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81. 发明申请

WO00073203A1 PATTERNED CARBON NANOTUBE FILMS 审中-公开
标题翻译：图案碳纳米管片
公开(公告)号：WO00073203A1
公开(公告)日：2000-12-07
申请号：PCT/AU2000/000549
申请日：2000-05-25
IPC分类号： C01B31/02 , D01F9/127 , G03F7/40 , D01F9/12
CPC分类号： G03F7/40 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B2202/08 , D01F9/127 , H01J2201/30469 , Y10S977/843 , Y10S977/887 , Y10S977/896
摘要： This invention relates to a process for preparing a patterned layer of aligned carbon nanotubes on a substrate including: applying a photoresist layer to at least a portion of a surface of a substrate capable of supporting nanotube growth, masking a region of said photoresist layer to provide a masked portion and an unmasked portion, subjecting said unmasked portion to electromagnetic radiation of a wavelength and intensity sufficient to transform the unmasked portion while leaving the masked portion substantially untransformed, said transformed portion exhibiting solubility characteristics different to said untransformed portion, developing said photoresist layer by contacting with a solvent for a time and under conditions sufficient to dissolve one of said transformed and untransformed portions of the photoresist, leaving the other portion attached to said substrate, synthesising a layer of aligned carbon nanotubes on regions of said substrate to which said remaining photoresist portion is not attached to provide a patterned layer of aligned carbon nanotubes on said substrate.
摘要翻译：本发明涉及一种在衬底上制备排列碳纳米管的图案化层的方法，包括：将光致抗蚀剂层施加到能够支撑纳米管生长的衬底的表面的至少一部分上，掩蔽所述光致抗蚀剂层的区域以提供掩模部分和未掩模部分，对所述未掩模部分进行电磁辐射，所述电磁辐射具有足够的波长和强度，以改变未掩蔽部分，同时使掩蔽部分基本上未变形，所述转变部分显示出与所述未变形部分不同的溶解度特性，使所述光致抗蚀剂层显影通过与溶剂接触一段时间并在足以溶解光致抗蚀剂的所述转变和未转化部分之一的条件下，将另一部分连接到所述基底上，在所述基底的区域上合成对准的碳纳米管层，所述剩余部分光刻胶口离子不连接以在所述衬底上提供对准的碳纳米管的图案化层。

82. 发明申请

WO00000868A1 SURFACES WITH RELEASE AGENT 审中-公开
标题翻译：表面与释放代理
公开(公告)号：WO00000868A1
公开(公告)日：2000-01-06
申请号：PCT/US1999/014859
申请日：1999-06-30
IPC分类号： B29C33/60 , B29C33/62 , B29C43/02 , B29C43/22 , B29C59/02 , G03F7/00 , G03F9/00
CPC分类号： B29C33/60 , B29C33/62 , B29C43/003 , B29C43/021 , B29C43/222 , B29C43/52 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C2043/023 , B29C2043/025 , B29C2043/3211 , B29C2043/568 , B29C2059/023 , G03F7/0002 , G03F9/7053 , Y10S977/887
摘要： Thin coatings (less than and approaching monomolecular coatings) of persistent release materials comprising compounds of the formula: RELEASE-M(X)>n-1 n-m-1 m' n-1
摘要翻译：持续释放材料的薄涂层（小于和接近单分子涂层），其包含下式化合物：RELEASE-M（X）> n-1 < - RELEASE-M（X）> nm-1 -M（OR）> n-1 < - ，其中RELEASE是长度为4至20个原子的分子链，M是金属原子，半导体原子或半金属原子; X是卤素或氰基，特别是Cl，F或Br; Q是氢或烷基; R是氢，烷基或苯基，优选氢或1至4个碳原子的烷基; 和; 并且nm 1至少为1，特别是对于在涂布在基材上的薄膜中产生超细（次25nm）图案的平版印刷方法和装置，其中具有至少一个突出特征的模具被压入携带的薄膜中在基板上。

83. 发明申请

WO2012085164A1 PROCEDE DE LITHOGRAPHIE PAR NANO IMPRESSION 审中-公开
标题翻译： NANOIMPRINT LITHOGRAPHY方法
公开(公告)号：WO2012085164A1
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：PCT/EP2011/073705
申请日：2011-12-21
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES , PAULIAC, Sébastien
发明人： PAULIAC, Sébastien
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： H01L21/0337 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , Y10S977/887 , Y10T428/24612
摘要： Procédé de lithographie par impression nanométrique comportant une étape de pressage d'un moule (130, 50) dans une résine photosensible (120) pour y former au moins un motif d'impression (127) délimité par une zone emboutie (129) et une zone adjacente (128), ladite zone adjacente (128) étant moins ou non emboutie et présentant une épaisseur supérieure à celle de la zone emboutie (129), une étape d'exposition à une dose d'insolation, caractérisé en ce que les épaisseurs respectives desdites deux zones sont définies de sorte que lesdites deux zones présentent un différentiel d'absorption de la dose d'insolation et en ce que la dose d'insolation apportée par l'étape d'exposition est déterminée de sorte à être suffisamment importante pour activer la résine au niveau de celle parmi lesdites deux zones qui présente la plus forte absorption et de sorte à ne pas être suffisamment importante pour activer l'autre desdites deux zones.
摘要翻译：本发明涉及一种纳米压印光刻方法，包括：在感光树脂（120）中压制模具（130,50）以形成由冲压区域（129）限定的至少一个压印图案（127）和相邻区域（128），所述相邻区域（128）根本不被冲压或不被冲压，并且比冲压区域（129）更厚; 以及暴露于一定量的阳光的步骤，其特征在于，所述两个区域的各自的厚度被限定为使得所述两个区域吸收不同量的阳光，并且由曝光步骤提供的阳光量是预定的以便足够大以使得两个区域中的任何一个具有较大吸收的树脂，并且不会足够大以激活所述两个区域中的另一个。

84. 发明申请

WO2011025287A1 NANO PATTERN WRITER 审中-公开
公开(公告)号：WO2011025287A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/KR2010/005757
申请日：2010-08-27
申请人： KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION
发明人： LEE, Kwangyeol
IPC分类号： B82B3/00
CPC分类号： B81C99/0025 , Y10S977/887
摘要： A method for manufacturing a nano pattern writer includes forming one or more grooves on a first layer, depositing a substance on the first layer to form a film on the first layer, polishing the film on the first layer to thereby form a patterned film that fills the one or more grooves on the first layer, placing a second layer over the patterned film to thereby form a layered structure interposing the patterned film between the first layer and the second layer, and removing a part of the first layer and the second layer to thereby expose portions of the patterned film.
摘要翻译：一种制造纳米图案写入器的方法，包括在第一层上形成一个或多个凹槽，在第一层上沉积物质以在第一层上形成薄膜，在第一层上抛光薄膜，从而形成填充图案的薄膜在第一层上的一个或多个凹槽，在图案化膜上放置第二层，从而形成在第一层和第二层之间插入图案化膜的分层结构，并且将第一层和第二层的一部分去除从而暴露图案化膜的部分。

85. 发明申请

WO2009041646A1 光硬化性組成物、微細パターン形成体の製造方法および光学素子审中-公开
标题翻译：光学组合物，生产精细图案的方法和光学装置
公开(公告)号：WO2009041646A1
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/JP2008/067538
申请日：2008-09-26
申请人：旭硝子株式会社 , 海田由里子 , 坂本寛 , 山本博嗣
发明人：海田由里子 , 坂本寛 , 山本博嗣
IPC分类号： C08F220/26 , B29C59/02 , C08F2/44 , C08F292/00 , G02B5/30 , H01L21/027
CPC分类号： C08F2/44 , C08F2/48 , C08F290/06 , C08F292/00 , C09D4/00 , G02B5/3058 , Y10S977/887 , Y10T428/24479
摘要：　モールドの微細パターンが高精細に転写された微細パターン形成体を効率よく製造しうる光硬化性組成物を提供する。　光硬化性単量体（Ａ）の１００質量部に対して、平均粒径２００ｎｍ以下のコロイド状シリカ（Ｂ）（固形分）の５～６０質量部、および光重合開始剤（Ｃ）の０．１～１０質量部を含む光硬化性組成物であり、光硬化性単量体（Ａ）は、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性単量体（Ａ１）と１分子中に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する２官能性単量体（Ａ２）とを含み、多官能性単量体（Ａ１）または２官能性単量体（Ａ２）に属する化合物の少なくとも一部は水酸基を有し、多官能性単量体（Ａ１）と２官能性単量体（Ａ２）の合計量（ｍｏｌ）に対する水酸基の総量（ｍｏｌ）の割合が１０％以上であることを特徴とする光硬化性組成物。
摘要翻译：公开了一种光固化性组合物，其能够高效地制造高精度地转印模具的精细图案的精细图案体。具体公开的是光固化性组合物，其含有平均粒径为200nm以下的胶体状二氧化硅（B）的5-60质量份（以固体成分计）和光聚合引发剂的0.1〜10质量份 C）相对于100质量份的光固化性单体（A）。该光固化性组合物的特征在于，光固化性单体（A）含有分子中具有3个以上（甲基）丙烯酰氧基的多官能单体（A1）和分子中具有两个（甲基）丙烯酰氧基的双官能单体（A2）。光固化性组合物的特征还在于，属于多官能单体（A1）或双官能单体（A2）的化合物的至少一部分具有羟基，羟基的量（mol）相对于总量多官能单体（A1）和双官能单体（A2）的摩尔数（mol）为10％以上。

86. 发明申请

WO2007053202A2 SYSTEMS AND METHODS FOR NANOMATERIAL TRANSFER 审中-公开
标题翻译：用于纳米转移的系统和方法
公开(公告)号：WO2007053202A2
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/US2006/023391
申请日：2006-06-16
申请人： GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION , GRAHAM, Samuel , KING, William , WONG, Ching-Ping
发明人： GRAHAM, Samuel , KING, William , WONG, Ching-Ping
CPC分类号： G03F7/0002 , B81C1/00031 , B81C2201/0185 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , Y10S977/707 , Y10S977/887
摘要： Systems and methods of nanomaterial transfer are described. A method of nanomaterial transfer involving fabricating a template and synthesizing nanoparticles on the template. Subsequently, the nanoparticles are transferred to a substrate by pressing the template onto the substrate. In some embodiments, the step of transferring the nanoparticles involves pressing the template onto the substrate such that the nanoparticles are embedded below a surface layer of the substrate. In some embodiments, the temperature of the plurality of nanoparticles is raised to assist the transfer of the nanoparticles to the substrate.
摘要翻译：描述纳米材料转移的系统和方法。涉及制造模板并在模板上合成纳米颗粒的纳米材料转移方法。随后，通过将模板压制到基底上将纳米颗粒转移到基底上。在一些实施方案中，转移纳米颗粒的步骤包括将模板压在衬底上，使得纳米颗粒嵌入衬底的表面层下面。在一些实施方案中，提高多个纳米颗粒的温度以帮助将纳米颗粒转移到基底。

87. 发明申请

WO2004086471A1 UV NANOIMPRINT LITHOGRAPHY PROCESS USING ELEMENTWISE EMBOSSED STAMP AND SELECTIVELY ADDITIVE PRESSURIZATION 审中-公开
标题翻译： UV NANOIMPRINT LITHOGRAPHY PROCESS WITH ELEMENTWISE COMPAMPED STAMP AND SELECTION AND ADDITIVE PRESSURIZATION
公开(公告)号：WO2004086471A1
公开(公告)日：2004-10-07
申请号：PCT/KR2003/001210
申请日：2003-06-19
申请人： KOREA INSTITUTE OF MACHINERY & MATERIALS
发明人： JEONG, Jun-Ho , SOHN, HyonKee , SIM, Young-Suk , SHIN, Young-Jae , LEE, Eung-Sug , WHANG, Kyung-Hyun
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01L21/0273 , Y10S977/887 , Y10S977/888
摘要： A UV nanoimprint lithography process for forming nanostructures on a substrate. The process includes depositing a resist on a substrate; contacting a stamp having formed thereon nanostructures at areas corresponding to where nanostructures on the substrate are to be formed to an upper surface of the resist, and applying a predetermined pressure to the stamp in a direction toward the substrate, the contacting and applying being performed at room temperature and at low pressure; irradiating ultraviolet rays onto the resist; separating the stamp from the resist; and etching an upper surface of the substrate on which the resist is deposited. The stamp is an elementwise embossed stamp that consists of at least two element stamps, and grooves formed between adjacent stamps having a depth that is greater than a depth of the nanostructures formed on the element stamps.
摘要翻译：用于在衬底上形成纳米结构的UV纳米压印光刻工艺。该方法包括在衬底上沉积抗蚀剂; 使在其上形成有纳米结构的区域上的在其上形成有纳米结构的区域上形成有纳米结构的印模与抗蚀剂的上表面接触，并且在朝向基板的方向上向印模施加预定压力，接触和施加在室温和低压; 将紫外线照射到抗蚀剂上; 将印模与抗蚀剂分开; 并蚀刻沉积有抗蚀剂的基板的上表面。印模是由至少两个元件印章组成的元素压纹印模，以及形成在相邻印模之间的凹槽，其深度大于在元件印章上形成的纳米结构的深度。

88. 发明申请

WO2004022338A3 PRINTING METHOD USING RUBBER STAMP 审中-公开
标题翻译：使用橡胶印章的印刷方法
公开(公告)号：WO2004022338A3
公开(公告)日：2004-07-01
申请号：PCT/IB0303834
申请日：2003-08-28
申请人： IBM , BIETSCH ALEXANDER , DELAMARCHE EMMANUEL , MICHEL BRUNO , SCHMID HEINZ , WOLF HEIKO
发明人： BIETSCH ALEXANDER , DELAMARCHE EMMANUEL , MICHEL BRUNO , SCHMID HEINZ , WOLF HEIKO
IPC分类号： B01J19/00 , B01L99/00 , B41K1/30 , B41M3/00 , C40B30/08 , C40B40/18 , C40B60/14 , G01N35/10 , H05K3/12 , B41K3/02 , B41K3/04 , B41K3/12 , B41K3/18 , G01N1/34 , G01N1/40
CPC分类号： B01J19/0093 , B01J2219/00382 , B01J2219/00527 , B01J2219/0072 , B01J2219/0074 , B01J2219/00745 , B01J2219/00747 , B01J2219/00783 , B01J2219/00833 , B01L3/0293 , B01L2300/0819 , B41K1/30 , B41M3/006 , C40B30/08 , C40B40/18 , C40B60/14 , G01N35/1002 , G01N2035/1034 , H05K3/12 , Y10S977/887
摘要： A method for transferring a pattern from an elastic stamp to a substrate in the presence of a third medium is described. A proximity contact is achieved between the stamp and the substrate. A layer of the third medium between the stamp and the substrate is controlled to a predetermined thickness. Stamps for carrying out this method are also described.
摘要翻译：描述了在存在第三介质的情况下将图案从弹性印模转移到基板的方法。在印模和基板之间实现接近接触。将印模和基板之间的第三介质层控制到预定厚度。还描述了用于执行该方法的邮票。

89. 发明申请

WO2002073314A1 METHOD OF FABRICATING NANOMETER-SCALE FLOWCHANNELS AND TRENCHES WITH SELF-ALIGNED ELECTRODES AND STRUCTURES FORMED BY THE SAME 审中-公开
标题翻译：用自对准电极制造的纳米尺度流通道和结构的方法及其形成的结构
公开(公告)号：WO2002073314A1
公开(公告)日：2002-09-19
申请号：PCT/US2002/007484
申请日：2002-03-12
申请人： CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY , SCHERER, Axel
发明人： SCHERER, Axel
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B81C1/00404 , B81C2201/0132 , G03F7/16 , Y10S977/72 , Y10S977/742 , Y10S977/887
摘要： The invention is directed to a method of fabricating sub-wavelength features in semiconductors and insulators by starting with optical lithography patterns defined in a resist and then employing shadow-evaporation and directional etching to define nanoscale features. The directionality of this process is used together with a carefully defined photoresist mask to define an ion etching mask which allows the formation of very narrow trenches adjacent to the photoresist regions. Such narrow trenches can be used for electrical device isolation, for the definition of very small flow channels, and for the deposition of very narrow electrical contacts and wires.
摘要翻译：本发明涉及一种在半导体和绝缘体中制造亚波长特征的方法，其方法是从抗蚀剂中定义的光刻图案开始，然后采用阴影蒸发和定向蚀刻来定义纳米尺度特征。该方法的方向性与精心限定的光致抗蚀剂掩模一起使用以限定离子蚀刻掩模，其允许形成与光致抗蚀剂区域相邻的非常窄的沟槽。这种窄沟槽可以用于电气设备隔离，用于定义非常小的流动通道，以及用于沉积非常窄的电触点和电线。

90. 发明申请

WO2002067055A2 TEMPLATE FOR ROOM TEMPERATURE, LOW PRESSURE MICRO- AND NANO-IMPRINT LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：室温，低压微米和纳米印刷光刻的模板
公开(公告)号：WO2002067055A2
公开(公告)日：2002-08-29
申请号：PCT/US2001/042688
申请日：2001-10-12
申请人： BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM
发明人： CHOI, Byung, Jin , SREENIVASAN, S., V. , BAILEY, Todd , COLBURN, Matthew , WILLSON, C., Grant , EKERDT, John
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G11B5/855 , B29C35/0888 , B29C37/0053 , B29C43/003 , B29C2035/0827 , B29C2043/025 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/00 , Y10S977/887
摘要： Described are imprint lithography templates, methods of forming and using the templates, and a template holder device. An imprint lithography template may include a body with a plurality of recesses on a surface of the body. The body may be of a material that is substantially transparent to activating light. At least a portion of the plurality of recesses may define features having a feature size less than about 250 nm. A template may be formed by obtaining a material that is substantially transparent to activating light and forming a plurality or recesses on a surface of the template. In some embodiments, a template may further include at least one alignment mark. In some embodiments, a template may further include a gap sensing area. An imprint lithography template may be used to form an imprinted layer in a light curable liquid disposed on a substrate. During use, the template may be disposed within a template holder. The template holder may include a body with an opening configured to receive the template, a support plate, and at least one piezo actuator coupled to the body. The piezo actuator may be configured to alter a physical dimension of the template during use.
摘要翻译：描述了压印光刻模板，形成和使用模板的方法以及模板保持器装置。压印光刻模板可以包括在主体的表面上具有多个凹部的主体。身体可以是对激活光基本上透明的材料。多个凹陷的至少一部分可限定具有小于约250nm的特征尺寸的特征。可以通过获得对激活光基本上透明并且在模板的表面上形成多个或凹陷的材料来形成模板。在一些实施例中，模板可以进一步包括至少一个对准标记。在一些实施例中，模板可以进一步包括间隙感测区域。压印光刻模板可以用于在设置在衬底上的光可固化液体中形成压印层。在使用期间，模板可以放置在模板保持器内。模板保持器可以包括具有被配置为接收模板的开口的主体，支撑板以及耦合到主体的至少一个压电致动器。压电致动器可以配置为在使用期间改变模板的物理尺寸。

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