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71. 发明专利

JPS5320979B2 失效
公开(公告)号：JPS5320979B2
公开(公告)日：1978-06-29
申请号：JP8153574
申请日：1974-07-16
IPC分类号： A61K31/19 , A61P31/12 , C07C51/00 , C07C61/135 , C07C67/00

72. 发明专利

JPS5113760A 2*44EXOO ETANOBISHIKURO * 3*3*1 * NONANNO SEIZOHO 失效
公开(公告)号：JPS5113760A
公开(公告)日：1976-02-03
申请号：JP8494474
申请日：1974-07-24
申请人： KAO CORP
发明人： TAKAISHI NAOTAKE , INAMOTO YOSHIAKI , DOBASHI KYOSHI
IPC分类号： A61K31/045 , A61K31/015 , A61P31/12 , B01J23/00 , C07B61/00 , C07C1/00 , C07C1/20 , C07C13/605 , C07C61/135 , C07C67/00

73. 发明专利

JPS5111751A 44 HOMOISOTSUISUCHIRUKARUBINOORUNO SEIZOHO 失效
公开(公告)号：JPS5111751A
公开(公告)日：1976-01-30
申请号：JP8153474
申请日：1974-07-16
申请人： KAO CORP
发明人： INAMOTO YOSHIAKI , IKEDA HIROSHI , TAKAISHI NAOTAKE , DOBASHI KYOSHI
IPC分类号： A61K31/045 , A61P31/12 , C07C27/00 , C07C29/136 , C07C29/14 , C07C29/147 , C07C29/149 , C07C31/137 , C07C61/135 , C07C67/00

74. 发明专利

JP2019511574A 遷移金属アダマンタンカルボン酸塩及び酸化物ナノ複合材料の合成审中-公开
公开(公告)号：JP2019511574A
公开(公告)日：2019-04-25
申请号：JP2019500217
申请日：2017-03-07
申请人：サウジアラビアンオイルカンパニー , Saudi Arabian Oil Company , ダラムユニヴァーシティ , Durham University
发明人：ヴェアーブハドラッパ,マノハラグディヤー , グリーンウェル,ヒュークリストファー , アラベディ,ガサンセルマン , ホール,ジョンエイドリアン , ホワイティング ,アンドリュー
IPC分类号： B01J37/04 , B01J37/10 , C01G53/04 , C01G51/04 , C01G3/02 , B01J31/22 , B01J23/75 , B01J23/755 , B01J23/72 , C07C61/135 , C07C51/41
摘要：遷移金属アダマンタンカルボン酸塩の調製方法が提示される。本方法は、遷移金属水酸化物と少なくとも1つのカルボン酸部分を有するダイヤモンドイド化合物を混合して、反応混合物(ここで、Mは、遷移金属である)を形成することを含む。更に本方法は、該反応混合物を、ある反応温度で、ある反応時間水熱処理して、遷移金属アダマンタンカルボン酸塩を形成することを含む。

75. 发明专利

JP2015502329A ＲＵ／二座配位子錯体によるアルデヒドの選択的水素化有权
标题翻译：由RU /二齿配位体络合物的醛的选择性氢化
公开(公告)号：JP2015502329A
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：JP2014533837
申请日：2012-09-27
申请人：フイルメニツヒソシエテアノニムFirmenich Sa , フイルメニツヒソシエテアノニムFirmenich Sa
发明人：デュポーフィリップ , デュポーフィリップ , ボノーモルチア , ボノーモルチア , ケルモルヴァンローラン , ケルモルヴァンローラン
IPC分类号： C07C29/141 , B01J31/22 , B01J31/24 , C07C33/025 , C07C33/12 , C07C33/20 , C07C45/64 , C07C49/17 , C07C49/172 , C07C49/24 , C07C49/242 , C07C49/337 , C07C49/573 , C07C53/128 , C07C61/135 , C07C63/04 , C07C211/09 , C07C211/11 , C07C211/36 , C07C211/65 , C07D213/38 , C07F9/50 , C07F9/655 , C07F19/00
CPC分类号： C07C29/141 , B01J31/1805 , B01J31/181 , B01J31/2226 , B01J31/24 , B01J31/2409 , B01J2231/643 , B01J2531/0238 , B01J2531/821 , C07B41/02 , C07B2200/07 , C07C29/145 , C07C45/64 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/10 , C07C2601/16 , C07C2601/18 , C07C2602/42 , C07C33/12 , C07C49/17 , C07C49/172 , C07C49/573
摘要：本発明は、対応するアルコール又はジオール中に1つ又は2つのアルデヒド官能基を有するC5〜C20基質の、分子H2を用いる、水素下による還元方法であって、前記方法が、− N2P2O2配位圏を有するルテニウム錯体の形の少なくとも1種の触媒又はプレ触媒、その際、配位原子N2が第1の二座配位子によって提供され、配位原子P2が第2の二座配位子によって提供され且つ配位原子O2が2つの非直鎖状カルボキシレート配位子によって提供される;及び−任意に酸性の添加剤の存在下で実施されることを特徴とする、前記還元方法に関する。
摘要翻译：本发明，具有在相应的醇或二醇的一个或两个醛基的功能C5〜C 20底物，使用分子H 2，还原法该方法在氢气， - N2P2O2配位球至少一种催化剂或钌配合物具有，在当时的形式预催化剂，配位原子N2由第一双齿配体提供，配位原子P2是第二二齿配体提供与配位原子O 2由两个非线性羧酸根配体提供的;和 - 其特征在于，它是在一种酸性添加剂的存在，涉及到的还原方法任选地进行。

76. 发明专利

JP2013080109A Resist composition and method for forming resist pattern 有权
标题翻译：用于形成电阻图案的耐蚀组合物和方法
公开(公告)号：JP2013080109A
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：JP2011220101
申请日：2011-10-04
申请人： Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd , 東京応化工業株式会社
发明人： UTSUMI YOSHIYUKI , DAZAI NAOHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , C07C61/135 , C07C65/10 , C07C309/12 , C07C311/04 , C07C381/12 , G03F7/039 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition excellent in lithography characteristics and pattern shape and to provide a method for forming a resist pattern.SOLUTION: A resist composition includes: a base component (A) generating an acid by exposure in which a solubility of the base component in a developer is changed by an action of an acid; an acid generator component (C) generating an acid having a pKa of 0 or more by exposure (excluding the base component (A)); and an acid generator component (B) generating an acid by exposure (excluding the base component (A) and the acid generator component (C)), where the base component (A) contains a polymer (A1) having an anion moiety generating an acid by exposure on at least one terminal of the main chain.
摘要翻译：要解决的问题：提供光刻特性和图案形状优异的抗蚀剂组合物，并提供形成抗蚀剂图案的方法。抗蚀剂组合物包括：通过曝光产生酸的碱成分（A），其中碱性组分在显影剂中的溶解度通过酸的作用而改变; 通过曝光产生pKa为0以上的酸的酸发生剂成分（C）（不包括碱成分（A））。以及通过曝光产生酸的酸产生剂成分（B）（不包括基础成分（A）和酸产生剂成分（C）），其中，碱成分（A）含有具有阴离子部分的聚合物（A1）酸暴露于主链的至少一个末端。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

77. 发明专利

JP4725137B2 有权
公开(公告)号：JP4725137B2
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：JP2005066575
申请日：2005-03-10
IPC分类号： C07C51/04 , C07C51/14 , C07C51/58 , C07C61/135

78. 发明专利

JP2006282658A Method for producing carboxylic acid or carboxylic acid ester 有权
标题翻译：生产羧酸或羧酸酯的方法
公开(公告)号：JP2006282658A
公开(公告)日：2006-10-19
申请号：JP2006054346
申请日：2006-03-01
申请人： Mitsubishi Gas Chem Co Inc , 三菱瓦斯化学株式会社
发明人： KITAMURA MITSUHARU , KATO KINJI
IPC分类号： C07C51/47 , C07B61/00 , C07C51/14 , C07C51/487 , C07C61/135 , C07C67/38 , C07C67/56 , C07C67/60 , C07C69/24 , C07C69/753
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for industrially advantageously producing a purified carboxylic acid or carboxylic acid ester scarcely containing fluorine compounds.
SOLUTION: This method for producing the carboxylic acid or carboxylic acid ester comprises reacting an olefin with carbon monoxide and water or an alcohol in the presence of HF, so as to obtain a reaction product containing the carboxylic acid or carboxylic acid ester, and then heat-treating at least a part of the reaction product in the presence of an acid catalyst and an acid adsorbent.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：待解决的问题：提供一种工业上有利地生产几乎不含氟化合物的纯化羧酸或羧酸酯的方法。解决方案：该制备羧酸或羧酸酯的方法包括在HF存在下使烯烃与一氧化碳和水或醇反应，得到含有羧酸或羧酸酯的反应产物，然后在酸催化剂和酸吸附剂的存在下热处理至少一部分反应产物。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

79. 发明专利

JP2002284732A METHOD FOR PRODUCING DISPROPORTIONATED ROSIN 失效
公开(公告)号：JP2002284732A
公开(公告)日：2002-10-03
申请号：JP2001088995
申请日：2001-03-27
申请人： ARAKAWA CHEM IND
发明人： KANEDA KIYOOMI , ITOI YASUSHI
IPC分类号： C07C51/36 , C07B61/00 , C07C51/377 , C07C61/135 , C07C61/28
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a disproportionated rosin comprising converting all of the abietane skeletons to dehydroabietic acid and tetrahydroabietic acid. SOLUTION: This method for producing a disproportionated rosin is characterized by comprising disproportionating a rosin using a hydroxyapatite-based catalyst.

80. 发明专利

JP2513006B2 失效
公开(公告)号：JP2513006B2
公开(公告)日：1996-07-03
申请号：JP30062788
申请日：1988-11-30
申请人： JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO LTD
发明人： OOTA TOSHUKI , SHIGEMOTO TAKEO , MATSUMURA YOSHIO
IPC分类号： C07D493/08 , C07C61/135 , C07C69/753 , C08G63/12 , C08G63/20 , C08G73/10

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