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1. 发明专利

TW201727073A 真空泵之判斷系統及真空泵审中-公开
简体标题：真空泵之判断系统及真空泵
公开(公告)号：TW201727073A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105134243
申请日：2016-10-24
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：高橋克典 , TAKAHASHI, KATSUNORI
IPC分类号： F04B49/06 , F04B37/14 , F04C28/28 , G05B23/02
CPC分类号： F04B37/16 , F04B51/00
摘要：本發明之課題在於提供一種於事前判斷真空泵將發生之異常之真空泵之判斷系統，及包含該判斷系統之真空泵。本發明之實施形態1之包含判斷系統之真空泵(乾式泵)係設為於未進行處理之狀態時，自配設於該真空泵之處理裝置側，使該處理裝置所規定之處理氣體以外之異常測定用氣體(判斷用氣體)流通以通常流通量以上之量之構成。且，使各種參數增大(放大)而顯示，藉此可更正確地事前判斷異常。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种于事前判断真空泵将发生之异常之真空泵之判断系统，及包含该判断系统之真空泵。本发明之实施形态1之包含判断系统之真空泵(干式泵)系设为于未进行处理之状态时，自配设于该真空泵之处理设备侧，使该处理设备所规定之处理气体以外之异常测定用气体(判断用气体)流通以通常流通量以上之量之构成。且，使各种参数增大(放大)而显示，借此可更正确地事前判断异常。

2. 发明专利

TW201346142A 排氣泵沉積物之檢測裝置及排氣泵审中-公开
简体标题：排气泵沉积物之检测设备及排气泵
公开(公告)号：TW201346142A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102114288
申请日：2013-04-22
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：榎本良弘 , ENOMOTO, YOSHIHIRO
IPC分类号： F04D19/04 , F04B49/10 , F04D27/00 , F04B51/00
CPC分类号： F01N11/00 , F01N2550/00 , F04C25/02 , F04C28/28 , F04C2220/30 , F04C2270/86 , F04C2280/02 , F04D19/042 , F04D27/001 , F05D2260/607 , H02P29/027
摘要：本發明係提供一種不產生使氣體流動之設備之設置、或裝置之操作模式之追加、變更等之負擔便可容易地實施之排氣泵沉積物之檢測裝置。本發明之排氣泵沉積物之檢測裝置包括：機構52，其檢測將旋轉體旋轉驅動的馬達之馬達電流值；電流值記憶部103，其僅記憶經檢測之馬達電流值中設定值以上之馬達電流值；平均值計算部104，其計算所記憶之馬達電流值之每單位時間之平均值；平均值記憶部105，其記憶經計算之平均值；近似線算出部106，其將所記憶之平均值以時間序列排列，且對該平均值求出一次近似線；及差分值算出部108，其求出使用一次近似線算出之預測馬達電流值與排氣泵之使用開始時之初始馬達電流值之差分值；且以將上述差分值超過預先設定之閾值之時刻判定為排氣泵之維護時期之方式構成。
简体摘要：本发明系提供一种不产生使气体流动之设备之设置、或设备之操作模式之追加、变更等之负担便可容易地实施之排气泵沉积物之检测设备。本发明之排气泵沉积物之检测设备包括：机构52，其检测将旋转体旋转驱动的马达之马达电流值；电流值记忆部103，其仅记忆经检测之马达电流值中设置值以上之马达电流值；平均值计算部104，其计算所记忆之马达电流值之每单位时间之平均值；平均值记忆部105，其记忆经计算之平均值；近似线算出部106，其将所记忆之平均值以时间串行排列，且对该平均值求出一次近似线；及差分值算出部108，其求出使用一次近似线算出之预测马达电流值与排气泵之使用开始时之初始马达电流值之差分值；且以将上述差分值超过预先设置之阈值之时刻判定为排气泵之维护时期之方式构成。

3. 发明专利

TWI699485B 真空泵及用於該真空泵之可撓性蓋及轉子有权
简体标题：真空泵及用于该真空泵之可挠性盖及转子
公开(公告)号：TWI699485B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW105142183
申请日：2016-12-20
申请人：日商埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：川西伸治 , KAWANISHI, SHINJI , 坂口祐幸 , SAKAGUCHI, YOSHIYUKI , 三枝健吾 , SAEGUSA, KENGO
IPC分类号： F04D19/04 , F16C32/04

4. 发明专利

TW201837317A 真空泵及使用於其之葉片零件及轉子、以及固定之葉片审中-公开
简体标题：真空泵及使用于其之叶片零件及转子、以及固定之叶片
公开(公告)号：TW201837317A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107109875
申请日：2018-03-22
申请人：日商埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：野中学 , NONAKA, MANABU , 江野澤秀樹 , ENOSAWA, HIDEKI
IPC分类号： F04D19/04
摘要：本發明提供一種較佳之真空泵及使用於其之葉片零件及轉子、以及固定之葉片，其不會損害真空泵之氣體分子排氣性能，可有效防止粒子自真空泵向真空腔室逆流，防止因逆流之粒子對真空腔室內造繩污染。真空泵於吸氣口至排氣口之間，具有作為將氣體分子排氣之機構發揮功能之複數個排氣段PT，且於複數個排氣段PT中最上段排氣段PT(PT1)至吸氣口之間，具備葉片NB作為於氣體分子之排氣方向移送粒子之粒子移送段，該葉片NB與構成最上段排氣段PT1之旋轉葉片7(71、75)一起旋轉，且其片數少於構成最上段排氣段PT1之旋轉葉片7之片數。
简体摘要：本发明提供一种较佳之真空泵及使用于其之叶片零件及转子、以及固定之叶片，其不会损害真空泵之气体分子排气性能，可有效防止粒子自真空泵向真空腔室逆流，防止因逆流之粒子对真空腔室内造绳污染。真空泵于吸气口至排气口之间，具有作为将气体分子排气之机构发挥功能之复数个排气段PT，且于复数个排气段PT中最上段排气段PT(PT1)至吸气口之间，具备叶片NB作为于气体分子之排气方向移送粒子之粒子移送段，该叶片NB与构成最上段排气段PT1之旋转叶片7(71、75)一起旋转，且其片数少于构成最上段排气段PT1之旋转叶片7之片数。

5. 发明专利

TWI618860B 排氣泵沉積物之檢測裝置及排氣泵有权
简体标题：排气泵沉积物之检测设备及排气泵
公开(公告)号：TWI618860B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW102114288
申请日：2013-04-22
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：榎本良弘 , ENOMOTO, YOSHIHIRO
IPC分类号： F04D19/04 , F04B49/10 , F04D27/00 , F04B51/00
CPC分类号： F01N11/00 , F01N2550/00 , F04C25/02 , F04C28/28 , F04C2220/30 , F04C2270/86 , F04C2280/02 , F04D19/042 , F04D27/001 , F05D2260/607 , H02P29/027

6. 发明专利

TW201317460A 固定構件及真空泵审中-公开
简体标题：固定构件及真空泵
公开(公告)号：TW201317460A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW101140144
申请日：2012-10-30
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：坂口祐幸 , SAKAGUCHI, YOSHIYUKI , 奧寺智 , OKUDERA, SATOSHI
IPC分类号： F04D19/04
CPC分类号： F04D29/5853 , F04D19/04 , F04D19/042 , F04D29/023 , F04D29/522 , F04D29/541 , F05D2300/603
摘要： [課題]提供一種促進來自表面的熱輻射及朝相鄰接的構件的熱傳導的固定構件、及內含該固定構件的真空泵。[技術內容]以提高轉子部的放熱為目的，為了從螺紋溝隔片朝基座及固定翼隔片側有效率地將熱放出，對於螺紋溝隔片的預定的部分施加表面處理除去加工。詳細的話，將該基座及該固定翼隔片及螺紋溝隔片接觸的接觸部分的表面處理除去。且成為可將上述的表面處理除去加工及精整加工同時進行的構成。
简体摘要： [课题]提供一种促进来自表面的热辐射及朝相邻接的构件的热传导的固定构件、及内含该固定构件的真空泵。[技术内容]以提高转子部的放热为目的，为了从螺纹沟隔片朝基座及固定翼隔片侧有效率地将热放出，对于螺纹沟隔片的预定的部分施加表面处理除去加工。详细的话，将该基座及该固定翼隔片及螺纹沟隔片接触的接触部分的表面处理除去。且成为可将上述的表面处理除去加工及精整加工同时进行的构成。

7. 发明专利

TWI591936B 真空泵用ＩＰＭ馬達有权
简体标题：真空泵用ＩＰＭ马达
公开(公告)号：TWI591936B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW102117259
申请日：2013-05-15
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：中川功 , 野中學
IPC分类号： H02K1/27
CPC分类号： H02K1/276 , F04B37/14 , F04D19/042 , F04D25/0606 , H02K7/14 , H02K21/16 , H02K2201/06

8. 发明专利

TWI591258B 固定構件及真空泵有权
简体标题：固定构件及真空泵
公开(公告)号：TWI591258B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW101140144
申请日：2012-10-30
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：坂口祐幸 , SAKAGUCHI, YOSHIYUKI , 奧寺智 , OKUDERA, SATOSHI
IPC分类号： F04D19/04
CPC分类号： F04D29/5853 , F04D19/04 , F04D19/042 , F04D29/023 , F04D29/522 , F04D29/541 , F05D2300/603

9. 发明专利

TW201401727A 真空泵用ＩＰＭ馬達审中-公开
简体标题：真空泵用ＩＰＭ马达
公开(公告)号：TW201401727A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102117259
申请日：2013-05-15
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：中川功 , 野中學
IPC分类号： H02K1/27
CPC分类号： H02K1/276 , F04B37/14 , F04D19/042 , F04D25/0606 , H02K7/14 , H02K21/16 , H02K2201/06
摘要：本發明提供一種最適宜作為小型真空泵用馬達之真空泵用IPM馬達。該真空泵用IPM馬達具有：轉子鐵心，其被壓入真空泵之轉子軸，且供埋設有磁鐵；及定子鐵心，其包圍該轉子鐵心而配設，且捲繞定子繞組；將埋設於轉子鐵心之每一極之磁鐵分割成2片而分別插入至設置於該轉子鐵心之磁鐵插槽內，並且於插入該每1極之分割成2片之永久磁鐵之2個磁鐵插槽的兩端設置緩和應力集中用孔，進而將上述轉子鐵心設為於轉子軸之軸方向上、上下地積層之多段構成，使用緩和應力集中用孔對該上下地積層之轉子鐵心之偏斜角進行定位。
简体摘要：本发明提供一种最适宜作为小型真空泵用马达之真空泵用IPM马达。该真空泵用IPM马达具有：转子铁心，其被压入真空泵之转子轴，且供埋设有磁铁；及定子铁心，其包围该转子铁心而配设，且卷绕定子绕组；将埋设于转子铁心之每一极之磁铁分割成2片而分别插入至设置于该转子铁心之磁铁插槽内，并且于插入该每1极之分割成2片之永久磁铁之2个磁铁插槽的两端设置缓和应力集中用孔，进而将上述转子铁心设为于转子轴之轴方向上、上下地积层之多段构成，使用缓和应力集中用孔对该上下地积层之转子铁心之偏斜角进行定位。

10. 发明专利

TW201312055A 排氣燃燒裝置审中-公开
简体标题：排气燃烧设备
公开(公告)号：TW201312055A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101126959
申请日：2012-07-26
申请人：埃地沃茲日本有限公司 , EDWARDS JAPAN LIMITED
发明人：山田俊樹 , YAMADA, TOSHIKI , 鎌倉功 , KAMAKURA, ISAO
IPC分类号： F23D14/22 , F23D14/60
CPC分类号： F23D14/58 , F23C2201/20 , F23D14/22 , F23D14/26 , F23D14/48 , F23D23/00 , F23D2900/00016 , F23G5/32 , F23G5/48 , F23G7/065
摘要：本發明的課題，在於提供一種即使從複數個處理室將排氣導入並進行多燃燒器處理之情形時，經過長時間仍可以防止噴嘴前端阻塞發生，可長期維持運轉期間的排氣燃燒裝置。本發明之解決手段：由於從第2燃燒用噴嘴(47)所吐出之導引燃燒器火焰，是與相鄰之從第1燃燒用噴嘴(45)所吐出之主燃燒器火焰同為還原焰，所以在各排氣用噴嘴(43)的下部形成充分缺氧區域為還原區。排氣在此部分不會完全氧化，所以不會產生作為矽烷氣體之燃燒氧化物的二氧化矽，附著並阻塞於排氣用噴嘴(43)、第1燃燒用噴嘴(45)、以及第2燃燒用噴嘴(47)的前端部等。另一方面，從配置在還原區之下方的空氣供給用噴嘴(63)，供給完全燃燒所必須之充分量的空氣，在超過還原區的位置起可進行完全氧化。
简体摘要：本发明的课题，在于提供一种即使从复数个处理室将排气导入并进行多燃烧器处理之情形时，经过长时间仍可以防止喷嘴前端阻塞发生，可长期维持运转期间的排气燃烧设备。本发明之解决手段：由于从第2燃烧用喷嘴(47)所吐出之导引燃烧器火焰，是与相邻之从第1燃烧用喷嘴(45)所吐出之主燃烧器火焰同为还原焰，所以在各排气用喷嘴(43)的下部形成充分缺氧区域为还原区。排气在此部分不会完全氧化，所以不会产生作为硅烷气体之燃烧氧化物的二氧化硅，附着并阻塞于排气用喷嘴(43)、第1燃烧用喷嘴(45)、以及第2燃烧用喷嘴(47)的前端部等。另一方面，从配置在还原区之下方的空气供给用喷嘴(63)，供给完全燃烧所必须之充分量的空气，在超过还原区的位置起可进行完全氧化。

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