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61. 发明公开

KR1020110017580A 저방사 유리의 제조방법 失效
标题翻译：制造低辐射玻璃的方法
公开(公告)号：KR1020110017580A
公开(公告)日：2011-02-22
申请号：KR1020090075115
申请日：2009-08-14
申请人： 주식회사 티지오테크
发明人： 이유진 , 김동제
IPC分类号： C03C17/06
CPC分类号： C03C17/2453 , C03C17/09 , C03C17/2456 , C03C17/366 , C03C23/005 , C03C2218/152
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing low emissivity glass is provided to properly and minutely control thecoverage of a light blocking layer. CONSTITUTION: A method for manufacturing low emissivity glass comprises the steps of: forming a first light transmission layer(120) on a glass substrates(110); forming a light blocking layer(130) on the first light transmission layer in order to be a coverage less than 1; and forming a second light transmission layer(140) on the first light transmission layer and the light blocking layer.
摘要翻译：目的：提供一种制造低辐射玻璃的方法，以适当和精确地控制遮光层的覆盖范围。构成：制造低辐射玻璃的方法包括以下步骤：在玻璃基板（110）上形成第一透光层（120）; 在所述第一光透射层上形成遮光层，以便覆盖小于1; 以及在所述第一透光层和所述遮光层上形成第二透光层（140）。

62. 发明公开

KR1020080111468A 유리 기판의 제조 방법 및 고평탄하고 고평활한 유리 기판 有权
标题翻译：玻璃基板的加工方法，以及高平板和高平板玻璃基板
公开(公告)号：KR1020080111468A
公开(公告)日：2008-12-23
申请号：KR1020087024824
申请日：2007-04-11
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 오쯔까,고지 , 고지마,히로시 , 이또,마사부미
IPC分类号： C03C23/00 , C03C19/00
CPC分类号： C03C15/02 , B24B7/242 , B24B37/08 , C03C3/06 , C03C19/00 , C03C23/005 , C03C23/006 , C03C2201/42 , C03C2204/08 , Y10T428/24355
摘要： The present invention is to provide a processing method for manufacturing a highly flat and highly smooth glass substrate with good productivity. A highly flat and highly smooth glass substrate is obtained with good productivity by processing of a glass substrate, which comprises a step of measuring the surface shape of the glass substrate prior to processing, a step of processing the surface of the substrate by changing a processing condition for each site (first processing step), and a step of finish-polishing the surface of the glass substrate that has been subjected to the first processing step (second processing step). At that time, the processing condition for each site within the surface of the substrate in the first processing step is determined from a processing amount that is determined from the concave-convex shape of the surface of the glass substrate prior to processing and the in-plane distribution of a processing amount by the second processing step separately measured by using a similar substrate. ® KIPO & WIPO 2009
摘要翻译：本发明提供一种以高生产率制造高度平坦且高度光滑的玻璃基板的加工方法。通过处理玻璃基板，通过加工玻璃基板，以高生产率获得高度平坦且高度平滑的玻璃基板，其包括在处理之前测量玻璃基板的表面形状的步骤，通过改变处理来处理基板的表面的步骤（第一处理步骤），以及对经过第一处理步骤（第二处理步骤）的玻璃基板的表面进行精抛光的步骤。此时，根据从处理前的玻璃基板的表面的凹凸形状确定的处理量来确定第一处理工序中的基板的表面内的每个部位的处理条件，通过使用相似的基板分别测量的第二处理步骤的处理量的平面分布。 ®KIPO＆WIPO 2009

63. 发明专利

TWI492907B 輕量強化、低發射率之真空絕緣玻璃視窗有权
简体标题：轻量强化、低发射率之真空绝缘玻璃窗口
公开(公告)号：TWI492907B
公开(公告)日：2015-07-21
申请号：TW101108890
申请日：2012-03-15
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：葛茲伯斯基理察羅伯特 , GRZYBOWSKI, RICHARD ROBERT , 帕比安齊麥可S , PAMBIANCHI, MICHAEL S. , 斯特列利佐夫亞歷山大米哈伊洛維奇 , STRELTSOV, ALEXANDER MIKHAILOVICH
IPC分类号： C03B23/24 , C03C4/00 , C03C17/00 , C03B27/03
CPC分类号： E06B3/6733 , C03B23/02 , C03B2215/414 , C03C17/366 , C03C21/002 , C03C23/005 , E06B3/6612 , E06B3/663 , E06B3/66304 , E06B3/6775 , Y10T428/315

64. 发明专利

TW200744968A 玻璃基板的處理方法、和高平坦且高光滑的玻璃基板 PROCESSING METHOD OF GLASS SUBSTRATE, AND HIGHLY FLAT AND HIGHLY SMOOTH GLASS SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：玻璃基板的处理方法、和高平坦且高光滑的玻璃基板 PROCESSING METHOD OF GLASS SUBSTRATE, AND HIGHLY FLAT AND HIGHLY SMOOTH GLASS SUBSTRATE
公开(公告)号：TW200744968A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096112721
申请日：2007-04-11
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：大塚幸治 OTSUKA, KOJI , 小島宏 KOJIMA, HIROSHI , 伊藤正文 ITO, MASABUMI
IPC分类号： C03C , H01L , G03F
CPC分类号： C03C15/02 , B24B7/242 , B24B37/08 , C03C3/06 , C03C19/00 , C03C23/005 , C03C23/006 , C03C2201/42 , C03C2204/08 , Y10T428/24355
摘要：本發明將提供一用於製造高平坦及高光滑玻璃基板之處理方法,並具有良好之生產力。藉著一玻璃基板之處理,以良好之生產力獲得一高平坦及高光滑玻璃基板,該處理包含於處理之前測量該玻璃基板之表面形狀的步驟、藉著改變一用於每一部位的處理條件而處理該基板之表面的步驟(第一處理步驟)、及修整-拋光該玻璃基板之已遭受該第一處理步驟的表面之步驟(第二處理步驟)。在那時候,在該第一處理步驟中用於該基板的表面內之每一部位的處理條件,係由在處理之前由該玻璃基板之表面的凹入-凸出形狀所決定之處理數量、及藉著該第二處理步驟並使用一類似基板分開地測量之處理數量的平面內分佈所決定。
简体摘要：本发明将提供一用于制造高平坦及高光滑玻璃基板之处理方法,并具有良好之生产力。借着一玻璃基板之处理,以良好之生产力获得一高平坦及高光滑玻璃基板,该处理包含于处理之前测量该玻璃基板之表面形状的步骤、借着改变一用于每一部位的处理条件而处理该基板之表面的步骤(第一处理步骤)、及修整-抛光该玻璃基板之已遭受该第一处理步骤的表面之步骤(第二处理步骤)。在那时候,在该第一处理步骤中用于该基板的表面内之每一部位的处理条件,系由在处理之前由该玻璃基板之表面的凹入-凸出形状所决定之处理数量、及借着该第二处理步骤并使用一类似基板分开地测量之处理数量的平面内分布所决定。

65. 发明专利

TWI593651B 鍍膜玻璃及其製造方法、應用該鍍膜玻璃之電子裝置有权
简体标题：镀膜玻璃及其制造方法、应用该镀膜玻璃之电子设备
公开(公告)号：TWI593651B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW103133864
申请日：2014-09-30
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：陳杰良 , CHEN, GA-LANE , 魏朝滄 , WEI, CHAO-TSANG , 簡士哲 , CHIEN, SHIH-CHE , 廖名揚 , LIAO, MING-YANG
IPC分类号： C03C17/245
CPC分类号： C23C14/34 , C03C17/245 , C03C23/005 , C03C2217/23 , C03C2217/78 , C03C2218/154 , C23C14/0036 , C23C14/022 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/3464 , C23C14/564

66. 发明专利

TW201600212A 高熱膨脹玻璃與玻璃陶瓷之雷射焊接审中-公开
简体标题：高热膨胀玻璃与玻璃陶瓷之激光焊接
公开(公告)号：TW201600212A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104112593
申请日：2015-04-20
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：德奈卡馬修約翰 , DEJNEKA, MATTHEW JOHN , 斯特列利佐夫亞歷山大米哈伊洛維奇 , STRELTSOV, ALEXANDER MIKHAILOV
IPC分类号： B23K26/211
CPC分类号： H01L51/5246 , B23K26/0063 , B23K26/0869 , B23K26/206 , B23K26/21 , B23K26/244 , B23K26/324 , B23K2201/36 , B23K2203/52 , B23K2203/54 , C03B23/203 , C03C3/062 , C03C3/064 , C03C3/068 , C03C3/076 , C03C3/078 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/089 , C03C3/091 , C03C3/093 , C03C3/095 , C03C10/00 , C03C23/005 , C03C27/00 , C04B37/001 , C04B37/042 , C04B37/045 , C04B2235/665 , H01L51/56 , Y02P40/57
摘要：本文揭示的為用於焊接第一基板及第二基板之方法，該方法包含：使該第一基板及該第二基板進行接觸以形成基板界面，以及將在預定波長下操作的雷射束導向穿過該第二基板至該基板界面上，其中該第一基板吸收來自該雷射束的呈足以在該第一基板與該第二基板之間形成焊接部之量的光。本揭示內容亦係關於根據本文揭示的方法生產的玻璃及/或玻璃陶瓷封裝及OLED顯示器。
简体摘要：本文揭示的为用于焊接第一基板及第二基板之方法，该方法包含：使该第一基板及该第二基板进行接触以形成基板界面，以及将在预定波长下操作的激光束导向穿过该第二基板至该基板界面上，其中该第一基板吸收来自该激光束的呈足以在该第一基板与该第二基板之间形成焊接部之量的光。本揭示内容亦系关于根据本文揭示的方法生产的玻璃及/或玻璃陶瓷封装及OLED显示器。

67. 发明专利

TW201518226A 輕量強化、低發射率之真空絕緣玻璃視窗审中-公开
简体标题：轻量强化、低发射率之真空绝缘玻璃窗口
公开(公告)号：TW201518226A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW104102585
申请日：2012-03-15
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：葛茲伯斯基理察羅伯特 , GRZYBOWSKI, RICHARD ROBERT , 帕比安齊麥可S , PAMBIANCHI, MICHAEL S. , 斯特列利佐夫亞歷山大米哈伊洛維奇 , STRELTSOV, ALEXANDER MIKHAILOVICH
IPC分类号： C03B23/24 , C03C4/00 , C03C17/00 , C03B27/03 , E06B3/66
CPC分类号： E06B3/6733 , C03B23/02 , C03B2215/414 , C03C17/366 , C03C21/002 , C03C23/005 , E06B3/6612 , E06B3/663 , E06B3/66304 , E06B3/6775 , Y10T428/315
摘要：真空絕緣玻璃視窗包括兩個或兩個以上玻璃窗格及玻璃凸塊間隔物，在該等窗格之一者之表面內形成該等玻璃凸塊間隔物。玻璃凸塊間隔物由玻璃窗格之主體部分之玻璃材料構成。該等玻璃窗格之至少一者包含化學強化玻璃。形成真空絕緣玻璃(vacuum-insulated glass；VIG)視窗之方法包括藉由用來自雷射之聚焦光束照射玻璃窗格形成玻璃凸塊間隔物。玻璃內之熱效應引起玻璃局部膨脹，因此形成玻璃凸塊間隔物。在化學強化玻璃窗格內形成該等玻璃凸塊間隔物的實施例中，可在化學強化之前或之後形成玻璃凸塊間隔物。使第二玻璃窗格與玻璃凸塊間隔物接觸，且密封邊緣。將所得密封之內部區域抽空至小於一個大氣壓之壓力。
简体摘要：真空绝缘玻璃窗口包括两个或两个以上玻璃窗格及玻璃凸块间隔物，在该等窗格之一者之表面内形成该等玻璃凸块间隔物。玻璃凸块间隔物由玻璃窗格之主体部分之玻璃材料构成。该等玻璃窗格之至少一者包含化学强化玻璃。形成真空绝缘玻璃(vacuum-insulated glass；VIG)窗口之方法包括借由用来自激光之聚焦光束照射玻璃窗格形成玻璃凸块间隔物。玻璃内之热效应引起玻璃局部膨胀，因此形成玻璃凸块间隔物。在化学强化玻璃窗格内形成该等玻璃凸块间隔物的实施例中，可在化学强化之前或之后形成玻璃凸块间隔物。使第二玻璃窗格与玻璃凸块间隔物接触，且密封边缘。将所得密封之内部区域抽空至小于一个大气压之压力。

68. 发明专利

TW201245059A 輕量強化、低發射率之真空絕緣玻璃視窗 LIGHT-WEIGHT STRENGTHENED, LOW-EMITTANCE VACUUM INSULATED GLASS (VIG) WINDOWS 审中-公开
简体标题：轻量强化、低发射率之真空绝缘玻璃窗口 LIGHT-WEIGHT STRENGTHENED, LOW-EMITTANCE VACUUM INSULATED GLASS (VIG) WINDOWS
公开(公告)号：TW201245059A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101108890
申请日：2012-03-15
申请人：康寧公司
发明人：葛茲伯斯基理察羅伯特 , 帕比安齊麥可S , 斯特列利佐夫亞歷山大米哈伊洛維奇
IPC分类号： C03B , C03C
CPC分类号： E06B3/6733 , C03B23/02 , C03B2215/414 , C03C17/366 , C03C21/002 , C03C23/005 , E06B3/6612 , E06B3/663 , E06B3/66304 , E06B3/6775 , Y10T428/315
摘要：真空絕緣玻璃視窗包括兩個或兩個以上玻璃窗格及玻璃凸塊間隔物，在該等窗格之一者之表面內形成該等玻璃凸塊間隔物。玻璃凸塊間隔物由玻璃窗格之主體部分之玻璃材料構成。該等玻璃窗格之至少一者包含化學強化玻璃。形成真空絕緣玻璃(vacuum-insulated glass；VIG)視窗之方法包括藉由用來自雷射之聚焦光束照射玻璃窗格形成玻璃凸塊間隔物。玻璃內之熱效應引起玻璃局部膨脹，因此形成玻璃凸塊間隔物。在化學強化玻璃窗格內形成該等玻璃凸塊間隔物的實施例中，可在化學強化之前或之後形成玻璃凸塊間隔物。使第二玻璃窗格與玻璃凸塊間隔物接觸，且密封邊緣。將所得密封之內部區域抽空至小於一個大氣壓之壓力。
简体摘要：真空绝缘玻璃窗口包括两个或两个以上玻璃窗格及玻璃凸块间隔物，在该等窗格之一者之表面内形成该等玻璃凸块间隔物。玻璃凸块间隔物由玻璃窗格之主体部分之玻璃材料构成。该等玻璃窗格之至少一者包含化学强化玻璃。形成真空绝缘玻璃(vacuum-insulated glass；VIG)窗口之方法包括借由用来自激光之聚焦光束照射玻璃窗格形成玻璃凸块间隔物。玻璃内之热效应引起玻璃局部膨胀，因此形成玻璃凸块间隔物。在化学强化玻璃窗格内形成该等玻璃凸块间隔物的实施例中，可在化学强化之前或之后形成玻璃凸块间隔物。使第二玻璃窗格与玻璃凸块间隔物接触，且密封边缘。将所得密封之内部区域抽空至小于一个大气压之压力。

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