulator (SLM) having several pixels, projecting an image of the modulator on the workpiece, further coordinating the movement of the workpiece, the feeding of the signals to the modulator and the intensity of the radiation, so that said pattern is stitched together from the partial images created by the sequence of partial patterns, where an area of the pattern is exposed at least twice with a change in at least one, and preferably at least two, of the following parameters between the exposures: data driven to the SLM, focus, angular distribution of the illumination at the SLM, pupil filtering, polarisation.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在工件上产生微光刻图案的方法，以提高分辨率和图像保真度。该方法包括以下步骤：提供用于发射电磁辐射的源，通过所述辐射照射具有若干像素的空间光调制器（SLM），将调制器的图像投影在工件上，进一步协调工件的移动，的信号到调制器和辐射的强度，使得所述图案从由部分图案序列产生的部分图像缝合在一起，其中图案的区域暴露至少两次，其中至少一个，并且优选地至少两个曝光之间的参数：驱动到SLM的数据，焦点，SLM处的照明的角度分布，瞳孔滤光，偏振。

59. 发明申请

WO99045435A1 PATTERN GENERATOR WITH IMPROVED PRECISION 审中-公开
标题翻译：具有改进精度的图案发生器
公开(公告)号：WO99045435A1
公开(公告)日：1999-09-10
申请号：PCT/SE1999/000291
申请日：1999-03-02
IPC分类号： B23K26/06 , B23Q17/24 , G02B26/00 , G02B26/06 , G02B26/08 , G03F1/00 , G03F1/08 , G03F7/20 , G03F7/207 , H01L21/027 , H04N1/195 , H04N5/74
CPC分类号： G03F7/70725 , B23K26/032 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B41J2/465 , G02B26/0833 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G02B27/4205 , G03F7/2022 , G03F7/70041 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/704 , G03F7/70475 , G09G3/2007 , G09G3/346 , H04N1/195 , H04N5/7458 , H04N2201/0414
摘要： The present invention relates to a method for creating a pattern on a workpiece with better pattern fidelity and dimensional precision. The method comprises the steps of: providing a source for emitting electromagnetic radiation, illuminating by said radiation a spatial light modulator (SLM) having a multitude of pixels, projecting an image of the modulator on the workpiece, moving said workpiece and/or projection system relative to each other, reading from an information storage device a digital description of the pattern to be written, extracting from the pattern description a sequence of partial patterns, converting said partial patterns to modulator signals, and feeding said signals to the modulator, further coordinating the workpiece, the modulator and the radiation source, so that said pattern is stitched together from the partial images, further exposing said pattern in at least two separate exposures, where at one exposure corrections are applied for errors occurring during another exposure.
摘要翻译：本发明涉及一种以更好的图案保真度和尺寸精度在工件上形成图案的方法。该方法包括以下步骤：提供用于发射电磁辐射的源，用所述辐射照射具有多个像素的空间光调制器（SLM），将调制器的图像投影在工件上，移动所述工件和/或投影系统从信息存储装置读取要写入的模式的数字描述，从模式描述中提取一部分模式序列，将所述部分模式转换成调制器信号，并将所述信号馈送到调制器，进一步协调工件，调制器和辐射源，使得所述图案从部分图像缝合在一起，进一步在至少两个单独的曝光中曝光所述图案，其中在一次曝光校正被应用于另一曝光期间发生的错误。

60. 发明授权

EP3193203B1 METHODS AND DEVICES FOR DRIVING MICROMIRRORS 有权
公开(公告)号：EP3193203B1
公开(公告)日：2018-08-29
申请号：EP17157830.5
申请日：2009-10-06
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Horn, Jan , Kempter, Christian
IPC分类号： G02B26/08 , G02B27/00 , G03F7/20 , G03B27/72
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B26/0841 , G02B27/0043 , G03B27/72 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70525
摘要： A micromirror (24) of a micromirror array (22) in an illumination system (10) of a microlithographic projection exposure apparatus can be tilted through a respective tilt angle (± x , ± y ) about two tilt axes (x, y). The micromirror (24) is assigned three actuators (E 1 , E 2 , E 3 ) which can respectively be driven by control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) in order to tilt the micromirror (24) about the two tilt axes (x, y). Two control variables (SG x , SG y ) are specified, each of which is assigned to one tilt axis (x, y) and which are both assigned to unperturbed tilt angles (± x , ± y ). For any desired combinations of the two control variables (SG x , SG y ), as a function of the two control variables (SG x , SG y ), one (E 1 ) of the three actuators is selected and its control signal (U 1 ) is set to a constant value, in particular zero. The control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) are determined so that, when the control signals (U 1 , U 2 , U 3 ) are applied to the other two actuators (E 2 , E 3 ), the micromirror (24) adopts the unperturbed tilt angles (± x , ± y ) as a function of the two control variables (SG x , SG y ).

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