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71. 发明专利

TW200536631A 板件搬送裝置 PANEL TRANSPORTING DEVICE 失效
简体标题：板件搬送设备 PANEL TRANSPORTING DEVICE
公开(公告)号：TW200536631A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：TW093113414
申请日：2004-05-13
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：百百泰 DODO, YASUSHI , 桑野博明 KUWANO, HIROAKI
IPC分类号： B21D
摘要：本發明提供一種板件搬送裝置，係具備：夾持板件(1)之板件夾持部(5)；連結於板件夾持部(5)之第2連結機構；軸裝於第2連結機構的第1連結機構；使第1連結機構朝向板件搬送方向移動的滑動機構(20)；及將第2連結機構予以擺動的搖動機構(22)。
简体摘要：本发明提供一种板件搬送设备，系具备：夹持板件(1)之板件夹持部(5)；链接于板件夹持部(5)之第2链接机构；轴装于第2链接机构的第1链接机构；使第1链接机构朝向板件搬送方向移动的滑动机构(20)；及将第2链接机构予以摆动的摇动机构(22)。

72. 发明专利

TWI241392B 有形燃料之氣化裝置及氣化方法 APPARATUS AND METHOD FOR GASIFYING SOLID OR LIQUID FUEL 失效
简体标题：有形燃料之气化设备及气化方法 APPARATUS AND METHOD FOR GASIFYING SOLID OR LIQUID FUEL
公开(公告)号：TWI241392B
公开(公告)日：2005-10-11
申请号：TW089119101
申请日：2000-09-18
申请人：獨立行政法人科學技術振興機構 JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY , 日本爐工業股份有限公司 , 石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：吉川邦夫 YOSHIKAWA, KUNIO , 保田力 , 井勝 , 石井徹 TORU ISHII
IPC分类号： F23K
CPC分类号： C01B3/36 , C01B3/32 , C10J3/16 , C10J3/26 , C10J2300/0956 , C10J2300/0976 , C10J2300/1215 , C10J2300/1253 , C10J2300/1671 , C10J2300/1853 , C10J2300/1869 , C10J2300/1884 , C10J2300/1892 , C10K3/006 , Y02E20/18
摘要：本發明提供一種能將氣化爐或熱分解爐之熱分解氣體改質為比較良質之燃料氣體的有形燃料之氣化裝置及氣化方法。
本發明之氣化裝置1具備藉由有形燃料之熱分解而能生成熱分解氣體的熱分解氣化爐2，且具備加熱裝置10及供給裝置MG。加熱裝置係將水或低溫水蒸氣與低溫空氣加熱為700℃以上之高溫水蒸氣及高溫空氣，而供給裝置係將高溫水蒸氣及高溫空氣導入於有形燃料之熱分解區域及熱分解氣體之改質區域。高溫空氣係與熱分解氣體進行發熱反應，而高溫水蒸氣係與熱分解氣體中之碳化合物進行吸熱反應。藉由將適當比率之高溫空氣及高溫水蒸氣導入於熱分解區域及改質區域，熱分解氣體與高溫空氣及高溫水蒸氣之間的反應將可圓滑進行，且藉由高溫空氣及高溫水蒸氣之相乘效果，可生成比較良質之高溫燃料氣體。
简体摘要：本发明提供一种能将气化炉或热分解炉之热分解气体改质为比较良质之燃料气体的有形燃料之气化设备及气化方法。本发明之气化设备1具备借由有形燃料之热分解而能生成热分解气体的热分解气化炉2，且具备加热设备10及供给设备MG。加热设备系将水或低温水蒸气与低温空气加热为700℃以上之高温水蒸气及高温空气，而供给设备系将高温水蒸气及高温空气导入于有形燃料之热分解区域及热分解气体之改质区域。高温空气系与热分解气体进行发热反应，而高温水蒸气系与热分解气体中之碳化合物进行吸热反应。借由将适当比率之高温空气及高温水蒸气导入于热分解区域及改质区域，热分解气体与高温空气及高温水蒸气之间的反应将可圆滑进行，且借由高温空气及高温水蒸气之相乘效果，可生成比较良质之高温燃料气体。

73. 发明专利

TW200427874A 放電表面處理用電極及其評估方法以及放電表面處理方法 ELECTRODE FOR DISCHARGE SURFACE TREATMENT, EVALUATION METHOD THEREOF AND METHOD FOR DISCHARGE SURFACE TREATMENT 失效
简体标题：放电表面处理用电极及其评估方法以及放电表面处理方法 ELECTRODE FOR DISCHARGE SURFACE TREATMENT, EVALUATION METHOD THEREOF AND METHOD FOR DISCHARGE SURFACE TREATMENT
公开(公告)号：TW200427874A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW093104051
申请日：2004-02-19
申请人：三菱電機股份有限公司 MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA , 石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：後藤昭弘 GOTO, AKIHIRO , 秋吉雅夫 AKIYOSHI, MASAO , 松尾勝弘 MATSUO, KATSUHIRO , 落合宏行 OCHIAI, HIROYUKI , 渡邊光敏 WATANABE, MITSUTOSHI , 古川崇 FURUKAWA, TAKASHI
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C22C1/0433 , B22F5/00 , B22F2003/145 , B22F2009/041 , B22F2998/10 , C23C26/00 , B22F9/04 , B22F1/0059 , B22F3/14
摘要：本發明係關於一種使用於放電表面處理之放電表面處理用電極及其評估方法，該放電表面處理係將壓縮成形金屬、金屬化合物或陶瓷的粉末之壓粉體，或加熱處理該壓粉體之壓粉體做為電極(12)，在加工液(15)中或氣體中，使於電極(12)與被加工物(11)之間產生放電，並藉由該放電能量，在被加工物(11)表面形成由電極材料或電極材料因放電能量而反應之物質所形成的覆膜(14)，其特徵為：係根據利用單發放電將電極材料堆積在前述被加工物(11)表面的堆積量，來判斷是否可進行藉由前述電極(12)所形成之覆膜(14)的堆積。
简体摘要：本发明系关于一种使用于放电表面处理之放电表面处理用电极及其评估方法，该放电表面处理系将压缩成形金属、金属化合物或陶瓷的粉末之压粉体，或加热处理该压粉体之压粉体做为电极(12)，在加工液(15)中或气体中，使于电极(12)与被加工物(11)之间产生放电，并借由该放电能量，在被加工物(11)表面形成由电极材料或电极材料因放电能量而反应之物质所形成的覆膜(14)，其特征为：系根据利用单发放电将电极材料堆积在前述被加工物(11)表面的堆积量，来判断是否可进行借由前述电极(12)所形成之覆膜(14)的堆积。

74. 发明专利

TW200420364A 形狀檢測裝置 SHAPE DETECTING APPARATUS 失效
简体标题：形状检测设备 SHAPE DETECTING APPARATUS
公开(公告)号：TW200420364A
公开(公告)日：2004-10-16
申请号：TW092130616
申请日：2003-11-03
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：井出賢一 IDE, KENICHI
IPC分类号： B21B
CPC分类号： G01L5/10 , B21B38/02 , B21B38/06 , B21C51/00
摘要：本發明提供一種形狀檢測裝置(10)，係用以控制滾軋材(1)之張力者，其特徵為具備：固定於兩端安裝部之1對固定構件(12)；兩端支持於該固定構件且朝寬度方向延伸之支持框架(14)；以及朝寬度方向與該支持框架(14)相鄰接而以可裝卸方式固定之複數個形狀檢測單元(20)。其中，該形狀檢測單元(20)係具有：與滾軋材相接觸之圓筒形之分割滾軸(22)；固定於支持框架之固定部(24)；一端部為以可旋轉方式支持分割滾軸，另一端部則固定於固定部之臂構件(26)；以及用以檢測出作用在該臂構件之旋轉力矩之負載檢測器(28)。
简体摘要：本发明提供一种形状检测设备(10)，系用以控制滚轧材(1)之张力者，其特征为具备：固定于两端安装部之1对固定构件(12)；两端支持于该固定构件且朝宽度方向延伸之支持框架(14)；以及朝宽度方向与该支持框架(14)相邻接而以可装卸方式固定之复数个形状检测单元(20)。其中，该形状检测单元(20)系具有：与滚轧材相接触之圆筒形之分割滚轴(22)；固定于支持框架之固定部(24)；一端部为以可旋转方式支持分割滚轴，另一端部则固定于固定部之臂构件(26)；以及用以检测出作用在该臂构件之旋转力矩之负载检测器(28)。

75. 发明专利

TW200405834A 雙輥鑄造機及其運轉方法失效
简体标题：双辊铸造机及其运转方法
公开(公告)号：TW200405834A
公开(公告)日：2004-04-16
申请号：TW092120551
申请日：2003-07-28
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：中山勇 , 中山勝巳 , 長田史郎
IPC分类号： B22D
CPC分类号： B22D11/0622 , B22D11/0697
摘要：提供一種可削減氧化防止用惰性氣體供給量的雙輥鑄造機。其具備有：在冷卻輥(1)至夾送輥(4)間包圍帶鋼(3)的包圍箱體(5)；被配置在包圍箱體(5)內部並且其前端部是可接近或離開帶鋼(3)一面的擺動壁(13)；軸支在擺動壁(13)前端的密封輥(14)；被配置在包圍箱體(5)內部並且其前端部是可接近或離開帶鋼(3)另一面的擺動壁(15)；軸支在擺動壁(15)前端的密封輥(16)；介於擺動壁(13)、(15)的周緣部和包圍箱體(5)內側面間的密封構件(54)；及對包圍箱體(5)內部輸送惰性氣體(G)的管路(74)、(75)、(76)，使各擺動壁(13)、(15)轉動成密封輥(14)、(16)是位於最接近帶鋼(3)的位置，以抑制惰性氣體(G)從空間(72)往空間(71)的流動。
简体摘要：提供一种可削减氧化防止用惰性气体供给量的双辊铸造机。其具备有：在冷却辊(1)至夹送辊(4)间包围带钢(3)的包围箱体(5)；被配置在包围箱体(5)内部并且其前端部是可接近或离开带钢(3)一面的摆动壁(13)；轴支在摆动壁(13)前端的密封辊(14)；被配置在包围箱体(5)内部并且其前端部是可接近或离开带钢(3)另一面的摆动壁(15)；轴支在摆动壁(15)前端的密封辊(16)；介于摆动壁(13)、(15)的周缘部和包围箱体(5)内侧面间的密封构件(54)；及对包围箱体(5)内部输送惰性气体(G)的管路(74)、(75)、(76)，使各摆动壁(13)、(15)转动成密封辊(14)、(16)是位于最接近带钢(3)的位置，以抑制惰性气体(G)从空间(72)往空间(71)的流动。

76. 发明专利

TW200403390A 發電裝置及方法 DEVICE AND FOR GENERATING POWER 失效
简体标题：发电设备及方法 DEVICE AND FOR GENERATING POWER
公开(公告)号：TW200403390A
公开(公告)日：2004-03-01
申请号：TW091137620
申请日：2002-12-27
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：內田久美子 KUMIKO UCHIDA , 中井宏 HIROSHI NAKAI
IPC分类号： F03G
摘要：本發明提供一種發電裝置及方法，在無商用電源的情況下可確保電功率，並提昇發電裝置之攜帶性。該種發電裝置，係於高溫熱源部A與低溫熱源部B之間設有熱電轉換機構1，並具有將熱電轉換機構1所釋出的電功率輸出到外部的外部輸出機構8；其中，高溫熱源部A，係具有將太陽光X予以聚光的聚光物6。
简体摘要：本发明提供一种发电设备及方法，在无商用电源的情况下可确保电功率，并提升发电设备之携带性。该种发电设备，系于高温热源部A与低温热源部B之间设有热电转换机构1，并具有将热电转换机构1所发佈的电功率输出到外部的外部输出机构8；其中，高温热源部A，系具有将太阳光X予以聚光的聚光物6。

77. 发明专利

TW200807506A 微結晶矽膜形成方法及太陽電池失效
简体标题：微结晶硅膜形成方法及太阳电池
公开(公告)号：TW200807506A
公开(公告)日：2008-02-01
申请号：TW096111153
申请日：2007-03-29
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：上田仁 UEDA, MASASHI , 高木朋子 TAKAGI, TOMOKO , 伊藤憲和 ITOU, NORIKAZU
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/24 , C23C16/509 , H01L31/1804 , H01L31/1824 , Y02E10/545 , Y02E10/547 , Y02P70/521
摘要：本發明之課題係為提供一種可以用低流量的氫氣形成微結晶矽之PCVD法,並下供一種更廉價的微結晶矽太陽電池。本發明之解決手段的特徵是,在利用PCVD法形成微結晶矽的方法中,於真空室內配置配列在一平面內之複數個兩端部分別連接高頻電源與接地端的天線作為陣列天線構造,並將基板配置成和該陣列天線相對向,該基板的溫度設在150-250℃,導入含有氫氣和矽烷氣的混合氣體,對前述複數個天線供給高頻電力以使電漿生成,將氫氣/矽烷氣流量比調節在1-10的範圍,在前述基板上形成微結晶矽膜,其起因於結晶矽之520cm^-1附近的拉曼散射强度Ic和起因於非晶質矽之480cm^-1附近的拉曼散射强度Ia之比値Ic/Ia為2-6。
简体摘要：本发明之课题系为提供一种可以用低流量的氢气形成微结晶硅之PCVD法,并下供一种更廉价的微结晶硅太阳电池。本发明之解决手段的特征是,在利用PCVD法形成微结晶硅的方法中,于真空室内配置配列在一平面内之复数个两端部分别连接高频电源与接地端的天线作为数组天线构造,并将基板配置成和该数组天线相对向,该基板的温度设在150-250℃,导入含有氢气和硅烷气的混合气体,对前述复数个天线供给高频电力以使等离子生成,将氢气/硅烷气流量比调节在1-10的范围,在前述基板上形成微结晶硅膜,其起因于结晶硅之520cm^-1附近的拉曼散射强度Ic和起因于非晶质硅之480cm^-1附近的拉曼散射强度Ia之比値Ic/Ia为2-6。

78. 发明专利

TW200800773A 浮起裝置及搬送裝置审中-公开
简体标题：浮起设备及搬送设备
公开(公告)号：TW200800773A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW095141922
申请日：2006-11-13
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：村山晉 MURAYAMA, SUSUMU , 都國煥 TO, KUNIAKI , 田中刈入 TANAKA, KAI , 濱田幸三 HAMADA, KOUZOU , 平田賢輔 HIRATA, KENSUKE
IPC分类号： B65G
摘要：本發明提供一種利用流體使具有平面狀下面的對象物W浮起用的浮起裝置及利用上述浮起裝置的搬送裝置。浮起裝置,具備有:具平面狀上面的基部7;及形成在上述上面具有開口部11的上述基部7,被配置成可產生空間A使上述流體以均勻壓力流動在上述開口部11所包圍的上述上面的區域和上述對象物的上述下面之間的上述流體噴出用的噴出孔。
简体摘要：本发明提供一种利用流体使具有平面状下面的对象物W浮起用的浮起设备及利用上述浮起设备的搬送设备。浮起设备,具备有:具平面状上面的基部7;及形成在上述上面具有开口部11的上述基部7,被配置成可产生空间A使上述流体以均匀压力流动在上述开口部11所包围的上述上面的区域和上述对象物的上述下面之间的上述流体喷出用的喷出孔。

79. 发明专利

TWI290076B 熔接部可視化方法及裝置 METHOD AND DEVICE FOR ENABLING OBSERVATION OF WELD 失效
简体标题：熔接部可视化方法及设备 METHOD AND DEVICE FOR ENABLING OBSERVATION OF WELD
公开(公告)号：TWI290076B
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：TW094124460
申请日：2005-07-20
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：八木武人 YAGI, TAKEHITO , 島輝行 SHIMA, TERUYUKI
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K31/02 , B23K11/02
摘要：本發明係提供一種熔接部可視化方法及裝置，其目的在於即使為具有板厚差之被熔接材彼此間的對接熔接部，亦可進行觀察，而不受影子的影響。為了達成上述目的，本發明係在將具有板厚差之被熔接材10a、10b彼此對接配置之會接部11正上方的垂直面內，將用以拍攝熔接部12的CCD相機13，從觀測對象法線14傾斜所需角度而設置，且將閃光燈15設置在會接部11正上方的垂直面內，使其從與將上述觀測對象法線14作為對稱軸之CCD相機13對稱的角度，偏離± 10度至20度，藉由從配置於會接部11正上方的閃光燈15照射照明光，來解除在被熔接材10a、10b彼此間之對接溶接部12產生影子的虞慮，使從閃光燈15照射至熔接部12之高亮度照明光的正反射成分不會強烈地入射至CCD相機13，而獲得適合於影像處理的亮度之熔接部12的影像。
简体摘要：本发明系提供一种熔接部可视化方法及设备，其目的在于即使为具有板厚差之被熔接材彼此间的对接熔接部，亦可进行观察，而不受影子的影响。为了达成上述目的，本发明系在将具有板厚差之被熔接材10a、10b彼此对接配置之会接部11正上方的垂直面内，将用以拍摄熔接部12的CCD相机13，从观测对象法线14倾斜所需角度而设置，且将闪光灯15设置在会接部11正上方的垂直面内，使其从与将上述观测对象法线14作为对称轴之CCD相机13对称的角度，偏离± 10度至20度，借由从配置于会接部11正上方的闪光灯15照射照明光，来解除在被熔接材10a、10b彼此间之对接溶接部12产生影子的虞虑，使从闪光灯15照射至熔接部12之高亮度照明光的正反射成分不会强烈地入射至CCD相机13，而获得适合于影像处理的亮度之熔接部12的影像。

80. 发明专利

TW200733205A 雷射退火方法及雷射退火裝置 LASER ANNEALLING METHOD AND LASER ANNEALLING DEVICE 审中-公开
简体标题：激光退火方法及激光退火设备 LASER ANNEALLING METHOD AND LASER ANNEALLING DEVICE
公开(公告)号：TW200733205A
公开(公告)日：2007-09-01
申请号：TW095143338
申请日：2006-11-23
申请人：石川島播磨重工業股份有限公司 ISHIKAWAJIMA-HARIMA HEAVY INDUSTRIES CO., LTD.
发明人：西田健一郎 NISHIDA, KENICHIRO , 川上隆介 KAWAKAMI, RYUSUKE , 河口紀仁 KAWAGUCHI, NORIHITO , 正木深雪 MASAKI, MIYUKI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B23K26/0738 , B23K26/0608 , B23K26/067 , B23K26/0732 , H01L21/02532 , H01L21/02678 , H01L21/02691 , H01L21/268 , H01L27/1285
摘要：本發明提供一種雷射退火方法及雷射退火裝置,係使照射在非晶質半導體膜(非晶矽等)之矩形狀光束之短軸方向的能量分佈均勻化。藉由圓柱透鏡陣列26或導波路36、聚光光學系統28、44、或藉由包含繞射光學元件之光學系統,即可使矩形狀光束之短軸方向的能量分佈均勻化。依據本發明,由於照射在非晶質半導體膜之有效能量範圍亦變廣,隨此亦提高基板3之搬運速度,所以可提高雷射退火之處理能力。
简体摘要：本发明提供一种激光退火方法及激光退火设备,系使照射在非晶质半导体膜(非晶硅等)之矩形状光束之短轴方向的能量分布均匀化。借由圆柱透镜数组26或导波路36、聚光光学系统28、44、或借由包含绕射光学组件之光学系统,即可使矩形状光束之短轴方向的能量分布均匀化。依据本发明,由于照射在非晶质半导体膜之有性能量范围亦变广,随此亦提高基板3之搬运速度,所以可提高激光退火之处理能力。

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