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1. 发明申请

WO9728079A3 METHOD AND DEVICE FOR YARN FUSION 审中-公开
标题翻译：用于纱线熔融的方法和装置
公开(公告)号：WO9728079A3
公开(公告)日：1997-10-16
申请号：PCT/US9702494
申请日：1997-01-21
申请人： DU PONT , DU PONT TORAY CO LTD , TORAY ENG CO LTD , ICHIKAWA IRON WORKS CO , MARUYAMA TETSUO , WAKISAKA SATOSHI , NAGATA MITSUTOSHI , NOJIRI AKIRA , AOYAMA HIROSHI , ICHIKAWA HIROSHI
发明人： MARUYAMA TETSUO , WAKISAKA SATOSHI , NAGATA MITSUTOSHI , NOJIRI AKIRA , AOYAMA HIROSHI , ICHIKAWA HIROSHI
IPC分类号： B65H54/71 , B29C65/02 , B29L31/00 , B65H69/08 , D02J1/22 , B65H69/06
CPC分类号： B65H69/08 , B65H2701/319
摘要： A method and apparatus for bonding yarns in a process for feeding yarn from wound packages to a yarn-processing machine. The operation includes the following parts: releasing unit (1) which can release the yarns at a prescribed speed; support unit (2) which supports the yarns in a state in which a projection of the second yarn crosses the first yarn thermal fusing unit (3) which presses the yarns into contact and heats and fuses the crossed portion of the yarns; and storage unit (4) which stores a prescribed amount of yarn continuously feeding yarn to the processing machine while the yarn bonding operation is performed.

2. 发明专利

TWI635136B 聚醯亞胺膜有权
简体标题：聚酰亚胺膜
公开(公告)号：TWI635136B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：TW103121966
申请日：2014-06-25
申请人：東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：秋山聰 , AKIYAMA, SATOSHI , 戶井田紀子 , TOIDA, NORIKO , 大場大史 , OHBA, FUTOSHI
IPC分类号： C08L79/08 , C08J5/18 , B32B15/088 , B29C65/02 , B29C71/02 , H05K1/03 , H05K3/38

3. 发明专利

TW201817784A 聚醯亞胺膜审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜
公开(公告)号：TW201817784A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106132181
申请日：2017-09-20
申请人：東麗‧杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：小路弘晃 , SHOJI, HIROAKI , 我妻亮作 , WAGATSUMA, RYOUSAKU , 大場大史 , OHBA, FUTOSHI
IPC分类号： C08J5/18 , B32B15/088 , C08G73/10
摘要：本發明提供一種具有尺寸變化之差異較小等特性之聚醯亞胺膜。於聚醯亞胺膜中，將膜之搬送方向(MD)之線膨脹係數αMD及寬度方向(TD)之線膨脹係數αTD之兩者設為7 ppm/℃以下，且將測定超音波脈衝之傳播速度V時由下述式所表示之各向異性指數AI值在整個寬度內設為15以下。 AI＝(VMAX^2－VMIN^2)/(VMAX^2＋VMIN^2) (式中，VMAX^2表示脈衝傳播速度之最大值之平方，VMIN^2表示脈衝傳播速度之最小值之平方)
简体摘要：本发明提供一种具有尺寸变化之差异较小等特性之聚酰亚胺膜。于聚酰亚胺膜中，将膜之搬送方向(MD)之线膨胀系数αMD及宽度方向(TD)之线膨胀系数αTD之两者设为7 ppm/℃以下，且将测定超音波脉冲之传播速度V时由下述式所表示之各向异性指数AI值在整个宽度内设为15以下。 AI＝(VMAX^2－VMIN^2)/(VMAX^2＋VMIN^2) (式中，VMAX^2表示脉冲传播速度之最大值之平方，VMIN^2表示脉冲传播速度之最小值之平方)

4. 发明专利

TW201506060A 聚醯亞胺膜审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜
公开(公告)号：TW201506060A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103121965
申请日：2014-06-25
申请人：東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：安田巨文 , YASUDA, NAOFUMI , 澤崎孔一 , SAWASAKI, KOUICHI , 八並裕治 , YATSUNAMI, YUJI
IPC分类号： C08G73/10 , C08J5/18 , H01L23/14 , H05K1/03
摘要：本發明提供一種尺寸穩定性優異，適合微間距電路用基板、尤其是窄間距地配線於膜寬度方向之COF(Chip on Film)用之聚醯亞胺膜及以其為基材之覆銅積層體。本發明之聚醯亞胺膜之特徵在於：其係使用含有對苯二胺之芳香族二胺成分與酸酐成分而獲得者，且使用島津製作所製造之TMA-50，於測定溫度範圍：50~200℃、升溫速度：10℃/分鐘之條件下測得之膜之機械搬送方向(MD)之熱膨脹係數αMD處於2.0ppm/℃以上且未達10.0ppm/℃之範圍內，寬度方向(TD)之熱膨脹係數αTD處於-2.0ppm/℃以上且3.5ppm/℃以下之範圍內，且滿足| αMD |≧| αTD |×2.0之關係。
简体摘要：本发明提供一种尺寸稳定性优异，适合微间距电路用基板、尤其是窄间距地配线于膜宽度方向之COF(Chip on Film)用之聚酰亚胺膜及以其为基材之覆铜积层体。本发明之聚酰亚胺膜之特征在于：其系使用含有对苯二胺之芳香族二胺成分与酸酐成分而获得者，且使用岛津制作所制造之TMA-50，于测定温度范围：50~200℃、升温速度：10℃/分钟之条件下测得之膜之机械搬送方向(MD)之热膨胀系数αMD处于2.0ppm/℃以上且未达10.0ppm/℃之范围内，宽度方向(TD)之热膨胀系数αTD处于-2.0ppm/℃以上且3.5ppm/℃以下之范围内，且满足| αMD |≧| αTD |×2.0之关系。

5. 发明专利

TW201839054A 聚醯亞胺膜审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜
公开(公告)号：TW201839054A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107108047
申请日：2018-03-09
申请人：日商東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：小倉幹弘 , OGURA, MIKIHIRO , 我妻亮作 , WAGATSUMA, RYOUSAKU , 平松直比古 , HIRAMATSU, NAOHIKO
IPC分类号： C08L79/08 , H05K1/03
摘要：本發明提供一種可用於雙面銅箔積層板等之新穎之聚醯亞胺膜。本發明之第1態樣之含有無機粒子之聚醯亞胺膜中，於將膜之一面a中之高度0.8 μm以上之突起之比率設為A個/100 cm2，將膜之另一面b中之高度0.8 μm以上之突起之比率設為B個/100 cm2時，將A及B均設為10個以下。本發明之第2態樣之含有無機粒子之聚醯亞胺膜中，可將上述A與B之差之絕對值設為2以上。
简体摘要：本发明提供一种可用于双面铜箔积层板等之新颖之聚酰亚胺膜。本发明之第1态样之含有无机粒子之聚酰亚胺膜中，于将膜之一面a中之高度0.8 μm以上之突起之比率设为A个/100 cm2，将膜之另一面b中之高度0.8 μm以上之突起之比率设为B个/100 cm2时，将A及B均设为10个以下。本发明之第2态样之含有无机粒子之聚酰亚胺膜中，可将上述A与B之差之绝对值设为2以上。

6. 发明专利

TWI628068B 聚醯亞胺膜有权
简体标题：聚酰亚胺膜
公开(公告)号：TWI628068B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW103106012
申请日：2009-11-24
申请人：東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：澤崎孔一 , SAWASAKI, KOUICHI , 小國昌宏 , OGUNI, MASAHIRO
IPC分类号： B29C55/12 , B32B33/00 , C08G73/10 , C08J5/18 , B29K79/00 , B29L7/00

7. 发明专利

TW201605976A 聚醯亞胺膜审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜
公开(公告)号：TW201605976A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104117037
申请日：2015-05-27
申请人：東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：安田巨文 , YASUDA, NAOFUMI , 山下伸介 , YAMASHITA, SHINSUKE , 八並裕治 , YATSUNAMI, YUJI , 小倉幹弘 , OGURA, MIKIHIRO
IPC分类号： C08L79/08 , C08G73/10 , C08J5/18 , B32B15/088 , B32B17/10 , B32B27/34 , H01L23/12 , H05K1/03
摘要：本發明之目的在於獲得一種聚醯亞胺膜，其膜之尺寸變化減小，且MD與TD之熱膨脹係數差較小而為等向性，較佳用於半導體封裝用途、半導體製程用途、顯示器用途、太陽電池基板、微間距電路用基板等要求尺寸穩定性之用途。本發明之聚醯亞胺膜之特徵在於：其係使用包含對苯二胺之芳香族二胺成分及酸酐成分而獲得者，使用島津製作所製造之TMA-50，於測定溫度範圍為50~200℃、升溫速度為10℃/分鐘之條件下測定的膜之機械搬送方向(MD)之熱膨脹係數αMD及寬度方向(TD)之熱膨脹係數αTD二者均於0ppm/℃以上且未達7.0ppm/℃之範圍，且滿足｜αMD-αTD｜
简体摘要：本发明之目的在于获得一种聚酰亚胺膜，其膜之尺寸变化减小，且MD与TD之热膨胀系数差较小而为等向性，较佳用于半导体封装用途、半导体制程用途、显示器用途、太阳电池基板、微间距电路用基板等要求尺寸稳定性之用途。本发明之聚酰亚胺膜之特征在于：其系使用包含对苯二胺之芳香族二胺成分及酸酐成分而获得者，使用岛津制作所制造之TMA-50，于测定温度范围为50~200℃、升温速度为10℃/分钟之条件下测定的膜之机械搬送方向(MD)之热膨胀系数αMD及宽度方向(TD)之热膨胀系数αTD二者均于0ppm/℃以上且未达7.0ppm/℃之范围，且满足｜αMD-αTD｜<3之关系。

8. 发明专利

TWI512022B 熱處理聚醯亞胺膜片、其膜片輥以及熱處理聚醯亞胺膜片之製造方法有权
简体标题：热处理聚酰亚胺膜片、其膜片辊以及热处理聚酰亚胺膜片之制造方法
公开(公告)号：TWI512022B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW101100758
申请日：2012-01-09
申请人：東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：末廣盛嗣 , SUEHIRO, SEIJI , 澤崎孔一 , SAWASAKI, KOUICHI
IPC分类号： C08J5/18 , C08G73/10

9. 发明专利

TW201510080A 聚醯亞胺膜审中-公开
简体标题：聚酰亚胺膜
公开(公告)号：TW201510080A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103121966
申请日：2014-06-25
申请人：東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：秋山聰 , AKIYAMA, SATOSHI , 戶井田紀子 , TOIDA, NORIKO , 大場大史 , OHBA, FUTOSHI
IPC分类号： C08L79/08 , C08J5/18 , B32B15/088 , B29C65/02 , B29C71/02 , H05K1/03 , H05K3/38
摘要：本發明提供一種可抑制對角線方向之尺寸變化之產生之接著膜、及貼合金屬箔而獲得之軟性金屬積層板。本發明係一種聚醯亞胺膜，其特徵在於：製膜寬度為1m以上，且對以膜之機械搬送方向(MD)作為基準，膜之配向角度(θ)為45°與135°下之超音波脈衝之傳播速度V測定時的式1所表示之各向異性指數(Anisotoropy Index：AI)涵蓋全寬為12以下，於全寬上對角線(45°、135°)方向之軟性金屬積層板之蝕刻處理前後之對角線方向之尺寸變化率均為-0.05~0.05%，且於至少單面具有厚度為0.5~20μm之熱塑性聚醯亞胺層。 AI(45、135)=|(V45ˆ2-V135ˆ2)/((V45ˆ2+V135ˆ2)/2)×100 | (式1)
简体摘要：本发明提供一种可抑制对角线方向之尺寸变化之产生之接着膜、及贴合金属箔而获得之软性金属积层板。本发明系一种聚酰亚胺膜，其特征在于：制膜宽度为1m以上，且对以膜之机械搬送方向(MD)作为基准，膜之配向角度(θ)为45°与135°下之超音波脉冲之传播速度V测定时的式1所表示之各向异性指数(Anisotoropy Index：AI)涵盖全宽为12以下，于全宽上对角线(45°、135°)方向之软性金属积层板之蚀刻处理前后之对角线方向之尺寸变化率均为-0.05~0.05%，且于至少单面具有厚度为0.5~20μm之热塑性聚酰亚胺层。 AI(45、135)=|(V45ˆ2-V135ˆ2)/((V45ˆ2+V135ˆ2)/2)×100 | (式1)

10. 发明专利

TW201439158A 聚醯亞胺薄膜、及其製造方法审中-公开
简体标题：聚酰亚胺薄膜、及其制造方法
公开(公告)号：TW201439158A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103107620
申请日：2014-03-06
申请人：東麗杜邦股份有限公司 , DU PONT-TORAY CO., LTD.
发明人：我妻亮作 , WAGATSUMA, RYOUSAKU , 秋山聰 , AKIYAMA, SATOSHI , 中矢智孝 , NAKAYA, TOMOTAKA
IPC分类号： C08J5/18 , C08L79/08
摘要：課題在於提供一種不易發生製膜中的薄膜破損或流動皺摺等問題且薄膜厚度為8.0μm以下的薄型聚醯亞胺薄膜及其製造方法。解決手段為一種聚醯亞胺薄膜，其中薄膜之撕裂傳遞阻力(tear propagation resistance)值為1.7N/mm以上，且薄膜之超音波傳遞速度的最小值為2.0km/秒以上，薄膜厚度為8.0μm以下。
简体摘要：课题在于提供一种不易发生制膜中的薄膜破损或流动皱折等问题且薄膜厚度为8.0μm以下的薄型聚酰亚胺薄膜及其制造方法。解决手段为一种聚酰亚胺薄膜，其中薄膜之撕裂传递阻力(tear propagation resistance)值为1.7N/mm以上，且薄膜之超音波传递速度的最小值为2.0km/秒以上，薄膜厚度为8.0μm以下。

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