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51. 发明公开

CN1493924A 投影光学系统、曝光装置以及组件制造方法失效
公开(公告)号：CN1493924A
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN03148266.X
申请日：2003-07-01
申请人：尼康株式会社
发明人：重松幸二 , 藤岛洋平 , 大村泰弘 , 石山敏朗
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/18 , G02B13/22 , G03F7/26 , G02F1/13 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/703 , G02B13/146 , G03F7/70241
摘要：提供一种投影光学系统，它是在两侧大致为远心，一面确保足够大的数值孔径及足够宽广的成像区域，一面使包括失真的诸像差被良好地修正，简洁而高性能的，是一种将第一物体(R)的图案像形成在第二物体(W)上的投影光学系统，投影光学系统由具有1.6以下的折射率的光学材料而形成，在第一物体侧及上述第二物体侧两处为实质上的远心，而且，当设光的波长为λ，第一物体与第二物体的距离为L，第二物体侧的数值孔径为NA，在第二物体上的最大像高为Y0时，满足(λ×L)/(NA×Y02)＜1.5×10－3的条件。

52. 发明授权

CN1090757C 用于检测透镜变形的掩模失效
公开(公告)号：CN1090757C
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：CN96111025.2
申请日：1996-06-20
申请人：现代电子产业株式会社
发明人：权炳仁
IPC分类号： G01M11/02 , G03F9/00
CPC分类号： G01M11/0264 , G03F7/70241 , G03F7/70433 , G03F7/70458 , G03F7/706 , G03F7/70633
摘要：用于检测透镜变形的掩模包括在石英的各个位置形成的多个母游标和与每个母游标间隔的多个子游标。

53. 发明公开

CN1293822A 投影光学系统、投影光学系统的制造方法和使用该光学系统的投影曝光装置无效
公开(公告)号：CN1293822A
公开(公告)日：2001-05-02
申请号：CN00800017.4
申请日：2000-01-06
申请人：株式会社尼康
发明人：平岩弘之 , 田中一政
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B13/24
CPC分类号： G03F7/70591 , G02B5/3083 , G03F7/70241 , G03F7/706 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要：一个至少具有2个石英玻璃光学部件的投影光学系统,其特征是:测定垂直于以与各光学部件的光轴相交的交点为中心的光轴的面内多个位置的复折射值,当其相位超前补偿轴的朝向相对于与光轴的交点于放射方向时取多个复折射值为正,与放射方向平行时取多个复折射值为负,并求出带符号复折射值的分布,相互组合光学部件,以使基于这个分布计算出来的投影光学系统整体的带符号复折射特性值满足－0.5—+0.5nm/cm的配置条件。由此,可以使光学部件内的复折射值的不均匀分布对投影光学系统的成像性能、或者投影曝光装置的解像度的影响降到最小限度,能提供具有高成像性能的投影光学系统、投影光学系统的制造方法以及可以获得高解像度的投影曝光装置。

54. 发明授权

CN1057848C 备有透镜系统驱动装置的光学装置失效
公开(公告)号：CN1057848C
公开(公告)日：2000-10-25
申请号：CN95108594.8
申请日：1995-06-14
申请人：诺日士钢机株式会社
发明人：武田浩久
IPC分类号： G03B27/34 , G03B27/46 , G03B27/52
CPC分类号： G03F7/70241 , G03B27/34 , G03B27/462
摘要：本发明的备有透镜系统驱动装置的光学装置，具有：位于曝光位置的、使底片的影象在感光材料上成象的透镜系统；支承透镜系统并使其在光轴方向上移动的透镜系统驱动机构；检测透镜系统驱动机构周围温度的温度检测装置；与温度检测装置和透镜系统驱动机构连接的控制装置。该控制装置备有存贮透镜系统在每个温度下的修正信息的存贮器和把根据修正信息得到的修正动作信号输出到透镜系统驱动机构的动作信息输出机构。

55. 发明公开

CN1115871A 备有进行光轴方向温度修正的透镜系统驱动装置的光导装置失效
公开(公告)号：CN1115871A
公开(公告)日：1996-01-31
申请号：CN95108594.8
申请日：1995-06-14
申请人：诺日士钢机株式会社
发明人：武田浩久
IPC分类号： G03B21/53
CPC分类号： G03F7/70241 , G03B27/34 , G03B27/462
摘要：本发明是把从底片投影的象晒印到感光材料上的照片晒印装置，具有；位于曝光位置的、使底片的影象在感光材料上成象的透镜系统；支承透镜系统并使其在光轴方向上移动的透镜系统驱动机构；检测透镜系统驱动机构周围温度的温度检测装置；与温度检测装置和透镜系统驱动机构连接的控制装置。该控制装置备有存贮透镜系统在每个温度下的修正信息的存贮器和把根据修正信息得到的修正动作输出到透镜系统驱动机构的激励器。

56. 发明专利

ZA9406593B Methods and apparatus for producing integrated circuit devices 未知
公开(公告)号：ZA9406593B
公开(公告)日：1995-04-03
申请号：ZA9406593
申请日：1994-08-30
申请人： SHELLCASE LIMITED
发明人： BADEHI PIERRE , TROPP EHUD , LEVY MOSHE
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/027 , H01L , G03F
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/24 , G03F7/70241 , G03F7/70275 , G03F7/703 , G03F7/7035 , Y10S438/944

57. 发明申请

WO2017084870A1 Lithographic Apparatus and Method 审中-公开
标题翻译：光刻设备和方法
公开(公告)号：WO2017084870A1
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：PCT/EP2016/076274
申请日：2016-11-01
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： SMEETS, Benjamin, Cunnegonda, Henricus , BAGGEN, Mark, Constant, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70858
摘要： A lithographic apparatus comprises a substrate table for holding a substrate and a projection system for projecting a radiation beam onto a target region of the substrate so as to form an image on the substrate. The projection system comprises a lens element arrangement having a first lens element. A first pressure sensor is arranged to measure at least one pressure value adjacent the first lens element. A controller determines a first change in a pressure difference over the first lens element and/or a further lens element based on a signal received from the pressure sensor, determines adjustments to a position of one of the substrate table and projection system based upon the determined first change, and causes actuators to make adjustments to the the substrate table or the projection system.
摘要翻译：光刻设备包括用于保持衬底的衬底台和用于将辐射束投影到衬底的目标区域上以便在衬底上形成图像的投影系统。投影系统包括具有第一透镜元件的透镜元件布置。第一压力传感器布置成测量邻近第一透镜元件的至少一个压力值。控制器基于从压力传感器接收到的信号来确定第一透镜元件和/或另一透镜元件上的压力差的第一变化，基于确定的衬底台和投影系统之一的位置确定对位置的调整第一次改变，并促使致动器对衬底台或投影系统进行调整。

58. 发明申请

WO2017050531A1 OPTISCHES SYSTEM ZUR FELDABBILDUNG UND/ODER PUPILLENABBILDUNG 审中-公开
标题翻译：光学系统，用于场图片和/或小学生PICTURE
公开(公告)号：WO2017050531A1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：PCT/EP2016/070537
申请日：2016-08-31
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MUENZ, Holger
IPC分类号： G02B27/00 , G02B13/14 , G03F7/20
CPC分类号： G02B13/14 , G02B27/005 , G03F7/70241
摘要： Ein optisches System (10) zur Feldabbildung und/oder Pupillenabbildung weist eine optische Achse (16; 46), eine Blendenebene (18; 38) und eine Bildebene (20; 40)auf. Das optische System weist ein Linsensystem (11; 37) auf, das drei Linsengruppen (14a,b,c; 42a,b,c) mit jeweils zumindest einer Linse aufweist, die entlang der optischen Achse (16; 46) zwischen der Blendenebene (18; 38) und der Bildebene (20; 40) voneinander beabstandet angeordnet sind, wobei die drei Linsengruppen (14a,b,c; 42a,b,c) ein erstes Linsenmaterial und/oder ein vom ersten Linsenmaterial verschiedenes zweites Linsenmaterial aufweisen. Das Linsensystem (11; 37) ist ferner als Fourier-Optik (12; 36) ausgebildet ist, die zusätzlich eine weitere entlang der optischen Achse (16; 46) zwischen der Blendenebene (18; 38) und der Bildebene (20; 40) von den drei Linsengruppen (14a,b,c; 42a,b,c) beabstandet angeordnete Linsengruppe (14d; 42d) mit zumindest einer Linse aufweist, die das erste Linsenmaterial und/oder das zweite Linsenmaterial aufweist, wobei zwei der vier Linsengruppen (14a,c; 42b,d) der Fourier-Optik (12; 36) in Bezug auf Farblängsfehler der Feldabbildung und/oder der Pupillenabbildung als eine erste und eine zweite farbunterkorrigierte Linsengruppe ausgebildet sind, wobei zwei andere der vier Linsengruppen (14b,d; 42a,c) der Fourier-Optik (12; 36) als eine erste und eine zweite farbüberkorrigierte Linsengruppe ausgebildet sind, wobei die Fourier-Optik (12; 36) eine alternierende Abfolge zwischen jeweils farbunterkorrigierter und farbüberkorrigierter Linsengruppe aufweist.
摘要翻译：用于场成像和/或光瞳像的光学系统（10）具有光轴（16; 46），隔膜平面（18; 38）和像平面（20; 40）。该光学系统包括一个透镜系统（11; 37），所述三个透镜组（14A，B，C; 42A，B，C）沿着光轴（16; 46）每一个都具有至少一个透镜光阑平面之间（ 18; 38）和像平面（20; 40）被布置成彼此，其中，所述三个透镜组（14A，b，C，c）中包括42A，b，第一透镜材料间隔和/或从第一透镜材料第二透镜材料不同。形成，它除了另一个沿光轴（16; 46），所述透镜系统（11; 37;）进一步比隔膜平面（18; 38）之间的傅立叶光学器件（36 12）和像平面（20; 40）具有至少一个透镜，其具有第一透镜材料和/或第二透镜材料，其中，两个所述四个透镜组的（由三个透镜组（14A，b，C ;; 42A，b，C）间隔开的透镜组（42D 14D 14A），C。; 42B，D）的傅立叶光学器件（12; 36）被设计为在第一和相对于所述场成像和/或光瞳像的纵向色像差的第二颜色校正透镜组，所述两个其他的所述四个透镜组（14B，D; 42A c）该傅立叶光学器件（12; 36），其为第一和第二墨校正透镜组被形成，其中所述傅立叶光学系统（12; 36）包括在每个颜色校正和颜色校正透镜组之间的交替序列。

59. 发明申请

WO2012072004A1 一种投影物镜系统及使用该投影物镜系统的微光刻系统审中-公开
公开(公告)号：WO2012072004A1
公开(公告)日：2012-06-07
申请号：PCT/CN2011/082945
申请日：2011-11-25
申请人：上海微电子装备有限公司 , 朱立荣
发明人：朱立荣
IPC分类号： G02B13/18 , G03F7/20
CPC分类号： G02B13/18 , G02B13/143 , G02B13/24 , G03F7/70241

60. 发明申请

WO2006069795A2 PROJECTION OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：投影光学系统
公开(公告)号：WO2006069795A2
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/EP2005014148
申请日：2005-12-30
申请人： ZEISS CARL SMT AG , DODOC AURELIAN , ULRICH WILHELM
发明人： DODOC AURELIAN , ULRICH WILHELM
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B13/143 , G03F7/70241
摘要： A projection optical system comprises a plurality of lenses disposed along an optical axis of the projection optical system; wherein the plurality of lenses is dividable into four non-overlapping groups of lenses, such that a total refractive power of each group of lenses is one of a negative refractive power and a positive refractive power; and wherein a refractive power of each lens of the fourth group of lenses is equal to or greater than 0. A lens of the third group of lenses which is disposed directly adjacent to a lens of the fourth group of lenses may have a concave surface facing towards the second object.
摘要翻译：投影光学系统包括沿着投影光学系统的光轴设置的多个透镜; 其中所述多个透镜可分成四个不重叠的透镜组，使得每组透镜的总屈光力为负屈光力和正屈光力中的一种; 并且其中第四组透镜的每个透镜的折射力等于或大于0.与第四组透镜的透镜直接相邻布置的第三组透镜的透镜可以具有面对的凹面朝向第二个对象。

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