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71. 发明申请

WO00059013A1 EXPOSURE APPARATUS, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PHOTOMASK 审中-公开
标题翻译：曝光装置，半导体器件和光电二极管
公开(公告)号：WO00059013A1
公开(公告)日：2000-10-05
申请号：PCT/JP2000/001868
申请日：2000-03-27
IPC分类号： H01L21/027 , C03B20/00 , C03C3/06 , G03F1/60 , G03F7/20 , G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/70241 , G03F7/70958
摘要： An exposure apparatus including synthesis quartz glass for optical members, in which at least one of optical members constituting an exposure light source system, an illuminating optical system, a photomask, and a projection optical system has an absorption coefficient of 0.70 cm or less at a wavelength of 157 nm and an infrared absorption peak at about 3640 cm attributed to SiOH stretching vibration.
摘要翻译：一种包括用于光学部件的合成石英玻璃的曝光装置，其中构成曝光光源系统的光学部件，照明光学系统，光掩模和投影光学系统中的至少一个具有0.70cm -1的吸收系数，或者较小的波长为157nm，红外吸收峰为3640cm -1，这归因于SiOH伸缩振动。

72. 发明申请

WO9967683A3 OPTICAL SYSTEM, ESPECIALLY A PROJECTION LIGHT FACILITY FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是微型摄影术的投影曝光系统
公开(公告)号：WO9967683A3
公开(公告)日：2000-04-20
申请号：PCT/EP9904246
申请日：1999-06-18
申请人： ZEISS CARL , ZEISS STIFTUNG , GABER ERWIN , WAGNER CHRISTIAN , HOLDERER HUBERT , GERHARD MICHAEL , MERZ ERICH , BECKER JOCHEN , SCHEIBERLICH ARIE CORMELIS
发明人： GABER ERWIN , WAGNER CHRISTIAN , HOLDERER HUBERT , GERHARD MICHAEL , MERZ ERICH , BECKER JOCHEN , SCHEIBERLICH ARIE CORMELIS
IPC分类号： G03F7/22 , G02B7/02 , G02B13/14 , G02B27/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , G02B26/06
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B7/028 , G02B27/0068 , G03F7/70241 , G03F7/70358 , G03F7/70783
摘要： The invention relates to an optical system, especially a projection light facility for microlithography, especially with an image field shaped as a slit or with non rotational symmetry illumination, comprising an optical element (1), especially a lens or a mirror, which is arranged in a mount (2) and actuators (3) which engage with the optical element (1) at least nearly perpendicular to the optical axis. The actuators (3) effect non rotational symmetric forces and/or moments deviating from the radial lines in the optical element (1) to generate deformations with substantially no changes in thickness. Image errors arising as a result of asymmetric heating of the optical system are compensated for by deformation of the optical element.
摘要翻译：的光学系统，特别是用于微光刻的投射曝光系统，特别是与狭缝状的图像场或非旋转对称的照明，光学元件（1），特别是透镜或反射镜，其在固定件（2）布置，和致动器（3 ），其至少近似垂直于光轴地接合在光学元件（1）上。致动器（3）引起非旋转对称并偏离光学元件（1）上的径向力和/或力矩，从而基本上没有产生弯曲的厚度变化。由光学元件的不对称加热引起的图像误差通过光学元件的弯曲进行补偿。

73. 发明申请

WO2019001639A1 LITHOGRAPHIEBELICHTUNGSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2019001639A1
公开(公告)日：2019-01-03
申请号：PCT/DE2018/100590
申请日：2018-06-27
申请人： CARL ZEISS JENA GMBH
发明人： SEMMLER, Ralph , DÖRING, Dirk , HUSEMANN, Christoph , JAHN, Dirk , KAISER, Andreas
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/22 , G02B27/00
CPC分类号： G02B13/22 , G02B27/0075 , G03F7/70241 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/70308
摘要： Die Erfindung betrifft eine Lithographiebelichtungsvorrichtung mit einer Belichtungseinheit (5) umfassend eine Bildgebermatrix (2), ein telezentrisches Objektiv (1) sowie einen Werktisch (4) mit einer Auflagefläche (4.1) zur relativen Anordnung und zum relativen Verfahren eines Substrats mit einer Fotolackschicht (3) zum Objektiv (1) in einer Verfahrrichtung (R), wobei die Bildgebermatrix (2) in eine Bildebene (BB) abgebildet wird, die zu einer durch die Auflagefläche (4.1) definierten Ebene (E) verkippt ist oder eine tatsächliche Länge des Schärfentiefebereichs (T) wenigstens 1,5 - fach größer ist, als die sich aus dem bildseitigen Öffnungswinkel (CCB) ergebende rechnerische Länge (I R ).

74. 发明申请

WO2016203020A1 OPTISCHES SYSTEM 审中-公开
标题翻译：光学系统
公开(公告)号：WO2016203020A1
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：PCT/EP2016/064086
申请日：2016-06-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FREIMANN, Rolf , BAIER, Jürgen , FRITZSCHE, Steffen
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/1828 , G03F7/70241 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70316 , G03F7/70833 , G03F2007/2067
摘要： Offenbartwird ein optisches System (200), aufweisendeinen ersten Optik-Regelkreis (233a), welcher dazu eingerichtet ist, eine Position und/oder Ausrichtung eines ersten optischen Elements (124) relativ zu einem ersten Modul-Sensorrahmen (208a) zu regeln, undeinen ersten Modul-Regelkreis (216a), welcher dazu eingerichtet, eine Position und/oder Ausrichtung des ersten Modul-Sensorrahmens (208a) relativ zu einem Basis-Sensorrahmen (204) zu regeln, und/odereinen zweiten Optik-Regelkreis (233b), welcher dazu eingerichtet ist, eine Position und/oder Ausrichtung eines zweitenoptischen Elements (126) relativ zu einem zweiten Modul-Sensorrahmen (208b) zu regeln, undeinen zweiten Modul-Regelkreis (216b), welcher dazu eingerichtet, eine Position und/oder Ausrichtung des zweiten Modul-Sensorrahmens (208b) relativ zu dem Basis- Sensorrahmen (204) zu regeln.
摘要翻译：本发明公开了一种光学系统（200）havinga第一光学锁相环（233A），其适于调节的第一光学元件（124）相对于第一模块传感器帧（208A）的位置和/或定向，和第一模块锁相环（216A），其适于接收所述第一模块传感器帧（208A），以调节相对于底座传感器帧（204），和/或第二光控制电路（233B），其是到的位置和/或取向被设置，第二光学元件（126）的位置和/或取向，以调节相对于其适于接收所述第二模块的位置和/或取向的第二模块传感器帧（208B），和第二模块控制电路（216B） -Sensorrahmens（208B），以调节相对于所述基部传感器帧（204）。

75. 发明申请

WO2016066076A1 曝光装置的调整装置及调整方法审中-公开
公开(公告)号：WO2016066076A1
公开(公告)日：2016-05-06
申请号：PCT/CN2015/092900
申请日：2015-10-27
申请人：上海微电子装备有限公司
发明人：孙晶露
IPC分类号： G03F7/20 , G02B15/00
CPC分类号： G03F7/20 , G02B13/0015 , G02B13/18 , G02B15/00 , G02B15/14 , G02B17/08 , G03F7/70241 , G03F7/70258
摘要：提供了一种调整装置，为入射光面（341，381，171）与出射光面（312，352，132）为一对平行平面的光学系统，且置于一曝光装置中，调整装置（3）包括至少一个楔形透镜（34，38，17，13）和多个光学透镜（31，32，33，35，36，37，14，15，16），用于通过调整至少一对相邻透镜的相对位置来调整曝光装置对应视场的焦面、倍率以及位置中的至少一个。还提供了一种与调整装置相对应的调整方法，用于实现曝光装置对应视场的焦面、倍率和位置调整。

76. 发明申请

WO2007131161A2 OPTICAL LENS SYSTEM 审中-公开
标题翻译：光学透镜系统
公开(公告)号：WO2007131161A2
公开(公告)日：2007-11-15
申请号：PCT/US2007068227
申请日：2007-05-04
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SHAFER DAVID , DODOC AURELIAN , FELDMANN HEIKO , ZELLNER JOHANNES , ULRICH WILHELM , WALTER HOLGER , LOERING ULRICH , KRAEHMER DANIEL , GUERTER GERHARD
发明人： SHAFER DAVID , DODOC AURELIAN , FELDMANN HEIKO , ZELLNER JOHANNES , ULRICH WILHELM , WALTER HOLGER , LOERING ULRICH , KRAEHMER DANIEL , GUERTER GERHARD
CPC分类号： G02B13/143 , G02B13/26 , G03F7/70241
摘要： In general, in one aspect, the invention features a system that includes a mercury light source configured to emit radiation at multiple mercury emission lines, a projection objective positioned to receive radiation emitted by the mercury light source, and a stage configured to position a wafer relative to the projection objective. During operation, the projection objective directs radiation from the light source to the wafer, where the radiation at the wafer includes energy from more than one of the emission lines. Optical lens systems for use in the projection objective are disclosed.
摘要翻译：通常，在一个方面，本发明的特征在于一种系统，其包括配置成在多个汞发射线处发射辐射的水银光源，被设置为接收由水银光源发射的辐射的投影物镜，以及被配置为定位晶片相对于投影物镜。在操作期间，投影物镜将来自光源的辐射引导到晶片，其中晶片处的辐射包括来自多于一个发射线的能量。公开了用于投影物镜的光学透镜系统。

77. 发明申请

WO2007076094A2 SUBMERSIVE DOUBLET FOR HIGH NUMERICAL APERTURE OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：高数值光学系统的主要双重优势
公开(公告)号：WO2007076094A2
公开(公告)日：2007-07-05
申请号：PCT/US2006/049190
申请日：2006-12-22
申请人： CORNING INCORPORATED , WEBB, James, E.
发明人： WEBB, James, E.
IPC分类号： G02B9/00
CPC分类号： G03F7/70341 , G02B1/02 , G02B1/06 , G02B9/04 , G02B13/143 , G02B21/33 , G03F7/70241 , G03F7/70958 , G03F7/70983
摘要： The invention features a doublet at one end of a high numerical aperture imaging system. The doublet includes two members coupled together by a fluid medium. The first member is arranged for receiving converging rays within a region of medium power density, and the second member further converges the rays through a region of higher power density. The second member can be made to withstand the higher power density by being made of a more durable material or in a form that is easily replaceable.
摘要翻译：本发明在高数值孔径成像系统的一端具有双峰。双层包括通过流体介质连接在一起的两个构件。第一构件被布置成在中等功率密度的区域内接收会聚射线，并且第二构件进一步使光线会聚在较高功率密度的区域。第二构件可以通过由更耐用的材料制成或以易于替换的形式来承受较高的功率密度。

78. 发明申请

WO2007071565A1 PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的投影目标
公开(公告)号：WO2007071565A1
公开(公告)日：2007-06-28
申请号：PCT/EP2006/069406
申请日：2006-12-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , FELDMANN, Heiko
发明人： BEDER, Susanne , KRÄHMER, Daniel , FELDMANN, Heiko
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B13/14 , G02B13/143 , G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70275 , G03F7/70341 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： A projection objective (100) of a microlithographic projection exposure apparatus, serving to project an image of a mask that can be set in position in an object plane (OP) onto a light-sensitive coating layer that can be set in position in an image plane (IP), wherein the projection objective is designed to operate in an immersion mode, produces at least one intermediate image (IMI) and comprises an optical subsystem (130) on the image-plane side which projects said intermediate image (IMI) into the image plane with an image-plane-side projection ratio β i , wherein said image-plane-side projection ration β i ,has an absolute value of at least 0.3.
摘要翻译：一种微光刻投影曝光装置的投影物镜（100），用于将可设置在物平面（OP）中的位置的掩模的图像投影到可设置在图像中的位置的感光涂层上平面（IP），其中所述投影物镜被设计为以浸没模式操作，产生至少一个中间图像（IMI），并且包括将所述中间图像（IMI）投影到所述图像平面侧上的光学子系统（130）具有图像平面侧投影比率β像素的图像平面，其中所述图像平面侧投影比例ßN i具有至少0.3的绝对值。

79. 发明申请

WO2005001543A1 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：投影光学系统，曝光系统和设备生产方法
公开(公告)号：WO2005001543A1
公开(公告)日：2005-01-06
申请号：PCT/JP2004/008732
申请日：2004-06-22
申请人：株式会社ニコン , 大村泰弘
发明人：大村泰弘
IPC分类号： G02B13/24
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B9/64 , G02B13/24
摘要：　十分に大きな像側開口数および十分に広い実効結像領域を確保しつつ、諸収差が良好に補正された小型で高解像の投影光学系。正屈折力の第１レンズ群Ｇ１と、負屈折力の第２レンズ群Ｇ２と、正屈折力の第３レンズ群Ｇ３と、負屈折力の第４レンズ群Ｇ４と、正屈折力の第５レンズ群Ｇ５と、負屈折力の第６レンズ群Ｇ６とを備えている。各レンズ群の間には第１リレー系Ｒ１２～第５リレー系Ｒ５６が配置され、各リレー系は少なくとも１つの非球面形状の光学面を含む。
摘要翻译：一种小型，高分辨率的投影光学系统，其确保足够大的图像侧数值孔径和足够大的有效成像区域，其具有有利地校正的各种像差，并且包括正折射率第一透镜组（G1），负正折射率第二透镜组（G2），正折射光焦度第三透镜组（G3），负折射光焦度第四透镜组（G4），正折射光焦度第五透镜组（G5）和负折射力第六透镜组（G6）。通过第五中继系统（R56）的第一继电器系统（R12）分别设置在相应的透镜组之间，每个中继系统包括至少一个非球面光学平面。

80. 发明申请

WO2004107048A2 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2004107048A2
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/EP2004/005816
申请日：2004-05-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , SCHUSTER, Karl, Heinz , MALLMANN, Jörg , ULRICH, Wilhelm , ROSTALKSI, Hans-Jürgen
发明人： DODOC, Aurelian , SCHUSTER, Karl, Heinz , MALLMANN, Jörg , ULRICH, Wilhelm , ROSTALKSI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/7015 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70833 , G03F7/70916 , G03F7/70975 , G03F7/70983
摘要： Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage enthält eine Beleuchtungseinrichtung (12) zur Erzeugung von Projektionslicht (13) und ein Projektionsobjektiv (20; 220; 320; 420; 520; 620; 720; 820; 920; 1020; 1120), mit dem ein in einer Objektebene (22) des Projektionsobjektivs anordenbares Retikel (24) auf eine in einer Bildebene (28) des Projektionsobjektivs anordenbare lichtempfindliche Schicht (26) abbildbar ist. Das Projektionsobjektiv ist für einen Immersionsbetrieb ausgelegt, bei dem eine bildseitig letzte Linse (L5; L205; L605; L705; L805; L905; L1005; L1105) des Projektionsobjektivs in eine Immersionsflüssigkeit (34; 334a; 434a; 534a) eintaucht. Ein für das Projektionslicht (13) durchlässiges Abschlusselement (44; 244; 444; 544; 644; 744; 844; 944; 1044; 1144) ist zwischen der bildseitig letzten Linse und der lichtempfindlichen Schicht derart befestigt.
摘要翻译：的微光刻投射曝光设备包括用于产生投射光（13）和投射物镜的照明装置（12）（20; 220; 320; 420; 520; 620; 720; 820; 920; 1020; 1120），与（在物平面 22），其可以在一个被布置光罩（24），投影透镜（在投射物镜的像平面28）可以布置光敏层（26）可以被成像。投影物镜设计用于浸没操作，其中的像侧最后透镜（L5，L205; L605，L705，L805; L905，L1005，L1105）中的浸没液体投影透镜（34; 334A; 434A; 534A）浸入。一种用于投影（13）透过的封闭元件的光（44; 244; 444; 544; 644; 744; 844; 944; 1044; 1144）被固定的像侧最后透镜和以这样的方式在光敏感层之间。

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